説明

発光装置の作製方法

【課題】 インクジェット方式による有機化合物層の形成を効率的に高速に処理することが可能な技術を提供することを目的とする。
【解決手段】 インクジェット方式による有機化合物層の形成方法において、インクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成物を吐出して、連続した有機化合物層を形成することを特徴としている。当該有機化合物層は、マトリクス状に配列した画素電極上に形成するものであり、複数の画素電極に渡って連続して有機化合物層を形成するものである。そして、この製造方法により有機発光素子を用いた発光装置を製造するものである。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、発光体として有機化合物を用いる発光装置の製造方法に関し、特にインクジェット方式を用いる発光装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
有機発光素子は、蛍光又は燐光が得られる有機化合物を含む薄膜を、陽極と陰極から成る一対の電極間に挟んだ構造をもって形成されている。その発光機構は、陰極から注入された電子と、陽極から注入された正孔が発光性物質を含む発光層で再結合して分子励起子を形成し、その分子励起子が基底状態に戻る時に光を放出する現象として捉えられている。光を放出する過程には、一重項状態からの発光(蛍光)と三重項状態からの発光(燐光)とがある。輝度は10V以下の印加電圧であっても数千〜数万cd/m2に及び、有機化合物材料やそのドーパントを適宜選択することにより青色から赤色までの発光が可能である。従って、原理的に見ても表示装置などへの応用が十分可能であると考えられている。
【0003】
有機化合物には高分子化合物、低分子化合物の両者について検討が進み、開発が成されているが、いずれも耐熱性が低いことからフォトリソグラフィー等のパターニング工程を適用することが困難である。インクジェット方式はその問題点を克服するために開発され、基板上に直接パターンを描画することで、フォトリソグラフィーによるパターニング工程を不要なものとしている。
【0004】
インクジェット方式に関しては、特開平10−012377号広報にアクティブマトリクス型有機EL表示体を製造する技術が開示されている。これは、薄膜トランジスタを有するガラス基板に画素電極が形成され、当該画素電極上に赤、緑、青の各色の発光層を画素毎にインクジェット方式で形成するものである。
【0005】
インクジェット方式で用いる有機化合物材料としては、シアノポリフェニレンビニレン、ポリフェニレンビニレンなどの前駆体、アロマティックジアアミン、オキシジアゾール、ジスチルアリーレン、トリフェニルアミン、ジスチリルなどの誘導体、キノリノール系金属、アゾメチン亜鉛、ポリフィリン亜鉛、ベンゾオキサゾール亜鉛、フェナントロリンユウピウムなどの錯体が知られている。
【0006】
上記有機化合物は溶媒に溶解又は分散させた状態(以下、これを組成物という)でインクジェット印刷装置のインクヘッドから滴下して、基板上に被膜を形成する。組成物の物性としては、粘度、表面張力、乾燥速度などが重要なパラメータとなる。また、再現性良く組成物を滴下するにはインクヘッドの幾何学的構造やその駆動条件が重要であり、吐出する組成物の量、方向、周期などがパラメータとなっている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
インクジェット方式において、組成物をインクヘッドから吐出させるには、圧電素子を用い、その振動を利用して組成物が充填された容器の容積を変化させて外部に組成物を吐出させる仕組みとなっている。
【0008】
インクヘッドから1回に吐出する組成物の量は10〜40plであり、粘度は1〜20cpが良いと考えられている。粘度が低い場合は所定の膜厚を得ることができず、被形成面に組成物が着弾した後流れ出して必要以上にパターンが広がってしまう等の問題が発生する。また、粘度が高すぎるとインクヘッドの吐出口から組成物を円滑に吐出できなくなったり、吐出する一滴の組成物の形状が糸を引いたようになり、着弾後に形状不良を発生させる等の問題がある。
【0009】
組成物における溶媒は、基板に滴下後に揮発するものが適している。しかし、常に連続して滴下していないと溶媒が揮発して、吐出口のところで固まってしまう。例えば、トルエンなど揮発性の高い溶媒を用いる場合は、特に注意が必要となる。吐出が連続している場合でも、吐出口の付近に固形物が次第に成長し、最悪の場合には吐出口を塞いでしまう。それに至らないにしても、吐出口付近にできる固形物は、吐出する組成物の方向を変化させ、着弾精度が著しく低下してしまう。さらに、吐出口の口径が小さくなることにより吐出する組成物の量が減少し、基板上に形成される有機化合物層の厚さが減少するという不良が発生する。
このような不具合を防止するために、従来のインクジェット方式では、固形物による目詰まりを防止するために、頻繁にインクヘッドをクリーニングする必要に駆られていた。
【0010】
本発明はこのような問題点を鑑みてなされたものであり、インクジェット方式による有機化合物層の形成を効率的に高速に処理することが可能な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
この問題点を解決するために本発明は、インクジェット方式による有機化合物層の形成方法において、インクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成物を吐出して、連続した有機化合物層を形成することを特徴としている。当該有機化合物層は、マトリクス状に配列した画素電極上に形成するものであり、複数の画素電極に渡って連続して有機化合物層を形成するものである。そして、この製造方法により有機発光素子を用いた発光装置を製造するものである。
【0012】
本発明は、有機発光素子をマトリクス状に配列させて画素部を形成する発光装置の製造方法に適用することができる。アクティブマトリクス駆動方式を採用するには、薄膜トランジスタを有する基板に画素電極を形成し、当該画素電極上層に、正孔注入層が形成し、この上層に、インクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成物を吐出して連続した有機化合物層を形成する。
【0013】
基板上の被形成面に吐出された組成物は、溶媒が揮発し固化することにより有機化合物層が形成される。しかし、表面張力により水玉状に組成物が付着すると均一な厚さの有機化合物層が得られないので、平滑化手段により平滑にする。平滑化手段としては、ノズルから気体を噴出して組成物を平滑にする。或いは、ヘラなどを用い、連速的に形成された組成物の表面をならして平滑化しても良い。
【0014】
噴出する気体として、窒素、アルゴンなどの不活性気体を用いると組成物の溶媒を揮発させることができ、また、酸化を防止することができる。或いは、吐出口の外周部に同心円状に開口部を設け、その開口部から気体を噴出することにより平滑化すると共に、吐出口において組成物が乾燥して固体化し、目詰まりするのを防ぐことができる。
【0015】
本発明において、インクジェット方式によりパターン形成する際に用いられる発光性を有する組成物は、有機発光材料又はその前駆体を溶媒に溶解又は分散させたものを用いる。例えば、昇華性を有さず、且つ分子数が20以下、又は連鎖する分子の長さが10μm以下の有機化合物(これを本明細書において、中分子化合物という)を用いることができる。
【0016】
その他に、インクジェット方式によりパターン形成する際に用いられる発光性を有する組成物の一例は、ポリパラフェニレンビニレン系、ポリパラフェニレン系、ポリチオフェン系、ポリフルオレン系などの高分子系化合物を含む組成物を適用することができる。当該組成物により作製される有機発光素子の発光色を変えるために、発光性を有する組成物に、その発光特性を変化させる蛍光色素が少なくとも一種含ませることでその目的を達成できる。
【0017】
従来のインクジェット方式では、インクヘッドの位置制御と、組成物の吐出との操作を繰り返し行うことで所定のパターンを形成するものであったが、1ドット毎に吐出する組成物を基板上で連続させ、線状又はストライプ状の有機化合物層を形成することにより、位置合わせに要する時間が短縮され、有機化合物層の形成が容易となり、処理時間を短縮することができる。
【0018】
特に、本発明は1枚の大面積基板から複数枚の表示用パネルを切り出す生産方式に適用する場合に適している。また、大面積基板に複数の画素領域が設けられている場合には、画素領域間の移動の間、混合物の吐出を瞬時に停止させることで、インクヘッドを大面積基板に対してより高速に移動させることができる。
【発明の効果】
【0019】
以上のように本発明によれば、1ドット毎に吐出する組成物を基板上で連続させ、線状又はストライプ状の有機化合物層を形成することにより、位置合わせに要する時間が短縮され、有機化合物層の形成が容易となり、処理時間を短縮することができる。
【0020】
特に、本発明は1枚の大面積基板から複数枚の表示用パネルを切り出す生産方式に適用する場合に適している。また、大面積基板に複数の画素領域が設けられている場合には、画素領域間の移動の間、混合物の吐出を瞬時に停止させることで、インクヘッドを大面積基板に対してより高速に移動させ、生産性を向上できるという有利な効果がある。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】本発明のインクジェット方式で有機化合物層を連続的に形成する概念を説明するための図。
【図2】インクジェット方式の印刷装置の構成を説明する図。
【図3】インクヘッドの構成の一例を説明する断面図。
【図4】インクヘッドの構成の一例を説明する断面図。
【図5】インクヘッドの構成の一例を説明する断面図。
【図6】連続的な有機化合物層を形成する過程を説明する図。
【図7】連続的な有機化合物層を形成する過程を説明する図。
【図8】マトリクス状に配列した各画素電極に対し、有機化合物層を連続的に形成する概念を説明する図。
【図9】マトリクス状に配列した各画素電極に対し、有機化合物層を連続的に形成する概念を説明する図。
【図10】本発明のインクジェット方式で有機化合物層を連続的に形成する概念を説明するための図。
【図11】ヘッド部における吐出口の配置を示す図。
【図12】インクジェット方式を用いた有機発光装置の作製工程を説明する断面図。
【図13】インクジェット方式を用いた有機発光装置の作製工程を説明する断面図。
【図14】有機発光素子を設ける画素の構成を説明する上面図。
【図15】有機発光素子を設けたの画素の構成を説明する断面図。
【図16】発光装置の封止構造に一例を示す断面図。
【図17】アクティブマトリクス駆動の発光装置の構成を示す上面図及び断面図。
【図18】パッシブマ型の発光装置の画素部の構成を説明する斜視図。
【図19】電子装置の一例を示す図。
【図20】電子装置の一例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【0022】
本発明の実施の形態について図1から図11を参照して説明する。図1は基板101上にデータ線駆動回路104が形成され、画素部102にインクジェット方式で有機化合物層を形成する段階を示している。画素部102にはストライプ状に隔壁105が設けられ、各隔壁の間に有機化合物層を形成する。隔壁105はインクジェット方式で有機化合物層を形成する際に、隣接する有機化合層が相互に混ざり合わないようにするために設けている。
【0023】
有機化合物層106は、インクヘッド107から発光性を有する有機化合物材料を含む組成物を吐出して形成する。組成物はインクヘッドから連続的に吐出させて、線状のパターンを形成する。有機化合物層の材料は特に限定されるものではないが、カラー表示を行うには赤、緑、青の各色を発光する有機化合物層106R、106G、106Bを設ける。
【0024】
インクジェット方式に適した高分子材料を用いた有機化合物層を形成する際には、単層のみの構成としても良いが、より発光効率を向上させるためには2層以上の積層構造が良い。代表的な積層構造は正孔輸送層と発光層とを積層させたものである。
【0025】
有機化合物層を形成する高分子系有機化合物としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリアルキルフェニレン、ポリアセチレン誘導体などの有機溶媒に可溶な物質を用いることができる。
【0026】
ポリパラフェニレンビニレン誘導体としては、ポリ(2,5−ジアルコキシ−1,4−フェニレンビニレン):RO−PPVを用いることができ、具体的にはポリ(2−メトキシ−5−(2−エチル−ヘキソキシ)−1,4−フェニレンビニレン):MEH−PPVやポリ(2,5−ジメチルオクチルシリル−1,4−フェニレンビニレン):DMOS−PPVといった材料を用いることができる。
【0027】
ポリパラフェニレン誘導体としては、ポリ(2,5−ジアルコキシ−1,4−フェニレン):RO−PPPを用いることができる。
【0028】
ポリチオフェン誘導体としては、ポリ(3−アルキルチオフェン):PATを用いることができ、具体的にはポリ(3−ヘキシルチオフェン):PHT、ポリ(3−シクロヘキシルチオフェン):PCHTといった材料を用いることができる。その他にもポリ(3−シクロヘキシル−4−メチルチオフェン):PCHMT、ポリ(3−[4−オクチルフェニル]−2,2’ビチオフェン):PTOPT、ポリ(3−(4オクチルフェニル)−チオフェン):POPT−1等を用いることもできる。
【0029】
ポリフルオレン誘導体としては、ポリ(ジアルキルフルオレン):PDAFを用いることができ、具体的にはポリ(ジオクチルフルオレン):PDOFといった材料を用いることができる。
【0030】
ポリアセチレン誘導体としては、ポリプロピルフェニルアセチレン:PPA−iPr、ポリブチルフェニルフェニルアセチレン:PDPA−nBu、ポリヘキシルフェニルアセチレン:PHPAといった材料を用いることができる。
【0031】
また、これらの高分子系有機化合物の溶媒としては、トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロホルム、テトラリン、キシレン、アニソール、ジクロロメタン、γブチルラクトン、ブチルセルソルブ、シクロヘキサン、NMP(N−メチル−2−ピロリドン)、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノン、ジオキサンまたは、THF(テトラヒドロフラン)等を用いることができる。
【0032】
また、正孔注入性の高分子化合物としてPEDOT(poly(3,4‐ethylene dioxythiophene))や、ポリアニリン(PA)を用いることもできる。なお、これらの材料は水溶性である。このPEDOTは塗布法によっても形成可能である。塗布法で形成した第1の有機化合物層(PEDOT)の上に、インクジェット方式で第2の有機化合物層を形成することもできる。
【0033】
その他にも、昇華性を有せず、且つ分子数が10以下、又は連鎖する分子の長さが5μm以下の有機化合物(これを中分子系有機化合物という)を用いることもできる。そのような材料の一例は、テトラキス(2−メルカプト−ヘンズオキサゾラト)タングステンなどが上げられる。高分子有機化合物材料を用いたインクジェット方式によるパターン形成では、滴下した混合物が糸を引いて線状になってしまうなどの問題点があるが、連鎖する分子数の少ない中分子系有機化合物ではそのような不具合が発生しない。また、高分子系有機化合物材料の混合物を形成する場合には、それを溶かす溶媒とインクヘッドを構成する部材との組み合わせを考慮する必要がある。実際にはインクヘッドを構成する部材を腐食しない溶媒を用いる必要がある。しかし、中分子系有機化合物では、水溶液に分散させて用いることも可能であり、そのような問題が発生しない。
【0034】
また、溶媒としては、トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロホルム、テトラリン、キシレン、ジクロロメタン、シクロヘキサン、NMP(N−メチル−2−ピロリドン)、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノン、ジオキサン、THF(テトラヒドロフラン)などを適用することができる。
【0035】
図2はインクジェット方式を用いた印刷装置の構成を示している。インクヘッド201から吐出される組成物は、基板上で連続した有機化合物のパターンが形成されるように、吐出する周期と基板の移動速度を調節する。インクヘッド201に隣接して、組成物(又は有機化合物)の平滑化手段として気体を噴出するノズル202が備えている。このノズルから噴出する気体により、基板上215上に吐出された組成物を平滑化するために用いている。また、吐出した組成物の着弾位置の精度を高めるために、インクヘッド201と基板215との間隔を1mm以下に近づける。これはインクヘッド201が上下に動く移動機構204とその制御手段203を設け、パターン形成時のみ基板215に近づけるようにする構成とする。
【0036】
その他の構成は、基板を固定しXYθ方向に可動し基板を真空チャック等の手法で固定する基板ステージ205、インクヘッド201に組成物を供給する手段206、ノズル202に気体を供給する手段207などから成っている。筐体210はインクヘッド201、基板ステージ205等を覆い、ガス供給手段208と筐体210内に設けられたシャワーヘッド209により、組成物の溶媒と同じ気体を供給して雰囲気を置換しておくと乾燥をある程度防止することができ、長時間印刷を続けることができる。その他付随する要素として、処理する基板を保持するカセット212、そのカセット212から搬出入させる搬送手段211、清浄な空気を送り出し作業領域の埃を低減するクリーンユニット213などを備えても良い。
【0037】
有機化合物層を形成するための組成物を吐出するインクヘッドは、パターンの精度を決める上で重要な役割を担う。図3はその構成に一例を示し、筐体301に圧電素子302が装着された弾性板303により一方の面が封止された圧力発生室304と、供給された組成物を一旦蓄えるリザーバー305などから成っている。圧力発生室304の一端には開口が形成され、そこから組成物を吐出する吐出口306を設けている。圧力発生室304を構成する弾性板303は、圧電素子302のたわみ変位により圧力発生室304の容積を変動させ混合物を吐出させる。平滑化手段として用いる開口308が形成されたノズル307は、気体を基板面に向かって噴出するものであり、インクヘッドの吐出口306の近傍に設けられている。
【0038】
図4はインクヘッド他の一例を示している。このインクヘッドの構成は、筐体401に圧電素子402、弾性板403、が設けられ、同様に混合物を連続的に吐出することができる。圧力発生室404に設けられる吐出口406には、その外周部に同心円状に開口408が設けられ、この開口408から気体を噴出することにより、平滑化することができる。また、気体として組成物の溶媒と同質のものを用いれば、吐出口406おいて組成物が乾燥して固体化するのを防ぐことができる。
【0039】
図5は組成物を圧縮気体を用いて押し出し、被形成面上に連続的に供給するインクヘッドの構成を示している。筐体501には組成物が流れる経路が形成され、途中にダイアフラムバルブ503が設けられ、吐出口513にはニードルバルブ502が設けられている。どちらも、組成物の供給を制御するためのものであるが、ニードルバルブ502は組成物の供給量と、供給の断続を瞬間的に行うために設けている。組成物は圧縮気体供給手段506を利用してリザーバー505から供給する。供給量は超音波を利用した検出器(超音波ヘッド504、検出回路507から成る)により検知し、その情報はA/Dコンバータ508を介して演算処理装置512に入力される。演算処理装置512はインターフェースを介して外部情報処理装置と信号の送受信をしたり、A/D又はD/Aコンバータ509〜511を介して各種バルブの制御を行う。このような構成によっても線状のパターンを形成することができる。
【0040】
インクヘッドに設けられる吐出口は一つでも良いが、より効率的に印刷を行うには複数の吐出口を設けても良い。例えば、一組の圧力発生室と吐出口を一対に対応させて設けても良いし、複数の吐出口に対し一組の圧力発生室を対応させても良い。
【0041】
図6は、基板上に被形成面600にインクヘッド601が組成物を吐出して線状の有機化合物層を形成する方法を段階的に示している。図6(A)は初期状態であり、被形成面600にパターンを形成するに当たっては、図6(B)に示すようにこのインクヘッド601及びノズル602が被形成面に近接し、組成物604の吐出を開始する。
【0042】
そして、図6(C)に示すように、インクヘッド601と被形成面600が相対的に動くことにより線状のパターン605が形成される。平滑化手段602から噴出する気体により、パターンは平滑化させることができる。所定の位置に達したインクヘッド601は組成物の吐出を止め(図6(D))、その後被形成面600から離れる(図6(E))。こうして、被形成面600上に所定の厚さの連続した有機化合物層のパターンを形成することができる。
【0043】
また、図7は、基板上に被形成面700にインクヘッド701が組成物を吐出して線状の有機化合物層を形成する他の方法を段階的に示している。図7(A)
は初期状態であり、被形成面700にパターンを形成するに当たっては、図7(B)に示すようにこのインクヘッド701が被形成面に近接し、組成物702の吐出が開始する。
【0044】
そして、図7(C)に示すように、インクヘッド701と被形成面700が相対的に動くことにより線状のパターン703が形成される。形成する有機化合物のパターンは、組成物の吐出量の他に、インクヘッド701と被形成面700との間隔をもって制御する。所定の位置に達したインクヘッド701は組成物の吐出を止め、その後被形成面700から離れる(図7(D))。こうして、被形成面700上に連続した有機化合物層のパターンを形成することができる。
【0045】
図8は有機化合物層801〜803が形成された画素部の一例を示している。
この画素部は、ゲート線804、データ線805、電源供給線806、画素電極811、半導体層809、810を有し、これらにより薄膜トランジスタ820、830が形成されている。画素電極811は薄膜トランジスタ830と接続している。そしてマトリクス状に配列して、全体として画素部を形成している。有機化合物層は図3又は図4で説明するインクヘッドを用いて形成され、一滴毎に吐出される組成物を画素電極上で連続させて、全体として線状の有機化合物層を形成している。
【0046】
図9は同様の構成の画素部に対し、図5で示すインクヘッドを用いて有機化合物層851〜853を形成した例を示している。この場合には、組成物が連続的に供給されるので、画素電極の上層に形成される有機化合物層も線状又はストライプ状に形成される。尚、これらの有機化合物層は、カラー表示をする場合には、赤、緑、青等に対応した色を発光する有機化合物層を形成すれば良い。
【0047】
図10は画素部に形成された画素列全てに対して一括で有機化合物を塗布する例を示している。ヘッド部20には画素列の本数と同じ数で吐出口が取り付けられている。このような構成とすることで一回の走査で全ての画素列に有機化合物層を形成することが可能となり、飛躍的にスループットが向上する。
【0048】
また、画素部を複数のゾーンに分けて、そのゾーンの中に含まれる画素列の本数と同じ数で吐出口を設けたヘッド部を用いても良い。即ち、画素部をn個のゾーンに分割したとすると、n回走査すれば全ての画素列に有機化合物層を形成することができる。
【0049】
実際には画素のサイズが数十μmと小さい場合もあるため、画素列の幅も数十μm程度となる場合がある。そのような場合、横一列に吐出口を並べることは困難となるため、吐出口の配置を工夫する必要がある。図11に示すのは、インクヘッドに対する吐出口の取り付け位置を変えた例である。図11(A)はインクヘッド51に斜めに位置をずらしながら吐出口52a〜52cを形成した例である。なお、52aは赤色発光層用組成物を塗布するための吐出口、52bは緑色発光層用組成物を塗布するための吐出口、52cは青色発光層用組成物を塗布するための吐出口である。また、矢印の1本1本は画素列に対応する。このような吐出口の配置とすることで、画素列のピッチが狭くなっても、隣接する吐出口が干渉し合うことなく有機化合物層を形成することができる。
【0050】
そして、53で示されるように吐出口52a〜52cを一つの単位とし、一つ乃至複数個の単位がヘッド部に設けられている。この単位53は、一つであれば3本の画素列に対して同時に組成物を塗布することになるし、n個あれば3n本の画素列に対して同時に組成物を塗布することになる。このような構成とすることで、吐出口の配置スペースの自由度が高められ、無理なく高精細な画素部に本発明を実施することが可能となる。また、図11(A)のインクヘッド51を用いて、画素部にある全ての画素列を一括で処理することもできるし、画素部を複数のゾーンに分割して数回に分けて処理することも可能である。
【0051】
次に、図11(B)に示すインクヘッド54は、図11(A)の変形であり、一つの単位55に含まれるノズルの数を増やした場合の例である。単位55の中には赤色発光層用組成物を塗布するための吐出口56a、緑色発光層用組成物を塗布するための吐出口56b、青色発光層用組成物を塗布するための吐出口56cが2個ずつ含まれ、一つの単位55によって合計6本の画素列に同時に有機化合物が塗布されることになる。
【0052】
本実施例では上記単位55が一つ乃至複数個だけ設けられ、単位55が、一つであれば6本の画素列に対して同時に組成物を塗布することになるし、n個あれば6n本の画素列に対して同時に組成物を塗布することになる。勿論、単位55の中に設けるノズル数は6個に限定する必要はなく、さらに複数設けることも可能である。このような構成の場合も図11(A)の場合と同様に、画素部にある全ての画素列を一括で処理することもできるし、画素部を複数のゾーンに分割して数回に分けて処理することが可能である。
【0053】
また、図11(C)のようなインクヘッド57を用いることもできる。インクヘッド57は三つの画素列分のスペースを空けて、赤色発光層用塗布液を塗布するための吐出口58a、緑色発光層用塗布液を塗布するための吐出口58b、青色発光層用塗布液を塗布するための吐出口58cが設けられている。このインクヘッド57をまず1回走査して画素列に組成物を塗布したら、次にインクヘッド57を三つの画素列分だけ右にずらして再び走査する。さらに、またインクヘッド57を三つの画素列分だけ右にずらして再び走査する。以上のように3回の走査を行うことで赤、緑、青の順に並んだストライプ状に組成物を塗布することができる。このような構成の場合も図11(A)の場合と同様に、画素部にある全ての画素列を一括で処理することもできるし、画素部を複数のゾーンに分割して数回に分けて処理することが可能である。
【0054】
このように本発明を用いることにより、組成物を連続的に吐出し、有機化合物層を連続して形成することにより、有機化合物層を印刷する際の位置制御の時間が短縮され、印刷速度を向上させることができる。
【実施例1】
【0055】
図12(A)に示すように、基板1200上に透明画素電極1201〜1204を40〜120μmピッチ、0.1μmの厚さで形成する。透明画素電極を形成する材料は、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、又はこれらの酸化物の混合物を用いる。
【0056】
次いで、図12(B)に示すようにこの透明画素電極のパターン間に樹脂材料から成る隔壁1205を形成する。この隔壁の厚さは1〜2μm、幅は20μmとし、透明画素電極の端部を覆うように形成する。この隔壁は、インクヘッドから吐出し着弾した組成物が流れ出して隣接する画素と混合しないようにするために設けるものである。
【0057】
次に、この透明画素電極(陽極)1201〜1204を有するガラス基板1200に対し、第1有機化合物層としてポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸)水溶液(以下、PEDOT/PSSと記す)をスピン塗布法により30nmに厚さに成膜する。このPEDOT/PSSは、正孔注入層106として作用する(図12(C))。
【0058】
その後、加熱処理により水分を蒸発させ、インクジェット印刷装置1207により、組成物を塗布し、厚さ0.05〜0.2μmの第2有機化合物層としての発光層を形成する。組成物としては、アセトニトリル溶液に溶解させたπ共役系配位子を有する金属キレート錯体を用いる。例えば、90μmピッチの画素に対して、粘度1〜20cp、約80μm径の組成物を吐出する。この組成物は、インクジェット吐出後、80〜120℃で加熱して溶媒を揮発させ、50〜150nmの発光層1208を形成する。この発光層1208は、実施の形態で説明した如く、吐出される組成物を重ね合わせ、線状又はストライプ状の層として形成する(図12(D))。
【0059】
陰極1209としてマグネシウム合金(例えば、AlMg)を真空蒸着法にて0.1〜0.2μmの厚さに成膜する。これにより発光装置が完成する(図12(E))。
【実施例2】
【0060】
図13は、本発明の製造方法を用いてインクジェット方式によりアクティブマトリクス駆動方式の発光装置を作製する一例を示している。図13(A)において、基板1300上に能動素子である薄膜トランジスタ1301〜1303が形成されている。薄膜トランジスタはチャネル形成領域やソース及びドレイン領域などを形成する半導体膜、ゲート電極、ゲート絶縁膜等から構成されている。薄膜トランジスタの構造はトップゲート型やボトムゲート型等それぞれ特色があるが、本発明に適用する場合その構造に限定はない。
【0061】
薄膜トランジスタのソース又はドレイン領域に接続する画素電極1304〜1306は、例えば65μmピッチ、0.1μmの厚さで形成する。このような狭いピッチでインクジェット方式により有機化合物層を形成する場合、本発明の組成物を用いるとパターンに裾引き等がなく微細なパターンを形成することができる。この画素電極パターン間に樹脂材料から成る隔壁1308を形成する。この隔壁層の厚さは1〜2μm、幅は20μmとし、透明画素電極の端部を覆うように形成する。この隔壁は、インクヘッッドから吐出し着弾した組成物が流れ出して隣接する画素と混合しないようにするために設けるものである(図13(A))。
【0062】
次に、薄膜トランジスタ1301〜1303を有するガラス基板1300に対し、第1有機化合物層としてポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸)水溶液(以下、PEDOT/PSSと記す)をスピンコーティングにより30nmに厚さに成膜する。このPEDOT/PSSは、正孔注入層1308として作用する(図13(B))。
【0063】
その後、加熱処理により水分を蒸発させ、インクジェット印刷装置1309により、組成物を塗布し、厚さ0.05〜0.2μmの第2有機化合物層としての発光層を形成する。組成物としては、アセトニトリル溶液に溶解させたπ共役系配位子を有する金属キレート錯体を用いる。この組成物は、インクジェット吐出後、80〜120℃で加熱して溶媒を揮発させ発光層1310を形成する(図13(C))。
【0064】
陰極1311としてマグネシウム合金(例えば、AlMg)を真空蒸着法にて0.1〜0.2μmの厚さに成膜する。これによりアクティブマトリクス駆動方式の発光装置が完成する(図13(D))。
【0065】
尚、図12及び図13で示す発光装置は、正孔注入層と発光層の2層をもって形成する例を示したが、その構造に限定されるものではなく、本発明の組成物を用いてインクジェット方式により発光層並びにそれに付随する注入層を任意に設ける構成としても良い。
【実施例3】
【0066】
本発明の組成物を用いてインクジェット方式により作製される発光装置の具体的な一例を図面を参照して説明する。図14はアクティブマトリクス駆動する発光装置の画素構造の一例を上面図で示す。また、図15は図14のA−A'線に対応した断面図であり、両図は共通した符号を用いて画素の構造を説明している。
【0067】
この画素構造は、一つの画素に2つの薄膜トランジスタが設けられ、一方はスイッチング動作を目的としたnチャネル型薄膜トランジスタ1604であり、他方は有機発光素子に流す電流を制御する動作を目的としたpチャネル型薄膜トランジスタ1605である。勿論、本発明のインクジェット方式による印刷装置を用いてアクティブマトリクス駆動の発光装置を製造するに当たり、一つの画素に設ける薄膜トランジスタの数に限定はなく、発光装置の駆動方式に従い適切な回路構成とすれば良い。
【0068】
図15で示す如く、有機発光素子1575は第1電極1546、正孔注入層1571、発光層1572、第2電極1573から成っている。第1電極と第2電極はその極性により陽極と陰極とに区別することができる。陽極を形成する材料は酸化インジウムや酸化スズ、酸化亜鉛などの仕事関数の高い材料を用い、陰極にはMgAg、AlMg、Ca、Mg、Li、AlLi、AlLiAgなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金属、代表的にはマグネシウム化合物で形成される仕事関数の低い材料を用いる。
【0069】
pチャネル型薄膜トランジスタ1605及びnチャネル型薄膜トランジスタ1604はチャネル形成領域やソース及びドレイン領域、LDD領域などが形成される活性層1516、1517を多結晶半導体膜で形成している。ゲート絶縁膜1518を介して第1ゲート電極1533、1534が形成さているが、活性層を挟んで対向して第2ゲート電極1506、1508が絶縁膜1510、1511を介して設けられている。層間絶縁膜1543、1544は無機絶縁膜及び有機絶縁膜を組み合わせて形成されている。配線1505は映像データに基づく信号線であり、配線1507は有機発光素子に電流を供給する電源供給線である。
【0070】
有機発光素子1575の第1電極1546は、pチャネル型薄膜トランジスタ1605の電極1553と接続されている。隔壁1570は隣接する画素を分離し、インクジェット方式で発光層を形成する時に組成物が隣接する画素に及ばないように仕切る目的で形成されている。隔壁はポリイミド、アクリル、ポリイミドアミド、ポリベンゾイミダゾールなどの感光性又は熱硬化型の樹脂材料で、第1電極の端部を覆うように形成してある。有機化合物層は縦方向に連続させて形成しても良いし、横方向に連続させて形成しても良い。
【0071】
樹脂材料で形成される隔壁1570の表面は、アルゴンなど希ガスを用いたプラズマ処理で表面改質をし、表面を硬化させておいても良い。正孔注入層1571は、スピン塗布法により基板の全面にポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸)水溶液(以下、PEDOT/PSSと記す)を塗布し、その後乾燥させることにより30nmの厚さに形成する。
【0072】
発光層は、インクジェット印刷装置により、π共役ポリマー系材料であるポリ(N−ビニルカルバゾール:PVK)をホスト材、π共役系配位子を有する金属キレート錯体をゲスト材とし、これを溶媒に分散させた組成物を塗布する。インクヘッドから吐出された組成物は隔壁で囲まれた領域に着弾する。その後、窒素雰囲気中80〜120℃で加熱して0.1〜0.2μmの厚さの発光層1572を形成する。
【0073】
その上にはパッシベーション膜1574が形成されている。パッシベーション膜には窒化シリコン、酸窒化シリコン、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)
など酸素や水蒸気に対しバリア性の高い材料を用いて形成する。
【0074】
以上のようにしてアクティブマトリクス駆動の発光装置を作製することができる。本発明の組成物を用いて発光装置を作製することで、発光層を精度良くパターン形成することができ、発光しない欠陥画素の発生率を低減することができる。
【実施例4】
【0075】
図16で示すように、図12に従い作製した発光装置にアクリル、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリベンゾイミダゾールなどの樹脂層1211を形成し、さらにその上にプラスチックやガラスなどの封止板1212を固着することにより、密閉性の高い発光装置を得ることができる。封止板1212の表面には窒化シリコンやDLCをコーティングしておくことでガスバリア性を高め、発光装置の信頼性をさらに向上させることもできる。
【実施例5】
【0076】
本実施例では、有機発光素子を備えた発光表示装置の形態を図17に示す。図17(A)は、発光装置を示す上面図であり、そのA−A'線の断面図を図17(B)に示す。絶縁表面を有する基板1700(例えば、ガラス基板、結晶化ガラス基板、もしくはプラスチック基板等)に、画素領域1702、ソース側駆動回路1701、及びゲート側駆動回路1703を形成する。これらの画素領域における有機化合物層は、本発明のインクジェット方式により形成する。また駆動回路については、公知の薄膜トランジスタ及び回路技術を適用すれば良い。
【0077】
1718はシール材、1719はDLC膜であり、画素領域および駆動回路部はシール材1718で覆われ、そのシール材は保護膜1719で覆われている。
さらに、接着材を用いてカバー材1720で封止されている。熱や外力などによる変形に耐えるためカバー材1720は基板1700と同じ材質のもの、例えばガラス基板を用いることが望ましく、サンドブラスト法などにより図17に示す凹部形状(深さ3〜10μm)に加工する。さらに加工して乾燥剤1721が設置できる凹部(深さ50〜200μm)を形成することが望ましい。なお、1708はソース側駆動回路1701及びゲート側駆動回路1703に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるFPC(フレキシブルプリントサーキット)1709からビデオ信号やクロック信号を受け取る。
【0078】
次に、断面構造について図7(B)を用いて説明する。基板1700上に絶縁膜1710が設けられ、絶縁膜1710の上方には画素領域1702、ゲート側駆動回路1703が形成されており、画素領域1702は電流制御用薄膜トランジスタ1711とそのドレインに電気的に接続された発光素子の一方の電極1712を含む複数の画素により形成される。また、ゲート側駆動回路1703はnチャネル型薄膜トランジスタ1713とpチャネル型薄膜トランジスタ1714とを組み合わせたCMOS回路を用いて形成される。これらの薄膜トランジスタ(1711、1713、1714を含む)は、公知の技術に従い作製すればよい。
【0079】
画素電極1712は有機発光素子の陽極として機能する。また、画素電極1712の両端には隔壁1715が形成され、発光素子の電極1712上には有機化合物層1716および有機発光素子の陰極1717が形成される。有機化合物層1716は正孔注入層や発光層、電子注入層などを適宜組み合わせて形成する。
その全てをインクジェット方式の印刷技術で形成しても良いし、スピン塗布法とインクジェット方式を組み合わせて形成しても良い。
【0080】
例えば、正孔注入層としてPEDOTから成る第1の有機化合物層を形成し、その上にインクジェット方式による印刷装置を用いて線状又はストライプ状の第2の有機化合物層を形成することができる。この場合、第2の有機化合物層が発光層となる。適用する有機化合物材料は、高分子系又は中分子系のものが可能でる。
【0081】
陰極1717は全画素に共通の配線としても機能し、接続配線1708を経由してFPC1709に電気的に接続されている。さらに、画素領域1702及びゲート側駆動回路1703に含まれる素子は全て陰極1717、シール材1718、及び保護膜1719で覆われている。また、シール材1718を用いて有機発光素子を完全に覆った後、すくなくとも図17に示すようにDLC膜などからなる保護膜1719をシール材1718の表面(露呈面)に設けることが好ましい。また、基板の裏面を含む全面に保護膜を設けてもよい。ここで、外部入力端子(FPC)が設けられる部分に保護膜が成膜されないように注意することが必要である。マスクを用いて保護膜が成膜されないようにしてもよいし、マスキングテープで外部入力端子部分を覆うことで保護膜が成膜されないようにしてもよい。
【0082】
以上のような構造で有機発光素子をシール材1718及び保護膜で封入することにより、有機発光素子を外部から完全に遮断することができ、外部から水分や酸素等の有機化合物層の酸化による劣化を促す物質が侵入することを防ぐことができる。従って、信頼性の高い発光装置を得ることができる。また、画素電極を陰極とし、有機化合物層と陽極を積層して図17とは逆方向に発光する構成としてもよい。
【実施例6】
【0083】
図18は発光装置の外観の一例を示すものであり、透明画素電極(陽極)901と陰極906とが交差するように設けられ、その間に有機化合物層が形成されている。透明画素電極(陽極)901の間には絶縁膜903が形成され、その上に隔壁904が形成されている。但し、この絶縁膜903は省略しても構わない。有機化合物層は、インクジェット方式の他にスピン塗布方式を適宜組み合わせて形成することが可能である。スピン塗布法を用いる場合には隔壁904上にもその被膜が形成される。
【0084】
発光層等をインクジェット方式で形成する場合には、昇華性を有さず、且つ分子数が10以下、又は連鎖する分子の長さが10μm以下の有機化合物(中分子化合物)を用いて形成する。これを用いてインクジェット方式を用いたパターン形成を行う場合には、水系、アルコール又はグリコール系溶剤に溶解又は分散させたものを用いる。いずれにしても、インクジェット方式を用いたパターン形成に適用可能な粘度に調整することができ、簡単かつ短時間で最適な条件の膜形成を行うことができる。
【0085】
インクヘッドから吐出された組成物は、隔壁904の間に着弾し、乾燥させることで発光層などを含む有機層905を形成することができる。有機化合物層905は図12で示すように隔壁904をストライプ状に形成し、その間に連続的に形成する。このように有機化合物層を形成することで、発光層を効率良くパターン形成することができ、発光しない欠陥画素の発生率を低減することができる。
【実施例7】
【0086】
本発明を用いて形成された発光装置を用いて様々な電子装置を完成させることができる。その様な電子装置の一例としてビデオカメラ、デジタルカメラ、ヘッドマウントディスプレイ(ゴーグル型ディスプレイ)、カーナビゲーション、プロジェクター、カーステレオ、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍等)などが挙げられる。それらの一例を図19、20に示す。
【0087】
図19(A)はパーソナルコンピュータであり、本体2001、画像入力部2002、表示部2003、キーボード2004等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部2003に組み入れることができ、パーソナルコンピュータを完成させることができる。
【0088】
図19(B)はビデオカメラであり、本体2101、表示部2102、音声入力部2103、操作スイッチ2104、バッテリー2105、受像部2106等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部2102に組み入れることができ、ビデオカメラを完成させることができる。
【0089】
図19(C)はモバイルコンピュータ(モービルコンピュータ)であり、本体2201、カメラ部2202、受像部2203、操作スイッチ2204、表示部2205等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部2205に組み入れることができ、モバイルコンピュータを完成させることができる。
【0090】
図19(D)はゴーグル型ディスプレイであり、本体2301、表示部2302、アーム部2303等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部2302に組み入れることができ、ゴーグル型ディスプレイを完成させることができる。
【0091】
図19(E)はプログラムを記録した記録媒体(以下、記録媒体と呼ぶ)を用いるプレーヤーであり、本体2401、表示部2402、スピーカ部2403、記録媒体2404、操作スイッチ2405等を含む。なお、このプレーヤーは記録媒体としてDVD(Digital Versatile Disc)、CD等を用い、音楽鑑賞や映画鑑賞やゲームやインターネットを行うことができる。本発明を用いて形成される発光装置は表示部2402に組み入れることができ、ゴーグル型ディスプレイを完成させることができる。
【0092】
図19(F)はデジタルカメラであり、本体2501、表示部2502、接眼部2503、操作スイッチ2504、受像部(図示しない)等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部2502に組み入れることができ、デジタルカメラを完成させることができる。
【0093】
図20(A)は携帯電話であり、本体2901、音声出力部2902、音声入力部2903、表示部2904、操作スイッチ2905、アンテナ2906、画像入力部(CCD、イメージセンサ等)2907等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部2904に組み入れることができ、デジタルカメラを完成させることができる。
【0094】
図20(B)は携帯書籍(電子書籍)であり、本体3001、表示部3002、3003、記憶媒体3004、操作スイッチ3005、アンテナ3006等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部3002、3003に組み入れることができ、携帯書籍を完成させることができる。
【0095】
図20(C)はディスプレイであり、本体3101、支持台3102、表示部3103等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部3103に組み入れることができ、ディスプレイを完成させることができる。尚、図20(C)
に示すディスプレイは中小型または大型のもの、例えば5〜20インチの画面サイズのものである。また、このようなサイズの表示部を形成するためには、基板の一辺が1mを越えるものを用い、多面取りを行って量産することが好ましい。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
画素電極上に、インクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成物を吐出して、前記有機化合物のパターンを形成する発光装置の作製方法であって、
前記有機化合物は、昇華性を有さずかつ連鎖する分子の長さが5μm以下であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項2】
マトリクス状に配列する画素電極上に、インクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成物を吐出して、前記有機化合物のパターンを形成する発光装置の作製方法であって、
前記有機化合物は、昇華性を有さずかつ連鎖する分子の長さが5μm以下であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項3】
薄膜トランジスタと電気的に接続された画素電極をマトリクス状に配列し、
前記画素電極上に、インクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成物を吐出して、前記有機化合物のパターンを形成する発光装置の作製方法であって、
前記有機化合物は、昇華性を有さずかつ連鎖する分子の長さが5μm以下であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項4】
薄膜トランジスタを有する基板上に画素電極を形成し、
前記画素電極上に、インクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成物を吐出して、前記有機化合物のパターンを形成する発光装置の作製方法であって、
前記有機化合物は、昇華性を有さずかつ連鎖する分子の長さが5μm以下であることを特徴とする発光装置の作製方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【図12】
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【図13】
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【図14】
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【図15】
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【図16】
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【図17】
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【図18】
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【図19】
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【図20】
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【公開番号】特開2011−243594(P2011−243594A)
【公開日】平成23年12月1日(2011.12.1)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−197425(P2011−197425)
【出願日】平成23年9月9日(2011.9.9)
【分割の表示】特願2001−206751(P2001−206751)の分割
【原出願日】平成13年7月6日(2001.7.6)
【出願人】(000153878)株式会社半導体エネルギー研究所 (5,264)
【Fターム(参考)】