真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法および真空蒸着用るつぼ装置
【課題】簡単な構成で蒸着材料の劣化を防止しつつ長時間の蒸着材料の蒸発、昇華が可能とする。
【解決手段】るつぼＰａ内に、蒸着材料Ｅを収容するとともに誘導加熱可能な導電性材料からなるるつぼホルダＤＫａを設けるとともに、るつぼホルダＤＫａ内の蒸着材料Ｅに複数の加熱域Ｈａ〜Ｈｄを設定し、るつぼＰａの外側に、るつぼホルダＤＫａを誘導加熱して蒸着材料Ｅを蒸発または昇華可能な分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄを設け、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄから発生する磁界を操作して加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた。
【解決手段】るつぼＰａ内に、蒸着材料Ｅを収容するとともに誘導加熱可能な導電性材料からなるるつぼホルダＤＫａを設けるとともに、るつぼホルダＤＫａ内の蒸着材料Ｅに複数の加熱域Ｈａ〜Ｈｄを設定し、るつぼＰａの外側に、るつぼホルダＤＫａを誘導加熱して蒸着材料Ｅを蒸発または昇華可能な分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄを設け、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄから発生する磁界を操作して加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空蒸着設備において、長時間にわたって蒸着材料を気化（蒸発または昇華）可能な蒸発、昇華方法と、それを実施するための真空蒸着用るつぼ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、金属製のるつぼを、高周波誘導加熱により直接加熱する技術が提案されている。
真空蒸着設備において、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華（以下、蒸散という）させており、特に量産工程では、一週間程度蒸着設備を連続運転する必要がある。しかし、蒸着材料が長時間高熱に晒されると、品質の劣化を招くおそれがある。
【０００３】
このため、たとえば下記の技術が提案されている。
ａ）劣化する前に蒸着材料が蒸散して無くなる程度の量の蒸着材料を収容したるつぼを複数用意しておき、るつぼを順次交換しながら長時間の蒸着作業を行う。これを実施するための技術として、特許文献１に、るつぼを交換するための交換室を設けた技術が開示されている。
ｂ）蒸着作業中に、るつぼまたはボート（平たい加熱るつぼ）に蒸着材料を追加投入しながら長時間の蒸着作業を行う。これを実施するための技術として、特許文献２に、シート状に形成した蒸着材料を連続的にるつぼに供給する技術が開示されている。
ｃ）蒸着材料をペレット状に成形し、加熱部に押し当てて部分的に加熱蒸散させ、これを継続して長時間の蒸着作業を行う。これを実施するための技術として、特許文献３に、蒸着材料をペレット状にしてるつぼに供給する技術が開示されている。
【０００４】
その他、蒸着材料を加熱する方式として、特許文献４に開示されるように電子ビームを走査して蒸着材料を加熱し蒸散するものや、特許文献５に開示されるように高周波誘電加熱により蒸着材料を加熱し蒸散するものもある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３２５７０５６号公報
【特許文献２】特開平１０−１８３３４６号公報
【特許文献３】特開平０９−９５７７５号公報
【特許文献４】特許第３７４１１６０号公報
【特許文献５】特開２００４−１３４２５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ａ）の技術では、多数のるつぼや、るつぼを収容するスペース（交換室）、るつぼを交換するための機構が必要となる。ｂ）の技術では、真空室内の高温のるつぼに、蒸発材料を連続して供給できる機構が必要となる。ｃ）の技術では、蒸着材料をペレット状に形成する装置や蒸着材料を加熱部に押し当てる機構が必要となる。このようにａ）〜ｃ）の技術では、装置や機構が複雑で、大型化し、製造コストや運転コストが嵩むという問題があった。
【０００７】
本発明は上記問題点を解決して、より簡単な構成で蒸着材料の劣化を防止しつつ長時間の蒸着材料の蒸発、昇華が可能な真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法および真空蒸着用るつぼ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
前記るつぼに、誘導加熱可能な材料により形成された誘導加熱るつぼを使用し、
前記誘導加熱るつぼに収容された蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設置された誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの部位を誘導加熱して、当該加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
最初の加熱域の蒸着材料が蒸発または昇華された後、前記誘導加熱源から発生される磁界を操作して、次の加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの所定部位を誘導加熱することにより、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行うものである。
請求項２記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
蒸着材料に接して配置されるとともに誘導加熱可能な材料により形成された誘導加熱部材を内装したるつぼを使用し、
るつぼ内の蒸着材料に、複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する前記誘導加熱部材の部位を誘導加熱して、当該加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
当該加熱域に対応する蒸着材料が蒸発または昇華された後、前記誘導加熱源から発生される磁界を操作して、次の加熱域に対応する誘導加熱部材の部位誘導加熱し、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行うものである。
【０００９】
請求項３記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
誘導加熱可能な材料からなり蒸着材料の上面に支持される上面誘導加熱部材を設けたるつぼを使用し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、前記上面誘導加熱部材を誘導加熱して、当該上面誘導加熱部材下部の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
蒸着材料の減少に従って下降する上面誘導加熱部材に対応して誘導加熱源から発生させる磁界を操作し、当該上面誘導加熱部材を連続して誘導加熱するものである。
【００１０】
請求項４記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発、昇華させるに際し、
誘導加熱可能な材料からなる輻射誘導加熱部材を、蒸着材料の上方に所定距離をあけて配置したるつぼを使用し、
るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する輻射誘導加熱部材の部位を誘導加熱して、当該輻射誘導加熱部材からの輻射熱により最初の加熱域の蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させ、
最初の加熱域の蒸着材料が蒸発または昇華された後、誘導加熱源から発生された磁界を操作して、次の加熱域に対応する前記輻射誘導加熱部材の部位を誘導加熱し、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行うものである。
【００１１】
請求項５記載の発明は、請求項１乃至４の何れかに記載の構成において、
るつぼの外側に設けられた冷却手段により蒸着材料全体を冷却するものである。
請求項６記載の発明は、請求項１乃至４の何れかに記載の構成において、
るつぼの外側に設けられた冷却手段により、加熱域を非冷却領域として冷却せず、その他の加熱域の蒸着材料を冷却し、
前記加熱域の変位に対応して、前記非冷却領域を変位させるものである。
【００１２】
請求項７記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼを誘導加熱可能な導電性材料により形成された誘導加熱るつぼとするとともに、当該誘導加熱るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
前記誘導加熱るつぼの外側に、前記誘導加熱るつぼを誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けたものである。
【００１３】
請求項８記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼ内に、蒸着材料を収容するとともに誘導加熱可能な導電性材料からなるるつぼホルダを設けるとともに、当該るつぼホルダ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記るつぼホルダを誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、前記加熱域に対応する前記るつぼホルダの部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けたものである。
【００１４】
請求項９記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料中に、誘導加熱可能な導電性材料からなる内装誘導誘導加熱部材を設けるとともに、蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記内装誘導加熱部材を誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記内装誘導加熱部材の部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けたものである。
【００１５】
請求項１０記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料の上面に支持されて、誘導加熱可能な導電性材料からなる上面誘導加熱部材を設け、
るつぼの外側に、前記上面誘導加熱部材を誘導加熱して当該上面誘導加熱部材下部の蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、蒸着材料の減少に従って下降する上面誘導加熱部材を誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けたものである。
【００１６】
請求項１１記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料の上方に離間して配置されて、誘導加熱可能な導電性材料からなる輻射誘導加熱部材を設け、
るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記輻射誘導加熱部材を誘導加熱可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記輻射誘導加熱部材の部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けたものである。
【００１７】
請求項１２記載の発明は、請求項７乃至１１の何れかに記載の構成において、
誘導加熱源を、加熱域に対応して分割配置された複数の分割誘導コイルとし、
加熱域変位手段を、前記各分割誘導コイルにそれぞれ供給する高周波電流をオン、オフ制御する蒸散制御装置により構成したものである。
【００１８】
請求項１３記載の発明は、請求項７乃至１１の何れかに記載の構成において、
誘導加熱源を、加熱域の配置方向に移動自在に配置された可動誘導コイルとし、
加熱域変位手段を、前記可動誘導コイルを移動可能なコイル移動装置と、当該コイル移動装置を操作し、加熱域に対応して前記可動誘導コイルを移動させる蒸散制御装置により構成したものである。
【００１９】
請求項１４記載の発明は、請求項７乃至１３の何れかに記載の構成において、
るつぼの外側に冷却手段を設け、
前記冷却手段を、冷却液が給、排出されて蒸着材料全体を均一に冷却する全体冷却ジャケットにより構成したものである。
【００２０】
請求項１５記載の発明は、請求項７乃至１３の何れかに記載の構成において、
るつぼの外側に冷却手段を設け、
前記冷却手段を、加熱域に対応して複数に分割配置され分割冷却ジャケットにより構成し、
前記加熱域に対応する前記分割冷却ジャケットへの冷却液の供給を停止するとともに、前記加熱域の変位に対応して、冷却液の供給を停止する分割冷却ジャケットを変更可能な蒸散制御装置を設けたものである。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１または７記載の構成によれば、誘導加熱源により加熱域に対応する誘導加熱るつぼの所定部位を集中して加熱することから、当該加熱域以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止でき、加熱域変位手段により誘導加熱るつぼの加熱部位を変位させて、順次加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させることにより、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２２】
請求項２記載の構成によれば、誘導加熱源により加熱域に対応する誘導加熱部材の所定部位の加熱域を集中して加熱することから、当該加熱域以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止でき、加熱域変位手段により誘導加熱部材の加熱部位を変位させて、順次加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させることにより、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２３】
請求項３または１０記載の発明によれば、誘導加熱源により、上面に配置された上面誘導加熱部材のみを集中して加熱することから、当該上面誘導加熱部材直下以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止できる。また加熱域変位手段により蒸着材料の減少に従って下降する上面誘導加熱部材に対応して、誘導加熱源から発生する磁界を操作し、上面誘導加熱部材を集中して連続的に誘導加熱することができる。これにより、上面誘導加熱部材直下の蒸着材料を効果的に蒸発または昇華させて、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２４】
請求項４または１１記載の構成によれば、誘導加熱源により加熱域に対応する輻射誘導加熱部材の所定部位を集中して加熱することから、当該加熱域以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止でき、加熱域変位手段により輻射誘導加熱部材の加熱部位を変位させて、順次加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させることにより、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２５】
請求項５記載の構成によれば、冷却手段により蒸着材料を冷却することで、材料の劣化を効果的に防止することができ、長時間にわたって安定した蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２６】
請求項６記載の発明によれば、冷却手段により、加熱域に対応する非冷却領域を除いて蒸着材料を冷却し、冷却領域調整手段により加熱域に対応して非冷却領域を変位させることにより、蒸着材料を効率よく蒸発、昇華させることができる。
【００２７】
請求項８記載の構成によれば、誘導加熱源により加熱域に対応するるつぼホルダの所定部位の加熱域を集中して加熱することから、当該加熱域以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止でき、加熱域変位手段によりるつぼホルダの加熱部位を変位させて、順次加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させることにより、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２８】
請求項９記載の構成によれば、誘導加熱源により加熱域に対応する内装誘導加熱部材の所定部位の加熱域を集中して加熱することから、当該加熱域以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止でき、加熱域変位手段により内装誘導加熱部材の加熱部位を変位させて、順次加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させることにより、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２９】
請求項１２記載の構成によれば、加熱域に対応して複数の分割誘導コイルを配置し、蒸散制御手段により、各分割誘導コイルに供給する高周波電流をオン、オフする簡易な構成で、加熱域を選択的に変位させることができる。
【００３０】
請求項１３記載の構成によれば、コイル移動装置により可動誘導コイルを加熱域に沿って移動させることで、加熱域を選択的に変位させることができる。
請求項１４記載の構成によれば、全体冷却ジャケットに冷却液を供給することにより、蒸着材料全体を冷却して劣化を効果的に防止することができ、長時間にわたって安定して蒸着作業を連続して行うことができる。
【００３１】
請求項１５記載の発明によれば、分割冷却ジャケットにそれぞれ冷却液を供給し、加熱域に対応する分割冷却ジャケットの冷却液の供給を停止することにより、加熱域の材料を効率よく蒸発または昇華させ、その他の加熱域の蒸着材料の劣化を防止することができる。また冷却領域調整装置により、加熱域の変位に応じて、非冷却領域の分割冷却ジャケットを変更することにより、長時間にわたって効率よく蒸着作業を連続して行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】（ａ），（ｂ）は本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例１の構成を示し、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は加熱装置と冷却手段の構造を示す斜視図である。
【図２】蒸着材料の劣化の判別例を示すグラフである。
【図３】（ａ），（ｂ）は真空蒸着装置およびるつぼ装置の基本構造を示し、（ａ）は真空蒸着装置を示す縦断面図、（ｂ）はるつぼ装置を示す縦断面図である。
【図４】（ａ）〜（ｆ）は真空蒸着容器の構造を示す縦断面図で、（ａ）はアップデポジションタイプで、容器形のるつぼ外置き形を示し、（ｂ）はアップデポジションタイプで、容器形のるつぼ内置き形を示し、（ｃ）はアップデポジションタイプで、皿型のるつぼ内置き形を示し、（ｄ）はサイドデポジションタイプで、容器形のるつぼ外置き形を示し、（ｅ）はサイドデポジションタイプで、容器形のるつぼ内置き形を示し、（ｆ）はサイドデポジションタイプで、皿型のるつぼ内置き形を示す。
【図５】（ａ）〜（ｈ）は誘導加熱部材の構造を示す縦断面図で、（ａ）は容器形のるつぼにるつぼホルダを内装したもの、（ｂ）は皿形のるつぼにるつぼホルダを使用したもの、（ｃ）は容器形の誘電加熱るつぼを使用したもの、（ｄ）は皿形の誘電加熱るつぼを使用するもの、（ｅ）は容器形のるつぼに内装誘導加熱部材を配置したもの、（ｆ）は皿形のるつぼに内装誘導加熱部材を配置したもの、（ｇ）は容器形のるつぼに輻射誘導加熱部材を配置したもの、（ｈ）は皿形のるつぼに輻射誘導加熱部材を配置したものである。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は誘導加熱源と加熱域変位手段を示すもので、（ａ）および（ｂ）はそれぞれ分割式誘導コイルを示す斜視図、（ｃ）および（ｄ）はそれぞれ可動式誘導コイルを示す概略側面図である。
【図７】（ａ）〜（ｄ）は冷却手段と冷却領域調整手段を示す斜視図で、（ａ）は筒状の全体冷却ジャケットを示し、（ｂ）はプレート状の全体冷却ジャケットを示し、（ｃ）は筒状の分割冷却ジャケットを示し、（ｄ）はプレート状の分割冷却ジャケットを示す。
【図８】（ａ）〜（ｈ）はコイルの配置構造を示す縦断面図で、（ａ）〜（ｄ）は誘電コイル外装タイプを示し、（ｅ）〜（ｈ）は誘電コイル内装タイプを示す。
【図９】（ａ），（ｂ）は本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例２を示し、（ａ）はるつぼ装置の構成を示す縦断面図、（ｂ）は平面図である。
【図１０】（ａ），（ｂ）は本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例３を示し、（ａ）はるつぼ装置の構成を示す縦断面図、（ｂ）は斜視図である。
【図１１】本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例３の変形例を示す縦断面図である。
【図１２】（ａ），（ｂ）は本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例４を示し、（ａ）はるつぼ装置の構成を示す縦断面図、（ｂ）は斜視図である。
【図１３】本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例５の構成を示す縦断面図である。
【図１４】（ａ），（ｂ）は内装誘導加熱部材の変形例を示す平面図で、（ａ）は２本の内装加熱ロッドの配置を示し、（ｂ）は６本の内装加熱ロッドの配置を示す。
【図１５】実施例５の変形例の構成を示す縦断面図である。
【図１６】本発明に係るるつぼ装置の実施例６の構成を示す縦断面図である。
【図１７】（ａ），（ｂ）は上面加熱プレートを示す斜視図で、（ａ）はプレートタイプ、（ｂ）は穴あきタイプである。
【図１８】本発明に係るるつぼ装置の実施例６の変形例を示す縦断面図である。
【図１９】るつぼ装置の実施例７の構成を示す縦断面図である。
【図２０】るつぼ装置の実施例８を示す要部拡大縦断面図である。
【図２１】るつぼ装置の実施例９を示す要部拡大縦断面図である。
【図２２】（ａ），（ｂ）は内装誘導加熱部材を示し、（ａ）はロッド状の内装誘導加熱部材を示す平面視の部分断面図、（ｂ）はプレート状の内装誘導加熱部材を示す平面視の部分断面図である。
【図２３】るつぼ装置の実施例１０の構成を示す縦断面図である。
【図２４】（ａ），（ｂ）は輻射誘導加熱部材を示し、（ａ）はロッド状の輻射誘導加熱部材を示す平面図、（ｂ）はプレート状の輻射誘導加熱部材を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【実施例】
【００３３】
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
［基本構造］
本発明に係るるつぼ装置を具備した真空蒸着装置は、図３に示すように、真空蒸着容器Ａの蒸着室ａ内において、るつぼ装置の加熱手段である高周波電源装置Ｂから誘導加熱源Ｃの一例である分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄ高周波電流を給電し、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄから発生する磁界により、誘導加熱部材Ｄの一例であるるつぼホルダＤＫａの一部（加熱部位）を高周波（電磁）誘導加熱し、るつぼＰａ内の蒸着材料Ｅを加熱して蒸散（蒸発または昇華）し、真空蒸着容器Ａ内で保持具に保持された基板（被蒸着材）Ｔの表面に蒸着するものである。このるつぼ装置には、長時間にわたって連続蒸着を行うために、誘導加熱源Ｃによる誘導加熱部材Ｄの全体ではなく、後述するように蒸着材料Ｅに設定された加熱域Ｈａ〜Ｈｄ（図６）に対応するるつぼホルダＤＫａの一部を集中的に加熱して、この加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅを蒸散させ、この加熱域Ｈａ〜Ｈｄを順次変位させて蒸着材料Ｅの全体を蒸散させる加熱域変位手段を設けている。また、蒸着中に加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の蒸着材料Ｅの劣化を防止するために、蒸着材料Ｅを冷却する冷却手段を設けている。ここで、蒸着材料Ｅは、高周波磁界により発熱しない非導電性の材料、または導電性ではあるが電気抵抗が小さく発熱量が小さい材料を対象としている。
【００３４】
真空蒸着容器Ａにおけるるつぼの配置構造は、図４（ａ）〜（ｆ）に示すように４つのタイプＩ〜VIがあり、また誘導加熱部材Ｄの配置構造は、図５（ａ）〜（ｈ）に示すように５つのタイプｉ〜ｖがある。さらに加熱域変位手段には、図６（ａ）（ｂ）、（ｃ）（ｄ）に示すように、誘導加熱部材Ｄの加熱域を変位させる２つのタイプα，βがあり、さらに冷却領域調整手段には、図７（ａ），（ｂ）に示すように、２つのタイプγ，δがあるので、以下に簡単に説明する。
【００３５】
図４に示すように、るつぼの配置構造には、
タイプＩ:水平に保持された基板Ｔに対して、蒸発、昇華された蒸着材料Ｅを下方から蒸着させるアップデポジションタイプで、上面開口で縦長容器形のるつぼＰａを真空蒸着容器Ａの外部に配置したるつぼ外置き形［図４（ａ）］と、
タイプII−ａ，II−ｂ：アップデポジションタイプで、るつぼＰａまたは開口面が広い皿形のるつぼＰｂを蒸着室ａ内に配置したるつぼ内置き形［図４（ｂ）（ｃ）］と、
タイプIII：垂直に保持された基板Ｔに対して、蒸発、昇華された蒸着材料Ｅを側方から蒸着させるサイドデポジションタイプで、真空蒸着容器Ａの外部にるつぼＰａを配置してノズルＧを介して真空蒸着容器Ａに導入するつぼ外置き形［図４（ｄ）］と、
タイプIV−ａ，IV−ｂ：サイドデポジションタイプで、真空蒸着容器Ａ内にるつぼＰａまたはＰｂを真空蒸着容器Ａ内に配置してノズルＧから放出するるつぼ内置き形［図４（ｅ）（ｆ）］とがある。
【００３６】
図５に示すように、誘導加熱部材Ｄには、
タイプｉ−ａ，ｉ−ｂ：外周加熱タイプで、高周波磁界により発熱しにくい材料（非導電性、または導電性で低電気抵抗の材料からなる（以下、非導電性という）からなる容器形または皿形のるつぼＰａ,Ｐｂ内に、導電性材料からなるるつぼホルダ（誘導加熱部材、外周誘導加熱部材）ＤＫａを設置し、誘導コイルＣから発生させた磁界によりるつぼホルダＤＫａの所定部位を加熱し、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを外周側から加熱して蒸散するもの［図５（ａ）（ｂ）］と、
タイプii−ａ，ii−ｂ：直接加熱タイプで、導電性で高周波磁界により発熱やすい高電気抵抗の材料（以下、導電性材料という）により形成した誘導加熱るつぼＤＰａ，ＤＰｂを使用する。そして誘導コイルＣから発生させた磁界によりるつぼＤＰａ，ＤＰｂの所定部位を加熱し、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを外周側から加熱して蒸散するもの［図５（ｃ）（ｄ）］と、
タイプiii−ａ，iii−ｂ：内装加熱タイプで、非導電性のるつぼＰａ，Ｐｂ内で蒸着材料Ｅの内部に、導電性材料からなる内装誘導加熱部材（誘導加熱部材）ＤＬを配置し、誘導コイルＣから発生させた磁界により内装誘導加熱部材ＤＬを加熱し、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを内部から加熱して蒸着材料Ｅを蒸散するもの［図５（ｅ）（ｆ）］と、
タイプiv：上面加熱タイプで、非導電性のるつぼＰａ内で蒸着材料Ｅの上面に接地するように上面加熱プレート（上面誘導加熱部材）ＤＭを昇降自在に配置し、誘導コイルＣから発生させた磁界により上面加熱プレートＤＭを加熱して、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを上面から加熱して蒸散するもの［図５（ｇ）］と、
タイプｖ：輻射誘導加熱タイプで、非導電性のるつぼＰｂで蒸着材料Ｅの上方に一定機距離だけ離間して輻射誘導加熱部材ＤＮを配置し、誘導コイルＣから発生させた磁界により輻射誘導加熱部材ＤＮの所定部位を加熱し、輻射熱により蒸着材料Ｅを部分的に加熱し蒸散するもの［図５（ｈ）］とがある。
【００３７】
図６に示すように、誘導コイルＣおよび加熱域変位手段には、
タイプα：分割切替タイプで、誘導加熱コイルＣは、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ，Ｈｅ〜Ｈｈに対応して配置された複数の分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄ，Ｃｅ〜Ｃｈからなり、スイッチＳＷａ〜ＳＷｄ，ＳＷｅ〜ＳＷｈにより高周波電流の供給を切り替えることにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応した加熱部分を変位させるもので、円筒状の分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄを使用したタイプａ［図６（ａ）］、および加熱域Ｈｅ〜Ｈｈに対応した加熱部分を変位させるもので平面状の分割誘導コイルＣｅ〜Ｃｈを使用したタイプｂ［図６（ｂ）］と、
タイプβ：移動変位タイプで、コイル移動装置Ｓにより、円筒形または平面形の可動誘導コイルＣｍａ，Ｃｍｂを加熱域Ｈａ〜Ｈｄ，Ｈｅ〜Ｈｈの配置方向に沿って移動させることにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ，Ｈｅ〜Ｈｈに対応する誘導加熱部材Ｄの加熱部位を変位させるもので、円筒状の可動誘導コイルＣｍａを使用したタイプａ［図６（ｃ）］、および平面状の可動誘導コイルＣｍｂを使用したタイプｂ［図６（ｄ）］とがある。
【００３８】
図７に示すように、冷却手段と冷却領域調整手段には、
タイプγ：全体冷却タイプで、誘導加熱部材Ｄの配置方向に沿って全体冷却ジャケットＱ，Ｒを配置し、冷却液を全体冷却ジャケットＱ，Ｒ内に均一に冷却するように供給して、蒸着材料Ｅを冷却するもので、円筒状の全体冷却ジャケットＱを使用するタイプａ［図７（ａ）］、およびプレート状の全体冷却ジャケットＲを使用するタイプｂ［図７（ｂ）］と、
タイプδ：分割冷却タイプで、複数の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄ,Ｒａ〜Ｒｄを所定の冷却領域ごとに分割配置して、それぞれの分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄ，Ｒａ〜Ｒｄに選択的に冷却液を供給することにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ，Ｈｅ〜Ｈｈに対応する蒸着材料Ｅを非冷却領域とするもので、円筒状の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄを使用するタイプａ［図７（ｃ）］、およびプレート状の分割冷却ジャケットＲａ〜Ｒｄを使用するタイプｂ［図７（ｄ）］とがある。
【００３９】
図８に示すように、誘電コイルＣの配置構造には、
タイプε：誘電コイル外装タイプで、冷却ジャケットＱ，Ｑａ〜Ｑｄ，Ｒ，Ｒａ〜Ｒｄの外側に、それぞれ分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄ，Ｃｅ〜Ｃｈが配置された［図８（ａ）〜（ｄ）］ものと、
タイプζ：誘電コイル内装タイプで、冷却ジャケットＱ，Ｑａ〜Ｑｄ，Ｒ，Ｒａ〜Ｒｄの内部に、冷却液中に浸漬されて分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄ，Ｃｅ〜Ｃｈが配置された［図８（ｅ）〜（ｆ）］ものがある。
【００４０】
［実施例１］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例１を図１〜図３を参照して説明する。
【００４１】
この実施例１は、真空蒸着装置Ａは、図４に示すアップデポジションの外部配置タイプＩやアップデポジションの内部配置タイプII−ａ、サイドデポジションの外部配置タイプIII、サイドデポジションの内部配置タイプIV−ａについて適用される。また誘導加熱部材Ｄは、図５（ａ）に示す外周加熱タイプｉで、非導電性のるつぼＰａ内に導電性のるつぼホルダＤＫａが内嵌されている。さらに冷却手段は全体冷却タイプγ−ａで、上面が開口された容器形の全体冷却ジャケットＱがるつぼＰａに外嵌され、冷却水供給装置１４から全体冷却ジャケットＱに冷却液が供給されてるつぼＰａ内の蒸着材料Ｅを全体にわたって冷却する。この冷却液は、図示しないフィンなどにより、全体冷却ジャケットＱの全体にわたって流送されて全体が均等に冷却される。
【００４２】
（冷却・加熱構造）
誘導加熱部材Ｄおよび加熱変位手段は、図６（ａ）に示す分割切替タイプα−ａ、冷却・加熱構造におけるコイル配置構造は、誘電コイル外装タイプεであるが、誘電コイル内装タイプζであってもよい。誘電コイル外装タイプεにおける誘導コイルＣは、蒸着材料Ｅに設定された加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応して、るつぼホルダＤＫａの高さ方向（加熱域の配置方向）に沿って全体冷却ジャケットＱの外周部に外嵌配置された複数の分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより構成される。
【００４３】
したがって、高周波電源装置ＢからスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを介して誘導コイルＣａ〜Ｃｄにそれぞれ高周波電流を供給する。そして、予め実験などにより求められた高周波電流と蒸散時間と蒸着材料Ｅの種類、蒸着膜厚、真空蒸着装置ＡやるつぼＰの構造などのパラメータから、蒸着量や蒸散時間に対する蒸着材料Ｅの減少量を求めるデータが蒸散データテーブル１１に記録されている。そして蒸散制御部１３では、操作器１２から入力される蒸着条件に基づいて、センサなどにより計測される蒸着量および加熱蒸着時間と、蒸散データテーブル１１のデータとに基づいてスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを操作し加熱域Ｈａ〜Ｈｄを制御する。
【００４４】
上記構成において、るつぼホルダＤＫａ内に蒸着材料Ｅが投入され、操作器１２の操作により蒸着作業が開始されると、まずスイッチＳＷａがオンされて最上段の誘導コイルＣａに高周波電流が供給され、誘導コイルＣａから発生される磁界が加熱域Ｈａに対応するるつぼホルダＤＫａの最上段部位に作用して誘導加熱され、伝導熱や輻射熱により加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散される。
【００４５】
蒸散制御部１３では、所定の蒸散時間が経過すると、蒸散データテーブル１１のデータに基づいて加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散されたと判断し、スイッチＳＷａをオフするとともにスイッチＳＷｂをオンし、最上段の加熱域Ｈａからその下位の加熱域Ｈｂに対応するつぼホルダＤＫａの部位を誘電加熱して、蒸着材料Ｅの減少に対応する。下位側に次順これを繰り返して長時間の蒸着作業を行い、蒸着材料Ｅをすべて蒸散する。
【００４６】
この蒸着作業中に、冷却水供給装置１４から全体冷却ジャケットＱに冷却液が供給されて均一に冷却され、蒸着材料Ｅ全体が均等に冷却されており、蒸着材料Ｅが加熱により劣化されるのを防止している。また全体冷却ジャケットＱによる吸熱量より、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより誘導加熱される加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの部位おける発熱量がはるかに大きいため、加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅが集中して蒸散され、加熱域Ｈａ〜Ｈｄからずれた蒸着材料Ｅが冷却されて劣化が効果的に防止される。
【００４７】
ここで、蒸着材料Ｅの劣化はＰＬ測定などにより測定することができ、図２に液晶パネルの蒸着材料Ｅであるα−ＮＤＰの計測結果を示す。
実施例１によれば、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位をそれぞれ集中して加熱することから、当該加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の蒸着材料Ｅが加熱されずに蒸着材料Ｅの劣化を防止することができるとともに、蒸散制御部１３によりスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを操作して、高周波電源装置Ｂから誘導コイルＣａ〜Ｃｄに供給する高周波電流を制御し、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位を変位させることで、蒸着材料Ｅを順次蒸発または昇華させて蒸着作業を長時間にわたって連続して行うことができる。また冷却水供給装置１４から全体冷却ジャケットＱに冷却液を供給して蒸着材料Ｅを冷却することにより劣化を防止することができ、長時間の連続蒸着を効率よく行うことができる。
【００４８】
［実施例２］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例２を、図９を参照して説明する。この実施例２は、実施例１における加熱変位手段を、分割切替タイプα−ａから移動変位タイプβ−ａに変更したもので、同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００４９】
真空蒸着装置Ａは図４に示すアップデポジション外部配置タイプＩやアップデポジション内部配置タイプII−ａ、サイドデポジション外部配置タイプIII、サイドデポジション内部配置タイプIV−ａについて適用される。また誘導加熱部材Ｄは、図５（ａ）に示す外周加熱タイプｉ−ａのつぼホルダＤＫａである。さらに冷却手段は全体冷却タイプγ−ａで、るつぼＰａに外嵌された全体冷却ジャケットＱにより冷却される。
【００５０】
（冷却・加熱構造）
そして、誘導加熱部材Ｄおよび加熱変位手段は移動変位タイプβ−ａであり、冷却・加熱構造におけるコイル配置構造は、誘電コイル外装タイプεであるが、誘電コイル内装タイプζであってもよい。そしてコイル移動装置Ｓにより、全体冷却ジャケットＱに昇降自在に遊嵌された円筒形の可動誘導コイルＣｍａを上下方向に移動させることにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位を変位させることができる。
【００５１】
コイル移動装置Ｓは、架台１５に加熱域Ｈａ〜Ｈｄの配置方向（上下方向）に沿うねじ軸１６が回転自在に支持され、可動誘導コイルＣｍａがコイル保持具１７に保持されれるとともに、このコイル保持具１７に、ねじ軸１６に螺合する雌ねじ部材１８が取り付けられている。そしてねじ軸１６の下端部に、減速機付の変位モータ１９の出力軸が連結され、蒸散制御部１３によりモータ制御器２０を介して変位モータ１９が操作される。２１は保持具１７を案内する一対のガイドロッドである。
【００５２】
したがって、高周波電源装置Ｂから伸縮可能な給電ケーブル２２を介して可動誘導コイルＣｍａに高周波電流を供給して、可動誘導コイルＣｍａから発生した磁界によりるつぼホルダＤＫａの所定の加熱部位を加熱し、伝導熱や輻射熱により加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅを蒸散させる。また蒸散制御部１３では、操作器１２から入力される蒸着条件により、蒸散データテーブル１１のデータに基づいて蒸散時間をカウントする。そして、その加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅが蒸散される蒸散時間が経過すると、モータ制御器２０を介してコイル移動装置Ｓの変位モータ１９を駆動し、可動誘導コイルＣｍａを変位させて、次の加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位を誘導加熱する。
【００５３】
上記構成において、るつぼホルダＤＫａ内に蒸着材料Ｅが投入され、操作器１２の操作により蒸着作業が開始されると、最上位の加熱域Ｈａに対応して配置された可動誘導コイルＣｍａに高周波電源装置Ｂから高周波電流が供給されて、可動誘導コイルＣｍａから発生された磁界が作用し最上段の部位が誘導加熱され、加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散される。
【００５４】
蒸散制御部１３では、蒸散データテーブル１１のデータに基づいて、所定の蒸散時間が経過すると、加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散されたと判断し、コイル移動装置Ｓを駆動して可動誘導コイルＣｍａを下降し、次の加熱域Ｈｂの対応位置で停止させ、次の加熱域Ｈｂに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位を誘導加熱し、加熱域Ｈｂの蒸着材料Ｅの蒸散する。次の各加熱域Ｈｃ，Ｈｄに対して順次これを繰り返し、長時間の蒸着作業を行ってすべての蒸着材料Ｅを蒸散する。
【００５５】
この蒸着作業中に、冷却水供給装置１４から全体冷却ジャケットＱに冷却液が供給されて蒸着材料Ｅが均一に冷却され、加熱域Ｈａ〜Ｈｄの熱により蒸着材料Ｅが劣化されるのを防止している。
【００５６】
実施例２によれば、コイル移動装置Ｓを操作して可動誘導コイルＣｍａをるつぼホルダＤＫａの加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って変位させることで、加熱域Ｈａ〜Ｈｄを順次加熱して、蒸着作業を長時間にわたって連続して行うことができる。全体冷却ジャケットＱにより蒸着材料Ｅを冷却するので、蒸着材料Ｅの劣化を防止して長時間の連続蒸着を行うことができる。
【００５７】
［実施例３］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例３を図１０を参照して説明する。この実施例３は、実施例１において全体に均等に冷却する全体冷却タイプγ−ａを、非冷却領域を変位可能に設けることができる分割冷却タイプδ−ａに変更したもので、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００５８】
真空蒸着容器Ａは、図４に示すアップデポジション外部配置タイプＩやアップデポジション内部配置タイプII−ａ、サイドデポジション外部配置タイプIII、サイドデポジション内部配置タイプIV−ａについて適用される。また誘導加熱部材Ｄは、図５（ａ）に示す外周加熱タイプｉ−ａのるつぼホルダＤＫａである。
【００５９】
さらに冷却手段は図７（ｃ）に示す分割冷却タイプδ−ａであり、るつぼＰａに外嵌されて加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する冷却領域ごとに分割された複数の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄと、冷却水供給装置１４から各分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄに冷却液を供給する給液管および排液管と、給液管にそれぞれ介在された開閉弁２３ａ〜２３ｄとを具備し、蒸散制御部１３により前記各開閉弁２３ａ〜２３ｄを選択的に操作して、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄへの冷却液の供給を停止し非冷却領域とすることができる。
【００６０】
（冷却・加熱構造）
誘導加熱部材Ｄおよび加熱変位手段は図６（ａ）に示す分割切替タイプα−ａであり、また冷却・加熱構造におけるコイル配置構造は、図８（ｂ）に示す誘電コイル外装タイプεで、各分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄの外周部に、るつぼホルダＤＫａの高さ方向（加熱域の移動方向）に沿って誘導コイルＣａ〜Ｃｄが配置され、高周波電源装置ＢからスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを介して分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにそれぞれ高周波電流が選択的に供給される。
【００６１】
そして蒸散制御部１３では、操作器１２から入力される蒸着条件と、蒸散データテーブル１１のデータとに基づいてスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを操作し、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄに高周波電流を順次供給して、加熱域Ｈａ〜Ｈｄを制御する。同時に、蒸散制御部１３により前記開閉弁２３ａ〜２３ｄを操作し、分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄへの冷却液の供給を停止し非冷却領域を制御する。
【００６２】
上記構成において、るつぼホルダＤＫａ内に蒸着材料Ｅが投入され、操作器１２の操作により蒸着作業が開始されると、高周波電源装置Ｂから最上位の加熱域Ｈａに対応する分割誘導コイルＣａに高周波電流が供給され、可動誘導コイルＣｍａから発生される磁界がるつぼホルダＤＫａの最上部に作用して誘導加熱し、加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散される。同時に、開閉弁２３ａを閉じて加熱域Ｈａに対応する分割冷却ジャケットＱａへの冷却液の供給を停止し、非冷却領域とする。これにより、加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅを効率よく蒸散する。
【００６３】
蒸散制御部１３では、所定の蒸散時間が経過すると、蒸散データテーブル１１のデータに基づいて加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散されたと判断し、スイッチＳＷａをオフするとともにスイッチＳＷｂをオンし、最上段の加熱域Ｈａから次の加熱域Ｈｂ変位させて分割誘導コイルＣｂに高周波電流を供給し、次に対応するるつぼホルダＤＫａの部位を誘導加熱し加熱域Ｈｂの蒸着材料Ｅが蒸散する。同時に開閉弁２３ａを開けて分割冷却ジャケットＱａに冷却液を供給するとともに、開閉弁２３ｂを閉じて非冷却領域とする。順次これを繰り返して長時間の蒸着作業を行い、蒸着材料Ｅをすべて蒸散する。
【００６４】
実施例３によれば、蒸着作業中に、選択された加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄに冷却液の供給を停止して非冷却領域とするとともに、その他の加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄに冷却液を供給して、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の蒸着材料Ｅを冷却することにより、蒸着材料Ｅの劣化を防止しつつ加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅを効率よく蒸散することができ、長時間の連続蒸着を行うことができる。
【００６５】
なお、変形例として図１１を示す。この実施例３における真空蒸着容器Ａは、図４に示すアップデポジション外部配置タイプＩやアップデポジション内部配置タイプII−ａ、サイドデポジション外部配置タイプIII、サイドデポジション内部配置タイプIV−ａについて適用される。また誘導加熱部材Ｄは、図５（ｃ）に示す直接加熱タイプii−ａで、誘導加熱るつぼＤＰａを使用するように図示されているが、外周加熱タイプｉ−ａや内装加熱タイプiii−ａ、上面加熱タイプivであってもよい。また誘電コイルＣは、分割冷却ジャケットＱｂ内にそれぞれ分割誘電コイルＣａ〜Ｃｄを内装した内装タイプζ：図８（ｇ）としたものである。この実施例３の変形例も、実施例３と同様の作用効果を奏することができる。
【００６６】
［実施例４］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例４を図１２を参照して説明する。この実施例４は、実施例２における誘導加熱部材Ｄおよび加熱変位手段が移動変位タイプβ−ａと、非冷却領域を形成しかつこの非冷却領域を変位させることができる分割冷却タイプδ−ａとを組み合わせたもので、なお、同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００６７】
分割冷却タイプδ−ａは、るつぼＰａに外嵌されて所定の冷却領域ごとに分割された複数の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄと、冷却水供給装置１４から各分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄに冷却液を供給する給液管に介在された開閉弁２３ａ〜２３ｄとを具備し、給液管および排液管は、それぞれ他の分割冷却ジャケットＱｂ〜Ｑｄを貫通して設けられている。
【００６８】
実施例４によれば、可動誘導コイルＣｍａにより加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位をそれぞれ集中して加熱すると同時に、選択された加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応して配置された冷却領域の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄへの冷却液の供給を停止して非冷却領域とすることにより、当該加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅのみを効果的に加熱し、残りの蒸着材料Ｅが冷却されるので、蒸着材料Ｅの劣化を効果的に防止できる。そしてコイル移動装置Ｓを操作して可動誘導コイルＣｍａを加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って変位させることで、加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅを順次加熱して、蒸着作業を長時間にわたって連続して行うことができる。
【００６９】
［実施例５］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例５を、図１３を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００７０】
この実施例５は、真空蒸着容器Ａは、図４に示すアップデポジション外部配置タイプＩやアップデポジション内部配置タイプII−ａ、サイドデポジション外部配置タイプIII、サイドデポジション内部配置タイプIV−ａについて適用される。また誘導加熱部材Ｄは、図５（ｅ）に示す内装加熱タイプiiiで、非導電性のるつぼＰａ内で蒸着材料Ｅ内の軸心位置に、導電性材料からなるロッド状の内装誘導加熱部材ＤＬが加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応して配置されている。そして、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより内装誘導加熱部材ＤＬを加熱し、伝導熱や輻射熱により蒸着材料Ｅを内部から加熱し、蒸着材料Ｅを蒸散するものである。
【００７１】
さらに冷却手段は、図７（ｃ）に示す分割冷却タイプδ−ａで、るつぼＰａに外嵌されて加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する冷却領域ごとに分割された複数の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄと、冷却水供給装置１４から各分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄに冷却液を供給する給液管および排液管と、給液管にそれぞれ介在された開閉弁２３ａ〜２３ｄとを具備し、蒸散制御部１３により各開閉弁２３ａ〜２３ｄをそれぞれ操作して、加熱域に対応する分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄを非冷却領域とすることができる。
【００７２】
（冷却・加熱構造）
誘導加熱部材Ｄおよび加熱変位手段は、図６（ａ）に示す分割切替タイプα−ａで、冷却・加熱構造におけるコイル配置構造は、図８（ｂ）に示す誘電コイル外装タイプεであるが、図８（ｇ）に示す誘電コイル内装タイプζであってもよく、複数の分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより構成される。
【００７３】
上記実施例５によれば、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する内装誘導加熱部材ＤＬの所定部位を順次誘導加熱して、蒸着材料Ｅを内部から加熱し蒸着材料Ｅを蒸散することができる。また加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄを非冷却領域として、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の蒸着材料Ｅのみを冷却することができる。したがって、蒸着材料Ｅの劣化を防止しつつ、蒸着材料Ｅを長時間にわたって蒸散することができ、長時間の連続蒸着が可能となる。
【００７４】
なお、図１５の実施例５の他の変形例に示すように、可動誘電コイルＣｍａにより内装誘導加熱部材ＤＬを加熱することもできる。また、ここで冷却手段は、全体冷却ジャケットＱを使用した全体冷却タイプγ−ａとしている。
【００７５】
また、図１３では、内装誘導加熱部材ＤＬをるつぼＰａの軸心部に１本配置したが、図１４（ａ）、（ｂ）に示すように、軸心を中心とする円弧上に複数本の内装誘導加熱部材ＤＬを配置することにより、内装誘導加熱部材ＤＬと蒸着部材Ｅとの接触面積を増加させて、効率よく蒸散させることができる。
【００７６】
［実施例６］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例６を、図１６および図１７を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００７７】
この実施例６は、実施例５における内装誘導加熱部材ＤＬを、図５（ｇ）に示す上面加熱タイプivとして上面加熱プレート（上面誘導加熱部材）ＤＭを使用するものである。この上面加熱プレートＤＭは、図１７（ａ）に示すように円板状か、または図１７（ｂ）に示すように、円板に単数または複数の蒸散孔２４が形成されている。
【００７８】
真空蒸着容器装置Ａは、図４に示すアップデポジション外部配置タイプＩやアップデポジション内部配置タイプII−ａ、サイドデポジション外部配置タイプIII、サイドデポジション内部配置タイプIV−ａについて適用される。そして、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより、上面加熱プレートＤＭを加熱し、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを上面から加熱し、蒸着材料Ｅを蒸散するものである。
【００７９】
導電性のるつぼＰａ内で蒸着材料Ｅの上面に支持されるように上面加熱プレートＤＭが配置され、誘導コイルＣにより上面加熱プレートＤＭを誘導加熱して、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを上面から加熱して蒸散させる。蒸散により蒸着材料Ｅが減少して上面加熱プレートＤＭが下降され、上面加熱プレートＤＭが加熱域Ｈａ〜Ｈｄに達すると、蒸散制御部１３によりスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを操作して高周波電流を供給する分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄを下位側に切り替え、高密度の磁界内に上面加熱プレートＤＭが配置されるように制御される。また上面加熱プレートＤＭの変位にしたがって冷却領域も変位される。
【００８０】
もちろん、図１８に示す実施例６の変形例のように、上面加熱プレートＤＭの下降に従って、コイル移動装置Ｓにより可動誘導コイルＣｍａを下降させるようにしてもよい。
上記実施例６や実施例６の変形例によれば、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄまたは可動誘導コイルＤｍにより、蒸着材料Ｅの上面に配置した上面加熱プレートＤＭを誘導加熱し、伝導熱や輻射熱により上面加熱プレートＤＭに接する蒸着材料Ｅを加熱して蒸散させる。そして蒸散により減少する蒸着材料Ｅに従って上面加熱プレートＤＭが下降されると、給電する分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄを下位側に変更したり、あるいはコイル移動装置Ｓにより可動誘導コイルＤｍを下方に変位させて、高密度な磁界が上面加熱プレートＤＭに作用するように制御して、誘導加熱を継続させることにより、長時間にわたって蒸着材料Ｅを蒸散することができる。一方、冷却領域調整手段により、選択された加熱域Ｈａ〜Ｈｄを非冷却領域とし、残りの蒸着材料Ｅを冷却することができる。したがって、蒸着材料Ｅの劣化を防止しつつ、蒸着材料Ｅを長時間にわたって蒸散することができ、長時間の連続蒸着が可能となる。
【００８１】
［実施例７］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例７を、図１９を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００８２】
この実施例７は、図４に示す開口面が広い皿形のるつぼ（ボート）Ｐｂを使用するもので、アップデポジション内部配置タイプタイプII−ｂ，サイドデポジション内部配置タイプタイプIV−ｂについて適用される。そして、誘導加熱部材Ｄは、図５（ｄ）に示す直接加熱タイプii−ｂで、るつぼＰｂに導電性材料により形成される誘電加熱るつぼＤＰｂが使用され、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄから発生される磁界により、誘導加熱るつぼＤＰｂの所定の加熱部位を誘導加熱して、伝導熱や輻射熱により蒸着材料Ｅを蒸散するものである。
【００８３】
冷却手段は、図７（ｄ）に示すタイプδ−ｂで、真空蒸着容器Ａの底部外側に加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する冷却領域ごとに分割された複数の分割冷却ジャケットＲａ〜Ｒｄと、冷却水供給装置１４から各分割冷却ジャケットＲａ〜Ｒｄに冷却液を供給する給液管および排液管と、冷却液を循環供給する冷却液供給装置１４と、給液管にそれぞれ介在されたに介在された開閉弁２３ａ〜２３ｄとを具備している。そして、蒸散制御部１３により前記各開閉弁２３ａ〜２３ｄを操作して、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄへの冷却液の供給を停止して、非冷却領域とすることができる。
【００８４】
加熱変位手段は、図６（ｂ）に示す分割切替タイプα−ｂ、誘導コイルＣの配置構造は、図８（ｈ）に示す内装外装タイプζであって、分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄ内に分割誘電コイルＣｅ〜Ｃｈがそれぞれ配置されている。
【００８５】
上記実施例７によれば、最初の分割誘導コイルＣｅから発生された磁界により、加熱域Ｈａに対応する導電性の誘導加熱るつぼＤＰｂの所定部位を加熱し、伝導熱や輻射熱により当該加熱域Ｈａ内の蒸着材料Ｅを加熱して蒸散させる。そして加熱域Ｈｅ内の蒸着材料Ｅが減少すると、分割誘導コイルＣｅへの高周波電流の給電を停止するとともに、次の加熱域Ｈｂの分割誘導コイルＣｆに高周波電流を給電し、加熱域Ｈｂに対応する誘導加熱るつぼＤＰｂの次の部位を加熱し、伝導熱や輻射熱により当該加熱域Ｈｆ内の蒸着材料Ｅを加熱して蒸散させる。
【００８６】
一方、選択された加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する分割冷却ジャケットＲａ〜Ｒｄ対して冷却水の供給を停止し非冷却領域とするとともに、残りの蒸着材料Ｅを冷却することにより、蒸着材料Ｅの劣化を防止しつつ、蒸着材料Ｅを長時間にわたって蒸散することができ、長時間の連続蒸着が可能となる。
【００８７】
［実施例８］
本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例８を、図２０を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００８８】
この実施例８は、皿形のるつぼＰｂ内に導電性のるつぼホルダＤＫｂを配置した外周加熱タイプi−ｂで、るつぼＤＰｂを蒸着室ａ内に配置したアップデポジション内部配置タイプタイプII−ｂやサイドデポジション内部配置タイプタイプIV−ｂについて適用される。そして、可動コイルＣｍｂから発生される磁界により、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫｂの所定部位を誘導加熱して、伝導熱や輻射熱により蒸着材料Ｅを蒸散するものである。
【００８９】
冷却手段は、図７（ｂ）に示すタイプγ−ｂで、るつぼＰｂの底部外側に全体冷却ジャケットＲと、冷却水供給装置１４から全体冷却ジャケットＲに冷却液を供給する給液管および排液管と、冷却液を循環供給する冷却液供給装置１４とを具備している。
【００９０】
誘導コイルＣおよび加熱域変位手段については、図６（ｄ）に示すように、コイル移動装置Ｓにより、可動誘導コイルＣｍｂを加熱域Ｈａ〜Ｈｄの配置方向に沿って移動させる移動変位タイプβ−ｂである。誘導コイルＣｍｂは全体冷却ジャケットＲの下部側方に配置されている。
【００９１】
上記実施例８によれば、コイル移動装置Ｓにより可動誘導コイルＣｍｂを加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って移動させることにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫｂの加熱部位を変位させ、伝導熱や輻射熱により当該加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅを順次加熱して蒸散させることができる。また全体冷却ジャケットＲに冷却水を供給して、蒸着材料Ｅ全体を冷却することから、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の蒸着材料Ｅが熱により劣化させることがない。したがって、蒸着材料Ｅの劣化を防止しつつ、蒸着材料Ｅを長時間にわたって蒸散することができ、長時間の連続蒸着が可能となる。
【００９２】
［実施例９］
本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例９を、図２１および図２２を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００９３】
実施例７では、直接加熱タイプii−ｂの誘導加熱るつぼＤＰｂを使用したのに対して、この実施例９では、図５（ｆ）に示す内装加熱タイプiii−ｂとしたものであり、他の構造は実施例７と同じである。
【００９４】
るつぼＰｂ内で蒸着材料Ｅの内部に配置される内装誘導加熱材ＤＬは、たとえば図２２（ａ）に示すように、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って配置された単数または複数のロッド状の内装誘導加熱部材ＤＬや、また図２２（ｂ）に示すように、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って配置されて複数または多数の蒸散孔２５が形成されたプレート状の内装誘導加熱部材ＤＬにより構成される。
【００９５】
上記実施例９によれば、実施例７の作用効果に加えて、ロッド状やプレート状の内装誘導加熱部材ＤＬが蒸着材料Ｅと接触する面が広く、伝導熱および輻射熱をより効果的に蒸着材料Ｅに伝達することができ、誘導加熱される内装誘導加熱材ＤＬの熱効率を向上させることができる。
【００９６】
［実施例１０］
本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例１０を、図２３および図２４を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００９７】
実施例８では誘導加熱部材ＤをるつぼホルダＤＫｂとしたのに対して、この実施例１０では、図５（ｈ）に示す輻射誘導加熱タイプｖとしたもので、他の構造は実施例８と同じである。
【００９８】
るつぼＰｂの上方には、蒸着材料Ｅから一定距離を隔てて輻射誘導加熱材ＤＮが支持部材を介して配置されている。この輻射誘導加熱材ＤＮは、たとえば図２４（ａ）に示すように、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って配置された単数または複数のロッド状の輻射誘導加熱部材ＤＮや、また図２４（ｂ）に示すように、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って配置されて複数または多数の蒸散孔２６が形成されたプレート状の輻射誘導加熱部材ＤＮにより構成される。
【００９９】
上記実施例９によれば、実施例８の作用効果に加えて、ロッド状やプレート状の輻射誘導加熱部材ＤＮが蒸着材料Ｅに対して一定距離をあけて配置されていることから、輻射熱を各加熱域Ｈａ〜Ｈｄの全体にわたって均一に供給することができ、安定した加熱と蒸散を行うことができる。
【符号の説明】
【０１００】
Ａ 真空蒸着容器
Ｂ 高周波電源装置
Ｃ 誘導コイル
Ｃａ〜Ｃｄ，Ｃｅ〜Ｃｈ 分割誘導コイル
Ｃｍａ，Ｃｍｂ 可動誘導コイル
Ｄ 誘導加熱部材
ＤＰａ，ＤＰｂ 導電性のるつぼ
ＤＫａ，ＤＫｂ るつぼホルダ
ＤＬ 内装誘導加熱部材
ＤＭ 上面加熱プレート
ＤＮ 輻射誘導加熱部材
Ｅ 蒸着材料
Ｇ ノズル
Ｑ，Ｒ 全体冷却ジャケット
Ｑａ〜Ｑｄ 分割冷却ジャケット
Ｒａ〜Ｒｄ 分割冷却ジャケット
Ｈａ〜Ｈｄ，Ｈｅ〜Ｈｈ 加熱域
Ｐａ，Ｐｂ るつぼ
ＳＷａ〜ＳＷｄ，ＳＷｅ〜ＳＷｈ スイッチ
Ｓ コイル移動装置
Ｔ 基板
１１ 蒸散データテーブル
１２ 操作器
１３ 蒸散制御部
１４ 冷却液供給装置
２３ａ〜２３ｄ 開閉弁
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空蒸着設備において、長時間にわたって蒸着材料を気化（蒸発または昇華）可能な蒸発、昇華方法と、それを実施するための真空蒸着用るつぼ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、金属製のるつぼを、高周波誘導加熱により直接加熱する技術が提案されている。
真空蒸着設備において、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華（以下、蒸散という）させており、特に量産工程では、一週間程度蒸着設備を連続運転する必要がある。しかし、蒸着材料が長時間高熱に晒されると、品質の劣化を招くおそれがある。
【０００３】
このため、たとえば下記の技術が提案されている。
ａ）劣化する前に蒸着材料が蒸散して無くなる程度の量の蒸着材料を収容したるつぼを複数用意しておき、るつぼを順次交換しながら長時間の蒸着作業を行う。これを実施するための技術として、特許文献１に、るつぼを交換するための交換室を設けた技術が開示されている。
ｂ）蒸着作業中に、るつぼまたはボート（平たい加熱るつぼ）に蒸着材料を追加投入しながら長時間の蒸着作業を行う。これを実施するための技術として、特許文献２に、シート状に形成した蒸着材料を連続的にるつぼに供給する技術が開示されている。
ｃ）蒸着材料をペレット状に成形し、加熱部に押し当てて部分的に加熱蒸散させ、これを継続して長時間の蒸着作業を行う。これを実施するための技術として、特許文献３に、蒸着材料をペレット状にしてるつぼに供給する技術が開示されている。
【０００４】
その他、蒸着材料を加熱する方式として、特許文献４に開示されるように電子ビームを走査して蒸着材料を加熱し蒸散するものや、特許文献５に開示されるように高周波誘電加熱により蒸着材料を加熱し蒸散するものもある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３２５７０５６号公報
【特許文献２】特開平１０−１８３３４６号公報
【特許文献３】特開平０９−９５７７５号公報
【特許文献４】特許第３７４１１６０号公報
【特許文献５】特開２００４−１３４２５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ａ）の技術では、多数のるつぼや、るつぼを収容するスペース（交換室）、るつぼを交換するための機構が必要となる。ｂ）の技術では、真空室内の高温のるつぼに、蒸発材料を連続して供給できる機構が必要となる。ｃ）の技術では、蒸着材料をペレット状に形成する装置や蒸着材料を加熱部に押し当てる機構が必要となる。このようにａ）〜ｃ）の技術では、装置や機構が複雑で、大型化し、製造コストや運転コストが嵩むという問題があった。
【０００７】
本発明は上記問題点を解決して、より簡単な構成で蒸着材料の劣化を防止しつつ長時間の蒸着材料の蒸発、昇華が可能な真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法および真空蒸着用るつぼ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
前記るつぼに、誘導加熱可能な材料により形成された誘導加熱るつぼを使用し、
前記誘導加熱るつぼに収容された蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設置された誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの部位を誘導加熱して、当該加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
最初の加熱域の蒸着材料が蒸発または昇華された後、前記誘導加熱源から発生される磁界を操作して、次の加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの所定部位を誘導加熱することにより、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行うものである。
請求項２記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
蒸着材料に接して配置されるとともに誘導加熱可能な材料により形成された誘導加熱部材を内装したるつぼを使用し、
るつぼ内の蒸着材料に、複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する前記誘導加熱部材の部位を誘導加熱して、当該加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
当該加熱域に対応する蒸着材料が蒸発または昇華された後、前記誘導加熱源から発生される磁界を操作して、次の加熱域に対応する誘導加熱部材の部位誘導加熱し、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行うものである。
【０００９】
請求項３記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
誘導加熱可能な材料からなり蒸着材料の上面に支持される上面誘導加熱部材を設けたるつぼを使用し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、前記上面誘導加熱部材を誘導加熱して、当該上面誘導加熱部材下部の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
蒸着材料の減少に従って下降する上面誘導加熱部材に対応して誘導加熱源から発生させる磁界を操作し、当該上面誘導加熱部材を連続して誘導加熱するものである。
【００１０】
請求項４記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発、昇華させるに際し、
誘導加熱可能な材料からなる輻射誘導加熱部材を、蒸着材料の上方に所定距離をあけて配置したるつぼを使用し、
るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する輻射誘導加熱部材の部位を誘導加熱して、当該輻射誘導加熱部材からの輻射熱により最初の加熱域の蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させ、
最初の加熱域の蒸着材料が蒸発または昇華された後、誘導加熱源から発生された磁界を操作して、次の加熱域に対応する前記輻射誘導加熱部材の部位を誘導加熱し、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行うものである。
【００１１】
請求項５記載の発明は、請求項１乃至４の何れかに記載の構成において、
るつぼの外側に設けられた冷却手段により蒸着材料全体を冷却するものである。
請求項６記載の発明は、請求項１乃至４の何れかに記載の構成において、
るつぼの外側に設けられた冷却手段により、加熱域を非冷却領域として冷却せず、その他の加熱域の蒸着材料を冷却し、
前記加熱域の変位に対応して、前記非冷却領域を変位させるものである。
【００１２】
請求項７記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼを誘導加熱可能な導電性材料により形成された誘導加熱るつぼとするとともに、当該誘導加熱るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
前記誘導加熱るつぼの外側に、前記誘導加熱るつぼを誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けたものである。
【００１３】
請求項８記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼ内に、蒸着材料を収容するとともに誘導加熱可能な導電性材料からなるるつぼホルダを設けるとともに、当該るつぼホルダ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記るつぼホルダを誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、前記加熱域に対応する前記るつぼホルダの部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けたものである。
【００１４】
請求項９記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料中に、誘導加熱可能な導電性材料からなる内装誘導誘導加熱部材を設けるとともに、蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記内装誘導加熱部材を誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記内装誘導加熱部材の部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けたものである。
【００１５】
請求項１０記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料の上面に支持されて、誘導加熱可能な導電性材料からなる上面誘導加熱部材を設け、
るつぼの外側に、前記上面誘導加熱部材を誘導加熱して当該上面誘導加熱部材下部の蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、蒸着材料の減少に従って下降する上面誘導加熱部材を誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けたものである。
【００１６】
請求項１１記載の発明は、
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料の上方に離間して配置されて、誘導加熱可能な導電性材料からなる輻射誘導加熱部材を設け、
るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記輻射誘導加熱部材を誘導加熱可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記輻射誘導加熱部材の部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けたものである。
【００１７】
請求項１２記載の発明は、請求項７乃至１１の何れかに記載の構成において、
誘導加熱源を、加熱域に対応して分割配置された複数の分割誘導コイルとし、
加熱域変位手段を、前記各分割誘導コイルにそれぞれ供給する高周波電流をオン、オフ制御する蒸散制御装置により構成したものである。
【００１８】
請求項１３記載の発明は、請求項７乃至１１の何れかに記載の構成において、
誘導加熱源を、加熱域の配置方向に移動自在に配置された可動誘導コイルとし、
加熱域変位手段を、前記可動誘導コイルを移動可能なコイル移動装置と、当該コイル移動装置を操作し、加熱域に対応して前記可動誘導コイルを移動させる蒸散制御装置により構成したものである。
【００１９】
請求項１４記載の発明は、請求項７乃至１３の何れかに記載の構成において、
るつぼの外側に冷却手段を設け、
前記冷却手段を、冷却液が給、排出されて蒸着材料全体を均一に冷却する全体冷却ジャケットにより構成したものである。
【００２０】
請求項１５記載の発明は、請求項７乃至１３の何れかに記載の構成において、
るつぼの外側に冷却手段を設け、
前記冷却手段を、加熱域に対応して複数に分割配置され分割冷却ジャケットにより構成し、
前記加熱域に対応する前記分割冷却ジャケットへの冷却液の供給を停止するとともに、前記加熱域の変位に対応して、冷却液の供給を停止する分割冷却ジャケットを変更可能な蒸散制御装置を設けたものである。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１または７記載の構成によれば、誘導加熱源により加熱域に対応する誘導加熱るつぼの所定部位を集中して加熱することから、当該加熱域以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止でき、加熱域変位手段により誘導加熱るつぼの加熱部位を変位させて、順次加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させることにより、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２２】
請求項２記載の構成によれば、誘導加熱源により加熱域に対応する誘導加熱部材の所定部位の加熱域を集中して加熱することから、当該加熱域以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止でき、加熱域変位手段により誘導加熱部材の加熱部位を変位させて、順次加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させることにより、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２３】
請求項３または１０記載の発明によれば、誘導加熱源により、上面に配置された上面誘導加熱部材のみを集中して加熱することから、当該上面誘導加熱部材直下以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止できる。また加熱域変位手段により蒸着材料の減少に従って下降する上面誘導加熱部材に対応して、誘導加熱源から発生する磁界を操作し、上面誘導加熱部材を集中して連続的に誘導加熱することができる。これにより、上面誘導加熱部材直下の蒸着材料を効果的に蒸発または昇華させて、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２４】
請求項４または１１記載の構成によれば、誘導加熱源により加熱域に対応する輻射誘導加熱部材の所定部位を集中して加熱することから、当該加熱域以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止でき、加熱域変位手段により輻射誘導加熱部材の加熱部位を変位させて、順次加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させることにより、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２５】
請求項５記載の構成によれば、冷却手段により蒸着材料を冷却することで、材料の劣化を効果的に防止することができ、長時間にわたって安定した蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２６】
請求項６記載の発明によれば、冷却手段により、加熱域に対応する非冷却領域を除いて蒸着材料を冷却し、冷却領域調整手段により加熱域に対応して非冷却領域を変位させることにより、蒸着材料を効率よく蒸発、昇華させることができる。
【００２７】
請求項８記載の構成によれば、誘導加熱源により加熱域に対応するるつぼホルダの所定部位の加熱域を集中して加熱することから、当該加熱域以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止でき、加熱域変位手段によりるつぼホルダの加熱部位を変位させて、順次加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させることにより、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２８】
請求項９記載の構成によれば、誘導加熱源により加熱域に対応する内装誘導加熱部材の所定部位の加熱域を集中して加熱することから、当該加熱域以外の蒸着材料の昇温を抑制することができて蒸着材料の劣化を防止でき、加熱域変位手段により内装誘導加熱部材の加熱部位を変位させて、順次加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させることにより、長時間の蒸着作業を連続して行うことができる。
【００２９】
請求項１２記載の構成によれば、加熱域に対応して複数の分割誘導コイルを配置し、蒸散制御手段により、各分割誘導コイルに供給する高周波電流をオン、オフする簡易な構成で、加熱域を選択的に変位させることができる。
【００３０】
請求項１３記載の構成によれば、コイル移動装置により可動誘導コイルを加熱域に沿って移動させることで、加熱域を選択的に変位させることができる。
請求項１４記載の構成によれば、全体冷却ジャケットに冷却液を供給することにより、蒸着材料全体を冷却して劣化を効果的に防止することができ、長時間にわたって安定して蒸着作業を連続して行うことができる。
【００３１】
請求項１５記載の発明によれば、分割冷却ジャケットにそれぞれ冷却液を供給し、加熱域に対応する分割冷却ジャケットの冷却液の供給を停止することにより、加熱域の材料を効率よく蒸発または昇華させ、その他の加熱域の蒸着材料の劣化を防止することができる。また冷却領域調整装置により、加熱域の変位に応じて、非冷却領域の分割冷却ジャケットを変更することにより、長時間にわたって効率よく蒸着作業を連続して行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】（ａ），（ｂ）は本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例１の構成を示し、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は加熱装置と冷却手段の構造を示す斜視図である。
【図２】蒸着材料の劣化の判別例を示すグラフである。
【図３】（ａ），（ｂ）は真空蒸着装置およびるつぼ装置の基本構造を示し、（ａ）は真空蒸着装置を示す縦断面図、（ｂ）はるつぼ装置を示す縦断面図である。
【図４】（ａ）〜（ｆ）は真空蒸着容器の構造を示す縦断面図で、（ａ）はアップデポジションタイプで、容器形のるつぼ外置き形を示し、（ｂ）はアップデポジションタイプで、容器形のるつぼ内置き形を示し、（ｃ）はアップデポジションタイプで、皿型のるつぼ内置き形を示し、（ｄ）はサイドデポジションタイプで、容器形のるつぼ外置き形を示し、（ｅ）はサイドデポジションタイプで、容器形のるつぼ内置き形を示し、（ｆ）はサイドデポジションタイプで、皿型のるつぼ内置き形を示す。
【図５】（ａ）〜（ｈ）は誘導加熱部材の構造を示す縦断面図で、（ａ）は容器形のるつぼにるつぼホルダを内装したもの、（ｂ）は皿形のるつぼにるつぼホルダを使用したもの、（ｃ）は容器形の誘電加熱るつぼを使用したもの、（ｄ）は皿形の誘電加熱るつぼを使用するもの、（ｅ）は容器形のるつぼに内装誘導加熱部材を配置したもの、（ｆ）は皿形のるつぼに内装誘導加熱部材を配置したもの、（ｇ）は容器形のるつぼに輻射誘導加熱部材を配置したもの、（ｈ）は皿形のるつぼに輻射誘導加熱部材を配置したものである。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は誘導加熱源と加熱域変位手段を示すもので、（ａ）および（ｂ）はそれぞれ分割式誘導コイルを示す斜視図、（ｃ）および（ｄ）はそれぞれ可動式誘導コイルを示す概略側面図である。
【図７】（ａ）〜（ｄ）は冷却手段と冷却領域調整手段を示す斜視図で、（ａ）は筒状の全体冷却ジャケットを示し、（ｂ）はプレート状の全体冷却ジャケットを示し、（ｃ）は筒状の分割冷却ジャケットを示し、（ｄ）はプレート状の分割冷却ジャケットを示す。
【図８】（ａ）〜（ｈ）はコイルの配置構造を示す縦断面図で、（ａ）〜（ｄ）は誘電コイル外装タイプを示し、（ｅ）〜（ｈ）は誘電コイル内装タイプを示す。
【図９】（ａ），（ｂ）は本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例２を示し、（ａ）はるつぼ装置の構成を示す縦断面図、（ｂ）は平面図である。
【図１０】（ａ），（ｂ）は本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例３を示し、（ａ）はるつぼ装置の構成を示す縦断面図、（ｂ）は斜視図である。
【図１１】本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例３の変形例を示す縦断面図である。
【図１２】（ａ），（ｂ）は本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例４を示し、（ａ）はるつぼ装置の構成を示す縦断面図、（ｂ）は斜視図である。
【図１３】本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例５の構成を示す縦断面図である。
【図１４】（ａ），（ｂ）は内装誘導加熱部材の変形例を示す平面図で、（ａ）は２本の内装加熱ロッドの配置を示し、（ｂ）は６本の内装加熱ロッドの配置を示す。
【図１５】実施例５の変形例の構成を示す縦断面図である。
【図１６】本発明に係るるつぼ装置の実施例６の構成を示す縦断面図である。
【図１７】（ａ），（ｂ）は上面加熱プレートを示す斜視図で、（ａ）はプレートタイプ、（ｂ）は穴あきタイプである。
【図１８】本発明に係るるつぼ装置の実施例６の変形例を示す縦断面図である。
【図１９】るつぼ装置の実施例７の構成を示す縦断面図である。
【図２０】るつぼ装置の実施例８を示す要部拡大縦断面図である。
【図２１】るつぼ装置の実施例９を示す要部拡大縦断面図である。
【図２２】（ａ），（ｂ）は内装誘導加熱部材を示し、（ａ）はロッド状の内装誘導加熱部材を示す平面視の部分断面図、（ｂ）はプレート状の内装誘導加熱部材を示す平面視の部分断面図である。
【図２３】るつぼ装置の実施例１０の構成を示す縦断面図である。
【図２４】（ａ），（ｂ）は輻射誘導加熱部材を示し、（ａ）はロッド状の輻射誘導加熱部材を示す平面図、（ｂ）はプレート状の輻射誘導加熱部材を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【実施例】
【００３３】
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
［基本構造］
本発明に係るるつぼ装置を具備した真空蒸着装置は、図３に示すように、真空蒸着容器Ａの蒸着室ａ内において、るつぼ装置の加熱手段である高周波電源装置Ｂから誘導加熱源Ｃの一例である分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄ高周波電流を給電し、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄから発生する磁界により、誘導加熱部材Ｄの一例であるるつぼホルダＤＫａの一部（加熱部位）を高周波（電磁）誘導加熱し、るつぼＰａ内の蒸着材料Ｅを加熱して蒸散（蒸発または昇華）し、真空蒸着容器Ａ内で保持具に保持された基板（被蒸着材）Ｔの表面に蒸着するものである。このるつぼ装置には、長時間にわたって連続蒸着を行うために、誘導加熱源Ｃによる誘導加熱部材Ｄの全体ではなく、後述するように蒸着材料Ｅに設定された加熱域Ｈａ〜Ｈｄ（図６）に対応するるつぼホルダＤＫａの一部を集中的に加熱して、この加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅを蒸散させ、この加熱域Ｈａ〜Ｈｄを順次変位させて蒸着材料Ｅの全体を蒸散させる加熱域変位手段を設けている。また、蒸着中に加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の蒸着材料Ｅの劣化を防止するために、蒸着材料Ｅを冷却する冷却手段を設けている。ここで、蒸着材料Ｅは、高周波磁界により発熱しない非導電性の材料、または導電性ではあるが電気抵抗が小さく発熱量が小さい材料を対象としている。
【００３４】
真空蒸着容器Ａにおけるるつぼの配置構造は、図４（ａ）〜（ｆ）に示すように４つのタイプＩ〜VIがあり、また誘導加熱部材Ｄの配置構造は、図５（ａ）〜（ｈ）に示すように５つのタイプｉ〜ｖがある。さらに加熱域変位手段には、図６（ａ）（ｂ）、（ｃ）（ｄ）に示すように、誘導加熱部材Ｄの加熱域を変位させる２つのタイプα，βがあり、さらに冷却領域調整手段には、図７（ａ），（ｂ）に示すように、２つのタイプγ，δがあるので、以下に簡単に説明する。
【００３５】
図４に示すように、るつぼの配置構造には、
タイプＩ:水平に保持された基板Ｔに対して、蒸発、昇華された蒸着材料Ｅを下方から蒸着させるアップデポジションタイプで、上面開口で縦長容器形のるつぼＰａを真空蒸着容器Ａの外部に配置したるつぼ外置き形［図４（ａ）］と、
タイプII−ａ，II−ｂ：アップデポジションタイプで、るつぼＰａまたは開口面が広い皿形のるつぼＰｂを蒸着室ａ内に配置したるつぼ内置き形［図４（ｂ）（ｃ）］と、
タイプIII：垂直に保持された基板Ｔに対して、蒸発、昇華された蒸着材料Ｅを側方から蒸着させるサイドデポジションタイプで、真空蒸着容器Ａの外部にるつぼＰａを配置してノズルＧを介して真空蒸着容器Ａに導入するつぼ外置き形［図４（ｄ）］と、
タイプIV−ａ，IV−ｂ：サイドデポジションタイプで、真空蒸着容器Ａ内にるつぼＰａまたはＰｂを真空蒸着容器Ａ内に配置してノズルＧから放出するるつぼ内置き形［図４（ｅ）（ｆ）］とがある。
【００３６】
図５に示すように、誘導加熱部材Ｄには、
タイプｉ−ａ，ｉ−ｂ：外周加熱タイプで、高周波磁界により発熱しにくい材料（非導電性、または導電性で低電気抵抗の材料からなる（以下、非導電性という）からなる容器形または皿形のるつぼＰａ,Ｐｂ内に、導電性材料からなるるつぼホルダ（誘導加熱部材、外周誘導加熱部材）ＤＫａを設置し、誘導コイルＣから発生させた磁界によりるつぼホルダＤＫａの所定部位を加熱し、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを外周側から加熱して蒸散するもの［図５（ａ）（ｂ）］と、
タイプii−ａ，ii−ｂ：直接加熱タイプで、導電性で高周波磁界により発熱やすい高電気抵抗の材料（以下、導電性材料という）により形成した誘導加熱るつぼＤＰａ，ＤＰｂを使用する。そして誘導コイルＣから発生させた磁界によりるつぼＤＰａ，ＤＰｂの所定部位を加熱し、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを外周側から加熱して蒸散するもの［図５（ｃ）（ｄ）］と、
タイプiii−ａ，iii−ｂ：内装加熱タイプで、非導電性のるつぼＰａ，Ｐｂ内で蒸着材料Ｅの内部に、導電性材料からなる内装誘導加熱部材（誘導加熱部材）ＤＬを配置し、誘導コイルＣから発生させた磁界により内装誘導加熱部材ＤＬを加熱し、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを内部から加熱して蒸着材料Ｅを蒸散するもの［図５（ｅ）（ｆ）］と、
タイプiv：上面加熱タイプで、非導電性のるつぼＰａ内で蒸着材料Ｅの上面に接地するように上面加熱プレート（上面誘導加熱部材）ＤＭを昇降自在に配置し、誘導コイルＣから発生させた磁界により上面加熱プレートＤＭを加熱して、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを上面から加熱して蒸散するもの［図５（ｇ）］と、
タイプｖ：輻射誘導加熱タイプで、非導電性のるつぼＰｂで蒸着材料Ｅの上方に一定機距離だけ離間して輻射誘導加熱部材ＤＮを配置し、誘導コイルＣから発生させた磁界により輻射誘導加熱部材ＤＮの所定部位を加熱し、輻射熱により蒸着材料Ｅを部分的に加熱し蒸散するもの［図５（ｈ）］とがある。
【００３７】
図６に示すように、誘導コイルＣおよび加熱域変位手段には、
タイプα：分割切替タイプで、誘導加熱コイルＣは、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ，Ｈｅ〜Ｈｈに対応して配置された複数の分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄ，Ｃｅ〜Ｃｈからなり、スイッチＳＷａ〜ＳＷｄ，ＳＷｅ〜ＳＷｈにより高周波電流の供給を切り替えることにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応した加熱部分を変位させるもので、円筒状の分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄを使用したタイプａ［図６（ａ）］、および加熱域Ｈｅ〜Ｈｈに対応した加熱部分を変位させるもので平面状の分割誘導コイルＣｅ〜Ｃｈを使用したタイプｂ［図６（ｂ）］と、
タイプβ：移動変位タイプで、コイル移動装置Ｓにより、円筒形または平面形の可動誘導コイルＣｍａ，Ｃｍｂを加熱域Ｈａ〜Ｈｄ，Ｈｅ〜Ｈｈの配置方向に沿って移動させることにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ，Ｈｅ〜Ｈｈに対応する誘導加熱部材Ｄの加熱部位を変位させるもので、円筒状の可動誘導コイルＣｍａを使用したタイプａ［図６（ｃ）］、および平面状の可動誘導コイルＣｍｂを使用したタイプｂ［図６（ｄ）］とがある。
【００３８】
図７に示すように、冷却手段と冷却領域調整手段には、
タイプγ：全体冷却タイプで、誘導加熱部材Ｄの配置方向に沿って全体冷却ジャケットＱ，Ｒを配置し、冷却液を全体冷却ジャケットＱ，Ｒ内に均一に冷却するように供給して、蒸着材料Ｅを冷却するもので、円筒状の全体冷却ジャケットＱを使用するタイプａ［図７（ａ）］、およびプレート状の全体冷却ジャケットＲを使用するタイプｂ［図７（ｂ）］と、
タイプδ：分割冷却タイプで、複数の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄ,Ｒａ〜Ｒｄを所定の冷却領域ごとに分割配置して、それぞれの分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄ，Ｒａ〜Ｒｄに選択的に冷却液を供給することにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ，Ｈｅ〜Ｈｈに対応する蒸着材料Ｅを非冷却領域とするもので、円筒状の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄを使用するタイプａ［図７（ｃ）］、およびプレート状の分割冷却ジャケットＲａ〜Ｒｄを使用するタイプｂ［図７（ｄ）］とがある。
【００３９】
図８に示すように、誘電コイルＣの配置構造には、
タイプε：誘電コイル外装タイプで、冷却ジャケットＱ，Ｑａ〜Ｑｄ，Ｒ，Ｒａ〜Ｒｄの外側に、それぞれ分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄ，Ｃｅ〜Ｃｈが配置された［図８（ａ）〜（ｄ）］ものと、
タイプζ：誘電コイル内装タイプで、冷却ジャケットＱ，Ｑａ〜Ｑｄ，Ｒ，Ｒａ〜Ｒｄの内部に、冷却液中に浸漬されて分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄ，Ｃｅ〜Ｃｈが配置された［図８（ｅ）〜（ｆ）］ものがある。
【００４０】
［実施例１］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例１を図１〜図３を参照して説明する。
【００４１】
この実施例１は、真空蒸着装置Ａは、図４に示すアップデポジションの外部配置タイプＩやアップデポジションの内部配置タイプII−ａ、サイドデポジションの外部配置タイプIII、サイドデポジションの内部配置タイプIV−ａについて適用される。また誘導加熱部材Ｄは、図５（ａ）に示す外周加熱タイプｉで、非導電性のるつぼＰａ内に導電性のるつぼホルダＤＫａが内嵌されている。さらに冷却手段は全体冷却タイプγ−ａで、上面が開口された容器形の全体冷却ジャケットＱがるつぼＰａに外嵌され、冷却水供給装置１４から全体冷却ジャケットＱに冷却液が供給されてるつぼＰａ内の蒸着材料Ｅを全体にわたって冷却する。この冷却液は、図示しないフィンなどにより、全体冷却ジャケットＱの全体にわたって流送されて全体が均等に冷却される。
【００４２】
（冷却・加熱構造）
誘導加熱部材Ｄおよび加熱変位手段は、図６（ａ）に示す分割切替タイプα−ａ、冷却・加熱構造におけるコイル配置構造は、誘電コイル外装タイプεであるが、誘電コイル内装タイプζであってもよい。誘電コイル外装タイプεにおける誘導コイルＣは、蒸着材料Ｅに設定された加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応して、るつぼホルダＤＫａの高さ方向（加熱域の配置方向）に沿って全体冷却ジャケットＱの外周部に外嵌配置された複数の分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより構成される。
【００４３】
したがって、高周波電源装置ＢからスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを介して誘導コイルＣａ〜Ｃｄにそれぞれ高周波電流を供給する。そして、予め実験などにより求められた高周波電流と蒸散時間と蒸着材料Ｅの種類、蒸着膜厚、真空蒸着装置ＡやるつぼＰの構造などのパラメータから、蒸着量や蒸散時間に対する蒸着材料Ｅの減少量を求めるデータが蒸散データテーブル１１に記録されている。そして蒸散制御部１３では、操作器１２から入力される蒸着条件に基づいて、センサなどにより計測される蒸着量および加熱蒸着時間と、蒸散データテーブル１１のデータとに基づいてスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを操作し加熱域Ｈａ〜Ｈｄを制御する。
【００４４】
上記構成において、るつぼホルダＤＫａ内に蒸着材料Ｅが投入され、操作器１２の操作により蒸着作業が開始されると、まずスイッチＳＷａがオンされて最上段の誘導コイルＣａに高周波電流が供給され、誘導コイルＣａから発生される磁界が加熱域Ｈａに対応するるつぼホルダＤＫａの最上段部位に作用して誘導加熱され、伝導熱や輻射熱により加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散される。
【００４５】
蒸散制御部１３では、所定の蒸散時間が経過すると、蒸散データテーブル１１のデータに基づいて加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散されたと判断し、スイッチＳＷａをオフするとともにスイッチＳＷｂをオンし、最上段の加熱域Ｈａからその下位の加熱域Ｈｂに対応するつぼホルダＤＫａの部位を誘電加熱して、蒸着材料Ｅの減少に対応する。下位側に次順これを繰り返して長時間の蒸着作業を行い、蒸着材料Ｅをすべて蒸散する。
【００４６】
この蒸着作業中に、冷却水供給装置１４から全体冷却ジャケットＱに冷却液が供給されて均一に冷却され、蒸着材料Ｅ全体が均等に冷却されており、蒸着材料Ｅが加熱により劣化されるのを防止している。また全体冷却ジャケットＱによる吸熱量より、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより誘導加熱される加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの部位おける発熱量がはるかに大きいため、加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅが集中して蒸散され、加熱域Ｈａ〜Ｈｄからずれた蒸着材料Ｅが冷却されて劣化が効果的に防止される。
【００４７】
ここで、蒸着材料Ｅの劣化はＰＬ測定などにより測定することができ、図２に液晶パネルの蒸着材料Ｅであるα−ＮＤＰの計測結果を示す。
実施例１によれば、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位をそれぞれ集中して加熱することから、当該加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の蒸着材料Ｅが加熱されずに蒸着材料Ｅの劣化を防止することができるとともに、蒸散制御部１３によりスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを操作して、高周波電源装置Ｂから誘導コイルＣａ〜Ｃｄに供給する高周波電流を制御し、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位を変位させることで、蒸着材料Ｅを順次蒸発または昇華させて蒸着作業を長時間にわたって連続して行うことができる。また冷却水供給装置１４から全体冷却ジャケットＱに冷却液を供給して蒸着材料Ｅを冷却することにより劣化を防止することができ、長時間の連続蒸着を効率よく行うことができる。
【００４８】
［実施例２］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例２を、図９を参照して説明する。この実施例２は、実施例１における加熱変位手段を、分割切替タイプα−ａから移動変位タイプβ−ａに変更したもので、同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００４９】
真空蒸着装置Ａは図４に示すアップデポジション外部配置タイプＩやアップデポジション内部配置タイプII−ａ、サイドデポジション外部配置タイプIII、サイドデポジション内部配置タイプIV−ａについて適用される。また誘導加熱部材Ｄは、図５（ａ）に示す外周加熱タイプｉ−ａのつぼホルダＤＫａである。さらに冷却手段は全体冷却タイプγ−ａで、るつぼＰａに外嵌された全体冷却ジャケットＱにより冷却される。
【００５０】
（冷却・加熱構造）
そして、誘導加熱部材Ｄおよび加熱変位手段は移動変位タイプβ−ａであり、冷却・加熱構造におけるコイル配置構造は、誘電コイル外装タイプεであるが、誘電コイル内装タイプζであってもよい。そしてコイル移動装置Ｓにより、全体冷却ジャケットＱに昇降自在に遊嵌された円筒形の可動誘導コイルＣｍａを上下方向に移動させることにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位を変位させることができる。
【００５１】
コイル移動装置Ｓは、架台１５に加熱域Ｈａ〜Ｈｄの配置方向（上下方向）に沿うねじ軸１６が回転自在に支持され、可動誘導コイルＣｍａがコイル保持具１７に保持されれるとともに、このコイル保持具１７に、ねじ軸１６に螺合する雌ねじ部材１８が取り付けられている。そしてねじ軸１６の下端部に、減速機付の変位モータ１９の出力軸が連結され、蒸散制御部１３によりモータ制御器２０を介して変位モータ１９が操作される。２１は保持具１７を案内する一対のガイドロッドである。
【００５２】
したがって、高周波電源装置Ｂから伸縮可能な給電ケーブル２２を介して可動誘導コイルＣｍａに高周波電流を供給して、可動誘導コイルＣｍａから発生した磁界によりるつぼホルダＤＫａの所定の加熱部位を加熱し、伝導熱や輻射熱により加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅを蒸散させる。また蒸散制御部１３では、操作器１２から入力される蒸着条件により、蒸散データテーブル１１のデータに基づいて蒸散時間をカウントする。そして、その加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅが蒸散される蒸散時間が経過すると、モータ制御器２０を介してコイル移動装置Ｓの変位モータ１９を駆動し、可動誘導コイルＣｍａを変位させて、次の加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位を誘導加熱する。
【００５３】
上記構成において、るつぼホルダＤＫａ内に蒸着材料Ｅが投入され、操作器１２の操作により蒸着作業が開始されると、最上位の加熱域Ｈａに対応して配置された可動誘導コイルＣｍａに高周波電源装置Ｂから高周波電流が供給されて、可動誘導コイルＣｍａから発生された磁界が作用し最上段の部位が誘導加熱され、加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散される。
【００５４】
蒸散制御部１３では、蒸散データテーブル１１のデータに基づいて、所定の蒸散時間が経過すると、加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散されたと判断し、コイル移動装置Ｓを駆動して可動誘導コイルＣｍａを下降し、次の加熱域Ｈｂの対応位置で停止させ、次の加熱域Ｈｂに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位を誘導加熱し、加熱域Ｈｂの蒸着材料Ｅの蒸散する。次の各加熱域Ｈｃ，Ｈｄに対して順次これを繰り返し、長時間の蒸着作業を行ってすべての蒸着材料Ｅを蒸散する。
【００５５】
この蒸着作業中に、冷却水供給装置１４から全体冷却ジャケットＱに冷却液が供給されて蒸着材料Ｅが均一に冷却され、加熱域Ｈａ〜Ｈｄの熱により蒸着材料Ｅが劣化されるのを防止している。
【００５６】
実施例２によれば、コイル移動装置Ｓを操作して可動誘導コイルＣｍａをるつぼホルダＤＫａの加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って変位させることで、加熱域Ｈａ〜Ｈｄを順次加熱して、蒸着作業を長時間にわたって連続して行うことができる。全体冷却ジャケットＱにより蒸着材料Ｅを冷却するので、蒸着材料Ｅの劣化を防止して長時間の連続蒸着を行うことができる。
【００５７】
［実施例３］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例３を図１０を参照して説明する。この実施例３は、実施例１において全体に均等に冷却する全体冷却タイプγ−ａを、非冷却領域を変位可能に設けることができる分割冷却タイプδ−ａに変更したもので、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００５８】
真空蒸着容器Ａは、図４に示すアップデポジション外部配置タイプＩやアップデポジション内部配置タイプII−ａ、サイドデポジション外部配置タイプIII、サイドデポジション内部配置タイプIV−ａについて適用される。また誘導加熱部材Ｄは、図５（ａ）に示す外周加熱タイプｉ−ａのるつぼホルダＤＫａである。
【００５９】
さらに冷却手段は図７（ｃ）に示す分割冷却タイプδ−ａであり、るつぼＰａに外嵌されて加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する冷却領域ごとに分割された複数の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄと、冷却水供給装置１４から各分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄに冷却液を供給する給液管および排液管と、給液管にそれぞれ介在された開閉弁２３ａ〜２３ｄとを具備し、蒸散制御部１３により前記各開閉弁２３ａ〜２３ｄを選択的に操作して、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄへの冷却液の供給を停止し非冷却領域とすることができる。
【００６０】
（冷却・加熱構造）
誘導加熱部材Ｄおよび加熱変位手段は図６（ａ）に示す分割切替タイプα−ａであり、また冷却・加熱構造におけるコイル配置構造は、図８（ｂ）に示す誘電コイル外装タイプεで、各分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄの外周部に、るつぼホルダＤＫａの高さ方向（加熱域の移動方向）に沿って誘導コイルＣａ〜Ｃｄが配置され、高周波電源装置ＢからスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを介して分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにそれぞれ高周波電流が選択的に供給される。
【００６１】
そして蒸散制御部１３では、操作器１２から入力される蒸着条件と、蒸散データテーブル１１のデータとに基づいてスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを操作し、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄに高周波電流を順次供給して、加熱域Ｈａ〜Ｈｄを制御する。同時に、蒸散制御部１３により前記開閉弁２３ａ〜２３ｄを操作し、分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄへの冷却液の供給を停止し非冷却領域を制御する。
【００６２】
上記構成において、るつぼホルダＤＫａ内に蒸着材料Ｅが投入され、操作器１２の操作により蒸着作業が開始されると、高周波電源装置Ｂから最上位の加熱域Ｈａに対応する分割誘導コイルＣａに高周波電流が供給され、可動誘導コイルＣｍａから発生される磁界がるつぼホルダＤＫａの最上部に作用して誘導加熱し、加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散される。同時に、開閉弁２３ａを閉じて加熱域Ｈａに対応する分割冷却ジャケットＱａへの冷却液の供給を停止し、非冷却領域とする。これにより、加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅを効率よく蒸散する。
【００６３】
蒸散制御部１３では、所定の蒸散時間が経過すると、蒸散データテーブル１１のデータに基づいて加熱域Ｈａの蒸着材料Ｅが蒸散されたと判断し、スイッチＳＷａをオフするとともにスイッチＳＷｂをオンし、最上段の加熱域Ｈａから次の加熱域Ｈｂ変位させて分割誘導コイルＣｂに高周波電流を供給し、次に対応するるつぼホルダＤＫａの部位を誘導加熱し加熱域Ｈｂの蒸着材料Ｅが蒸散する。同時に開閉弁２３ａを開けて分割冷却ジャケットＱａに冷却液を供給するとともに、開閉弁２３ｂを閉じて非冷却領域とする。順次これを繰り返して長時間の蒸着作業を行い、蒸着材料Ｅをすべて蒸散する。
【００６４】
実施例３によれば、蒸着作業中に、選択された加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄに冷却液の供給を停止して非冷却領域とするとともに、その他の加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄに冷却液を供給して、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の蒸着材料Ｅを冷却することにより、蒸着材料Ｅの劣化を防止しつつ加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅを効率よく蒸散することができ、長時間の連続蒸着を行うことができる。
【００６５】
なお、変形例として図１１を示す。この実施例３における真空蒸着容器Ａは、図４に示すアップデポジション外部配置タイプＩやアップデポジション内部配置タイプII−ａ、サイドデポジション外部配置タイプIII、サイドデポジション内部配置タイプIV−ａについて適用される。また誘導加熱部材Ｄは、図５（ｃ）に示す直接加熱タイプii−ａで、誘導加熱るつぼＤＰａを使用するように図示されているが、外周加熱タイプｉ−ａや内装加熱タイプiii−ａ、上面加熱タイプivであってもよい。また誘電コイルＣは、分割冷却ジャケットＱｂ内にそれぞれ分割誘電コイルＣａ〜Ｃｄを内装した内装タイプζ：図８（ｇ）としたものである。この実施例３の変形例も、実施例３と同様の作用効果を奏することができる。
【００６６】
［実施例４］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例４を図１２を参照して説明する。この実施例４は、実施例２における誘導加熱部材Ｄおよび加熱変位手段が移動変位タイプβ−ａと、非冷却領域を形成しかつこの非冷却領域を変位させることができる分割冷却タイプδ−ａとを組み合わせたもので、なお、同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００６７】
分割冷却タイプδ−ａは、るつぼＰａに外嵌されて所定の冷却領域ごとに分割された複数の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄと、冷却水供給装置１４から各分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄに冷却液を供給する給液管に介在された開閉弁２３ａ〜２３ｄとを具備し、給液管および排液管は、それぞれ他の分割冷却ジャケットＱｂ〜Ｑｄを貫通して設けられている。
【００６８】
実施例４によれば、可動誘導コイルＣｍａにより加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫａの加熱部位をそれぞれ集中して加熱すると同時に、選択された加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応して配置された冷却領域の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄへの冷却液の供給を停止して非冷却領域とすることにより、当該加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅのみを効果的に加熱し、残りの蒸着材料Ｅが冷却されるので、蒸着材料Ｅの劣化を効果的に防止できる。そしてコイル移動装置Ｓを操作して可動誘導コイルＣｍａを加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って変位させることで、加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅを順次加熱して、蒸着作業を長時間にわたって連続して行うことができる。
【００６９】
［実施例５］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例５を、図１３を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００７０】
この実施例５は、真空蒸着容器Ａは、図４に示すアップデポジション外部配置タイプＩやアップデポジション内部配置タイプII−ａ、サイドデポジション外部配置タイプIII、サイドデポジション内部配置タイプIV−ａについて適用される。また誘導加熱部材Ｄは、図５（ｅ）に示す内装加熱タイプiiiで、非導電性のるつぼＰａ内で蒸着材料Ｅ内の軸心位置に、導電性材料からなるロッド状の内装誘導加熱部材ＤＬが加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応して配置されている。そして、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより内装誘導加熱部材ＤＬを加熱し、伝導熱や輻射熱により蒸着材料Ｅを内部から加熱し、蒸着材料Ｅを蒸散するものである。
【００７１】
さらに冷却手段は、図７（ｃ）に示す分割冷却タイプδ−ａで、るつぼＰａに外嵌されて加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する冷却領域ごとに分割された複数の分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄと、冷却水供給装置１４から各分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄに冷却液を供給する給液管および排液管と、給液管にそれぞれ介在された開閉弁２３ａ〜２３ｄとを具備し、蒸散制御部１３により各開閉弁２３ａ〜２３ｄをそれぞれ操作して、加熱域に対応する分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄを非冷却領域とすることができる。
【００７２】
（冷却・加熱構造）
誘導加熱部材Ｄおよび加熱変位手段は、図６（ａ）に示す分割切替タイプα−ａで、冷却・加熱構造におけるコイル配置構造は、図８（ｂ）に示す誘電コイル外装タイプεであるが、図８（ｇ）に示す誘電コイル内装タイプζであってもよく、複数の分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより構成される。
【００７３】
上記実施例５によれば、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する内装誘導加熱部材ＤＬの所定部位を順次誘導加熱して、蒸着材料Ｅを内部から加熱し蒸着材料Ｅを蒸散することができる。また加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄを非冷却領域として、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の蒸着材料Ｅのみを冷却することができる。したがって、蒸着材料Ｅの劣化を防止しつつ、蒸着材料Ｅを長時間にわたって蒸散することができ、長時間の連続蒸着が可能となる。
【００７４】
なお、図１５の実施例５の他の変形例に示すように、可動誘電コイルＣｍａにより内装誘導加熱部材ＤＬを加熱することもできる。また、ここで冷却手段は、全体冷却ジャケットＱを使用した全体冷却タイプγ−ａとしている。
【００７５】
また、図１３では、内装誘導加熱部材ＤＬをるつぼＰａの軸心部に１本配置したが、図１４（ａ）、（ｂ）に示すように、軸心を中心とする円弧上に複数本の内装誘導加熱部材ＤＬを配置することにより、内装誘導加熱部材ＤＬと蒸着部材Ｅとの接触面積を増加させて、効率よく蒸散させることができる。
【００７６】
［実施例６］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例６を、図１６および図１７を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００７７】
この実施例６は、実施例５における内装誘導加熱部材ＤＬを、図５（ｇ）に示す上面加熱タイプivとして上面加熱プレート（上面誘導加熱部材）ＤＭを使用するものである。この上面加熱プレートＤＭは、図１７（ａ）に示すように円板状か、または図１７（ｂ）に示すように、円板に単数または複数の蒸散孔２４が形成されている。
【００７８】
真空蒸着容器装置Ａは、図４に示すアップデポジション外部配置タイプＩやアップデポジション内部配置タイプII−ａ、サイドデポジション外部配置タイプIII、サイドデポジション内部配置タイプIV−ａについて適用される。そして、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄにより、上面加熱プレートＤＭを加熱し、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを上面から加熱し、蒸着材料Ｅを蒸散するものである。
【００７９】
導電性のるつぼＰａ内で蒸着材料Ｅの上面に支持されるように上面加熱プレートＤＭが配置され、誘導コイルＣにより上面加熱プレートＤＭを誘導加熱して、主に伝導熱により蒸着材料Ｅを上面から加熱して蒸散させる。蒸散により蒸着材料Ｅが減少して上面加熱プレートＤＭが下降され、上面加熱プレートＤＭが加熱域Ｈａ〜Ｈｄに達すると、蒸散制御部１３によりスイッチＳＷａ〜ＳＷｄを操作して高周波電流を供給する分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄを下位側に切り替え、高密度の磁界内に上面加熱プレートＤＭが配置されるように制御される。また上面加熱プレートＤＭの変位にしたがって冷却領域も変位される。
【００８０】
もちろん、図１８に示す実施例６の変形例のように、上面加熱プレートＤＭの下降に従って、コイル移動装置Ｓにより可動誘導コイルＣｍａを下降させるようにしてもよい。
上記実施例６や実施例６の変形例によれば、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄまたは可動誘導コイルＤｍにより、蒸着材料Ｅの上面に配置した上面加熱プレートＤＭを誘導加熱し、伝導熱や輻射熱により上面加熱プレートＤＭに接する蒸着材料Ｅを加熱して蒸散させる。そして蒸散により減少する蒸着材料Ｅに従って上面加熱プレートＤＭが下降されると、給電する分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄを下位側に変更したり、あるいはコイル移動装置Ｓにより可動誘導コイルＤｍを下方に変位させて、高密度な磁界が上面加熱プレートＤＭに作用するように制御して、誘導加熱を継続させることにより、長時間にわたって蒸着材料Ｅを蒸散することができる。一方、冷却領域調整手段により、選択された加熱域Ｈａ〜Ｈｄを非冷却領域とし、残りの蒸着材料Ｅを冷却することができる。したがって、蒸着材料Ｅの劣化を防止しつつ、蒸着材料Ｅを長時間にわたって蒸散することができ、長時間の連続蒸着が可能となる。
【００８１】
［実施例７］
以下、本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例７を、図１９を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００８２】
この実施例７は、図４に示す開口面が広い皿形のるつぼ（ボート）Ｐｂを使用するもので、アップデポジション内部配置タイプタイプII−ｂ，サイドデポジション内部配置タイプタイプIV−ｂについて適用される。そして、誘導加熱部材Ｄは、図５（ｄ）に示す直接加熱タイプii−ｂで、るつぼＰｂに導電性材料により形成される誘電加熱るつぼＤＰｂが使用され、分割誘導コイルＣａ〜Ｃｄから発生される磁界により、誘導加熱るつぼＤＰｂの所定の加熱部位を誘導加熱して、伝導熱や輻射熱により蒸着材料Ｅを蒸散するものである。
【００８３】
冷却手段は、図７（ｄ）に示すタイプδ−ｂで、真空蒸着容器Ａの底部外側に加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する冷却領域ごとに分割された複数の分割冷却ジャケットＲａ〜Ｒｄと、冷却水供給装置１４から各分割冷却ジャケットＲａ〜Ｒｄに冷却液を供給する給液管および排液管と、冷却液を循環供給する冷却液供給装置１４と、給液管にそれぞれ介在されたに介在された開閉弁２３ａ〜２３ｄとを具備している。そして、蒸散制御部１３により前記各開閉弁２３ａ〜２３ｄを操作して、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄへの冷却液の供給を停止して、非冷却領域とすることができる。
【００８４】
加熱変位手段は、図６（ｂ）に示す分割切替タイプα−ｂ、誘導コイルＣの配置構造は、図８（ｈ）に示す内装外装タイプζであって、分割冷却ジャケットＱａ〜Ｑｄ内に分割誘電コイルＣｅ〜Ｃｈがそれぞれ配置されている。
【００８５】
上記実施例７によれば、最初の分割誘導コイルＣｅから発生された磁界により、加熱域Ｈａに対応する導電性の誘導加熱るつぼＤＰｂの所定部位を加熱し、伝導熱や輻射熱により当該加熱域Ｈａ内の蒸着材料Ｅを加熱して蒸散させる。そして加熱域Ｈｅ内の蒸着材料Ｅが減少すると、分割誘導コイルＣｅへの高周波電流の給電を停止するとともに、次の加熱域Ｈｂの分割誘導コイルＣｆに高周波電流を給電し、加熱域Ｈｂに対応する誘導加熱るつぼＤＰｂの次の部位を加熱し、伝導熱や輻射熱により当該加熱域Ｈｆ内の蒸着材料Ｅを加熱して蒸散させる。
【００８６】
一方、選択された加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応する分割冷却ジャケットＲａ〜Ｒｄ対して冷却水の供給を停止し非冷却領域とするとともに、残りの蒸着材料Ｅを冷却することにより、蒸着材料Ｅの劣化を防止しつつ、蒸着材料Ｅを長時間にわたって蒸散することができ、長時間の連続蒸着が可能となる。
【００８７】
［実施例８］
本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例８を、図２０を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００８８】
この実施例８は、皿形のるつぼＰｂ内に導電性のるつぼホルダＤＫｂを配置した外周加熱タイプi−ｂで、るつぼＤＰｂを蒸着室ａ内に配置したアップデポジション内部配置タイプタイプII−ｂやサイドデポジション内部配置タイプタイプIV−ｂについて適用される。そして、可動コイルＣｍｂから発生される磁界により、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫｂの所定部位を誘導加熱して、伝導熱や輻射熱により蒸着材料Ｅを蒸散するものである。
【００８９】
冷却手段は、図７（ｂ）に示すタイプγ−ｂで、るつぼＰｂの底部外側に全体冷却ジャケットＲと、冷却水供給装置１４から全体冷却ジャケットＲに冷却液を供給する給液管および排液管と、冷却液を循環供給する冷却液供給装置１４とを具備している。
【００９０】
誘導コイルＣおよび加熱域変位手段については、図６（ｄ）に示すように、コイル移動装置Ｓにより、可動誘導コイルＣｍｂを加熱域Ｈａ〜Ｈｄの配置方向に沿って移動させる移動変位タイプβ−ｂである。誘導コイルＣｍｂは全体冷却ジャケットＲの下部側方に配置されている。
【００９１】
上記実施例８によれば、コイル移動装置Ｓにより可動誘導コイルＣｍｂを加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って移動させることにより、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに対応するるつぼホルダＤＫｂの加熱部位を変位させ、伝導熱や輻射熱により当該加熱域Ｈａ〜Ｈｄの蒸着材料Ｅを順次加熱して蒸散させることができる。また全体冷却ジャケットＲに冷却水を供給して、蒸着材料Ｅ全体を冷却することから、加熱域Ｈａ〜Ｈｄ以外の蒸着材料Ｅが熱により劣化させることがない。したがって、蒸着材料Ｅの劣化を防止しつつ、蒸着材料Ｅを長時間にわたって蒸散することができ、長時間の連続蒸着が可能となる。
【００９２】
［実施例９］
本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例９を、図２１および図２２を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００９３】
実施例７では、直接加熱タイプii−ｂの誘導加熱るつぼＤＰｂを使用したのに対して、この実施例９では、図５（ｆ）に示す内装加熱タイプiii−ｂとしたものであり、他の構造は実施例７と同じである。
【００９４】
るつぼＰｂ内で蒸着材料Ｅの内部に配置される内装誘導加熱材ＤＬは、たとえば図２２（ａ）に示すように、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って配置された単数または複数のロッド状の内装誘導加熱部材ＤＬや、また図２２（ｂ）に示すように、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って配置されて複数または多数の蒸散孔２５が形成されたプレート状の内装誘導加熱部材ＤＬにより構成される。
【００９５】
上記実施例９によれば、実施例７の作用効果に加えて、ロッド状やプレート状の内装誘導加熱部材ＤＬが蒸着材料Ｅと接触する面が広く、伝導熱および輻射熱をより効果的に蒸着材料Ｅに伝達することができ、誘導加熱される内装誘導加熱材ＤＬの熱効率を向上させることができる。
【００９６】
［実施例１０］
本発明に係る真空蒸着用るつぼ装置の実施例１０を、図２３および図２４を参照して説明する。なお、先の実施例と同一部材には同一符号を付して説明を省略する。
【００９７】
実施例８では誘導加熱部材ＤをるつぼホルダＤＫｂとしたのに対して、この実施例１０では、図５（ｈ）に示す輻射誘導加熱タイプｖとしたもので、他の構造は実施例８と同じである。
【００９８】
るつぼＰｂの上方には、蒸着材料Ｅから一定距離を隔てて輻射誘導加熱材ＤＮが支持部材を介して配置されている。この輻射誘導加熱材ＤＮは、たとえば図２４（ａ）に示すように、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って配置された単数または複数のロッド状の輻射誘導加熱部材ＤＮや、また図２４（ｂ）に示すように、加熱域Ｈａ〜Ｈｄに沿って配置されて複数または多数の蒸散孔２６が形成されたプレート状の輻射誘導加熱部材ＤＮにより構成される。
【００９９】
上記実施例９によれば、実施例８の作用効果に加えて、ロッド状やプレート状の輻射誘導加熱部材ＤＮが蒸着材料Ｅに対して一定距離をあけて配置されていることから、輻射熱を各加熱域Ｈａ〜Ｈｄの全体にわたって均一に供給することができ、安定した加熱と蒸散を行うことができる。
【符号の説明】
【０１００】
Ａ 真空蒸着容器
Ｂ 高周波電源装置
Ｃ 誘導コイル
Ｃａ〜Ｃｄ，Ｃｅ〜Ｃｈ 分割誘導コイル
Ｃｍａ，Ｃｍｂ 可動誘導コイル
Ｄ 誘導加熱部材
ＤＰａ，ＤＰｂ 導電性のるつぼ
ＤＫａ，ＤＫｂ るつぼホルダ
ＤＬ 内装誘導加熱部材
ＤＭ 上面加熱プレート
ＤＮ 輻射誘導加熱部材
Ｅ 蒸着材料
Ｇ ノズル
Ｑ，Ｒ 全体冷却ジャケット
Ｑａ〜Ｑｄ 分割冷却ジャケット
Ｒａ〜Ｒｄ 分割冷却ジャケット
Ｈａ〜Ｈｄ，Ｈｅ〜Ｈｈ 加熱域
Ｐａ，Ｐｂ るつぼ
ＳＷａ〜ＳＷｄ，ＳＷｅ〜ＳＷｈ スイッチ
Ｓ コイル移動装置
Ｔ 基板
１１ 蒸散データテーブル
１２ 操作器
１３ 蒸散制御部
１４ 冷却液供給装置
２３ａ〜２３ｄ 開閉弁
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
前記るつぼに、誘導加熱可能な材料により形成された誘導加熱るつぼを使用し、
前記誘導加熱るつぼに収容された蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設置された誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの部位を誘導加熱して、当該加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
最初の加熱域の蒸着材料が蒸発または昇華された後、前記誘導加熱源から発生される磁界を操作して、次の加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの所定部位を誘導加熱することにより、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行う
ことを特徴とする真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項２】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
蒸着材料に接して配置されるとともに誘導加熱可能な材料により形成された誘導加熱部材を内装したるつぼを使用し、
るつぼ内の蒸着材料に、複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する前記誘導加熱部材の部位を誘導加熱して、当該加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
当該加熱域に対応する蒸着材料が蒸発または昇華された後、前記誘導加熱源から発生される磁界を操作して、次の加熱域に対応する誘導加熱部材の部位誘導加熱し、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行う
ことを特徴とする真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項３】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
誘導加熱可能な材料からなり蒸着材料の上面に支持される上面誘導加熱部材を設けたるつぼを使用し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、前記上面誘導加熱部材を誘導加熱して、当該上面誘導加熱部材下部の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
蒸着材料の減少に従って下降する上面誘導加熱部材に対応して誘導加熱源から発生させる磁界を操作し、当該上面誘導加熱部材を連続して誘導加熱する
ことを特徴とする真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項４】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発、昇華させるに際し、
誘導加熱可能な材料からなる輻射加熱部材を、蒸着材料の上方に所定距離をあけて配置したるつぼを使用し、
るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する輻射加熱部材の部位を誘導加熱して、当該輻射加熱部材からの輻射熱により最初の加熱域の蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させ、
最初の加熱域の蒸着材料が蒸発または昇華された後、誘導加熱源から発生された磁界を操作して、次の加熱域に対応する前記輻射加熱部材の部位を誘導加熱し、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行う
ことを特徴とする真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項５】
るつぼの外側に設けられた冷却手段により蒸着材料全体を冷却する
ことを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項６】
るつぼの外側に設けられた冷却手段により、加熱域を非冷却領域として冷却せず、その他の加熱域の蒸着材料を冷却し、
前記加熱域の変位に対応して、前記非冷却領域を変位させる
ことを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項７】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼを誘導加熱可能な導電性材料により形成された誘導加熱るつぼとするとともに、当該誘導加熱るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
前記誘導加熱るつぼの外側に、前記誘導加熱るつぼを誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた
ことを特徴とする真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項８】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼ内に、蒸着材料を収容するとともに誘導加熱可能な導電性材料からなるるつぼホルダを設けるとともに、当該るつぼホルダ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記るつぼホルダを誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、前記加熱域に対応する前記るつぼホルダの部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた
ことを特徴とする真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項９】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料中に、誘導加熱可能な導電性材料からなる内装誘導加熱部材を設けるとともに、蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記内装誘導加熱部材を誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記内装誘導加熱部材の部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた
ことを特徴とする真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１０】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料の上面に支持されて、誘導加熱可能な導電性材料からなる上面誘導加熱部材を設け、
るつぼの外側に、前記上面誘導加熱部材を誘導加熱して当該上面誘導加熱部材下部の蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、蒸着材料の減少に従って下降する上面誘導加熱部材を誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた
ことを特徴とする真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１１】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料の上方に離間して配置されて、誘導加熱可能な導電性材料からなる輻射誘導加熱部材を設け、
るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記輻射誘導加熱部材を誘導加熱可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記輻射誘導加熱部材の部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた
ことを特徴とする真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１２】
誘導加熱源を、加熱域に対応して分割配置された複数の分割誘導コイルとし、
加熱域変位手段を、前記各分割誘導コイルにそれぞれ供給する高周波電流をオン、オフ制御する蒸散制御装置により構成した
ことを特徴とする請求項７乃至１１の何れかに記載の真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１３】
誘導加熱源を、加熱域の配置方向に移動自在に配置された可動誘導コイルとし、
加熱域変位手段を、前記可動誘導コイルを移動可能なコイル移動装置と、当該コイル移動装置を操作し、加熱域に対応して前記可動誘導コイルを移動させる蒸散制御装置により構成した
ことを特徴とする請求項７乃至１１の何れかに記載の真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１４】
るつぼの外側に冷却手段を設け、
前記冷却手段を、冷却液が給、排出されて蒸着材料全体を均一に冷却する全体冷却ジャケットにより構成した
ことを特徴とする請求項７乃至１３の何れかに記載の真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１５】
るつぼの外側に冷却手段を設け、
前記冷却手段を、加熱域に対応して複数に分割配置され分割冷却ジャケットにより構成し、
前記加熱域に対応する前記分割冷却ジャケットへの冷却液の供給を停止するとともに、前記加熱域の変位に対応して、冷却液の供給を停止する分割冷却ジャケットを変更可能な蒸散制御装置を設けた
ことを特徴とする請求項７乃至１３の何れかに記載の真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
前記るつぼに、誘導加熱可能な材料により形成された誘導加熱るつぼを使用し、
前記誘導加熱るつぼに収容された蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設置された誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの部位を誘導加熱して、当該加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
最初の加熱域の蒸着材料が蒸発または昇華された後、前記誘導加熱源から発生される磁界を操作して、次の加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの所定部位を誘導加熱することにより、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行う
ことを特徴とする真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項２】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
蒸着材料に接して配置されるとともに誘導加熱可能な材料により形成された誘導加熱部材を内装したるつぼを使用し、
るつぼ内の蒸着材料に、複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する前記誘導加熱部材の部位を誘導加熱して、当該加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
当該加熱域に対応する蒸着材料が蒸発または昇華された後、前記誘導加熱源から発生される磁界を操作して、次の加熱域に対応する誘導加熱部材の部位誘導加熱し、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行う
ことを特徴とする真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項３】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させるに際し、
誘導加熱可能な材料からなり蒸着材料の上面に支持される上面誘導加熱部材を設けたるつぼを使用し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、前記上面誘導加熱部材を誘導加熱して、当該上面誘導加熱部材下部の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
蒸着材料の減少に従って下降する上面誘導加熱部材に対応して誘導加熱源から発生させる磁界を操作し、当該上面誘導加熱部材を連続して誘導加熱する
ことを特徴とする真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項４】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に蒸着材料の薄膜を蒸着するために、るつぼ内に収容された蒸着材料を加熱して蒸発、昇華させるに際し、
誘導加熱可能な材料からなる輻射加熱部材を、蒸着材料の上方に所定距離をあけて配置したるつぼを使用し、
るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に設けられた誘導加熱源から発生された磁界により、最初の加熱域に対応する輻射加熱部材の部位を誘導加熱して、当該輻射加熱部材からの輻射熱により最初の加熱域の蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させ、
最初の加熱域の蒸着材料が蒸発または昇華された後、誘導加熱源から発生された磁界を操作して、次の加熱域に対応する前記輻射加熱部材の部位を誘導加熱し、次の加熱域の蒸着材料を蒸発または昇華させ、
これを繰り返して蒸着作業を連続して行う
ことを特徴とする真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項５】
るつぼの外側に設けられた冷却手段により蒸着材料全体を冷却する
ことを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項６】
るつぼの外側に設けられた冷却手段により、加熱域を非冷却領域として冷却せず、その他の加熱域の蒸着材料を冷却し、
前記加熱域の変位に対応して、前記非冷却領域を変位させる
ことを特徴とする請求項１乃至４の何れかに記載の真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法。
【請求項７】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼを誘導加熱可能な導電性材料により形成された誘導加熱るつぼとするとともに、当該誘導加熱るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
前記誘導加熱るつぼの外側に、前記誘導加熱るつぼを誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記誘導加熱るつぼの部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた
ことを特徴とする真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項８】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼ内に、蒸着材料を収容するとともに誘導加熱可能な導電性材料からなるるつぼホルダを設けるとともに、当該るつぼホルダ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記るつぼホルダを誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、前記加熱域に対応する前記るつぼホルダの部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた
ことを特徴とする真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項９】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料中に、誘導加熱可能な導電性材料からなる内装誘導加熱部材を設けるとともに、蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記内装誘導加熱部材を誘導加熱して蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記内装誘導加熱部材の部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた
ことを特徴とする真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１０】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料の上面に支持されて、誘導加熱可能な導電性材料からなる上面誘導加熱部材を設け、
るつぼの外側に、前記上面誘導加熱部材を誘導加熱して当該上面誘導加熱部材下部の蒸着材料を蒸発または昇華可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、蒸着材料の減少に従って下降する上面誘導加熱部材を誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた
ことを特徴とする真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１１】
真空蒸着容器内で被蒸着材の表面に薄膜を蒸着するために、蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させる真空蒸着用るつぼ装置において、
るつぼに収容された蒸着材料の上方に離間して配置されて、誘導加熱可能な導電性材料からなる輻射誘導加熱部材を設け、
るつぼ内の蒸着材料に複数の加熱域を設定し、
るつぼの外側に、前記輻射誘導加熱部材を誘導加熱可能な誘導加熱源を設け、
当該誘導加熱源から発生する磁界を操作して、加熱域に対応する前記輻射誘導加熱部材の部位を選択的に誘導加熱可能な加熱域変位手段を設けた
ことを特徴とする真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１２】
誘導加熱源を、加熱域に対応して分割配置された複数の分割誘導コイルとし、
加熱域変位手段を、前記各分割誘導コイルにそれぞれ供給する高周波電流をオン、オフ制御する蒸散制御装置により構成した
ことを特徴とする請求項７乃至１１の何れかに記載の真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１３】
誘導加熱源を、加熱域の配置方向に移動自在に配置された可動誘導コイルとし、
加熱域変位手段を、前記可動誘導コイルを移動可能なコイル移動装置と、当該コイル移動装置を操作し、加熱域に対応して前記可動誘導コイルを移動させる蒸散制御装置により構成した
ことを特徴とする請求項７乃至１１の何れかに記載の真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１４】
るつぼの外側に冷却手段を設け、
前記冷却手段を、冷却液が給、排出されて蒸着材料全体を均一に冷却する全体冷却ジャケットにより構成した
ことを特徴とする請求項７乃至１３の何れかに記載の真空蒸着用るつぼ装置。
【請求項１５】
るつぼの外側に冷却手段を設け、
前記冷却手段を、加熱域に対応して複数に分割配置され分割冷却ジャケットにより構成し、
前記加熱域に対応する前記分割冷却ジャケットへの冷却液の供給を停止するとともに、前記加熱域の変位に対応して、冷却液の供給を停止する分割冷却ジャケットを変更可能な蒸散制御装置を設けた
ことを特徴とする請求項７乃至１３の何れかに記載の真空蒸着用るつぼ装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【公開番号】特開２０１１−５２３０１（Ｐ２０１１−５２３０１Ａ）
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２０４１９０（Ｐ２００９−２０４１９０）
【出願日】平成２１年９月４日（２００９．９．４）
【出願人】（０００００５１１９）日立造船株式会社 (764)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年３月１７日（２０１１．３．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月４日（２００９．９．４）
【出願人】（０００００５１１９）日立造船株式会社 (764)
【Ｆターム（参考）】
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