転写用原型及びその製造方法、フィルム成型用型、タッチパネル用光学フィルム、並びにタッチパネル用光学部材
【課題】 主面上に凹凸形状を有するフィルムの製造に用いることができる転写原型及びフィルム成型用型を提供すること、並びに、これらの型を用いて得られるタッチパネル用光学フィルム、並びにタッチパネル用光学部材を提供すること。
【解決手段】 本発明の転写原型１０００は、凹凸表面を有し、該凹凸表面から所定の部材表面に凹凸形状を転写するための転写原型であって、基体１０１０と、該基体の表面にめっきにより固定された複数の粒子１０２０とを備える。
【解決手段】 本発明の転写原型１０００は、凹凸表面を有し、該凹凸表面から所定の部材表面に凹凸形状を転写するための転写原型であって、基体１０１０と、該基体の表面にめっきにより固定された複数の粒子１０２０とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定の部材表面に凹凸形状を転写するための凹凸表面を有する転写用原型及びフィルム成型用型、並びに、それらを用いて製造されるタッチパネル用光学フィルム及びタッチパネル用光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置の多機能化にともない、タッチパネルに代表される入力装置が近年広く用いられている。タッチパネルは、指またはペンなどでタッチした位置を感知することのできる入力装置であり、多くの場合、表示装置としての機能も有している。タッチパネルの用途としては、例えば携帯電話や携帯情報端末機（ＰＤＡ）などのモバイル機器、銀行の現金自動預入支払機が挙げられる。
【０００３】
タッチパネルがタッチされた位置を検出する方式としては、例えば、抵抗膜方式、静電容量方式、光センサー方式が知られている。
【０００４】
抵抗膜方式タッチパネルは、一般に、表示装置の画面上に配置されたガラス基板表面に透明導電膜が形成され、その上に微小なスペーサーを配置し、さらにその上に透明導電膜が形成されたフィルムを貼り付けた構造を有している。フィルム面がタッチされていないときには透明導電膜同士はスペーサーによって非接触の状態にあるが、フィルム面をタッチすることによってフィルムが圧力でたわんで透明導電膜同士が接触し、導通を生じる。この導通部分における抵抗変化に基づいて、タッチされた位置が検出される。抵抗膜方式は、指でもペンでも入力が可能であり、生産コストを安くすることができるなどの特長を持つ。その反面、透明導電膜が脆いため、タッチしたときの屈曲を繰り返すことによって剥がれなどの劣化が生じ、検出の感度、分解能損失、透過率低下を引き起こすなど耐久性が低く、また一般的に透過率が低いなどの問題を有している（特許文献１及び２）。
【０００５】
静電容量方式タッチパネルは、電気容量を検出する１層の透明導電膜を含む構造を有している。タッチされた部分の容量結合電気信号の変化を感知することによって、タッチされた位置を検出することができる。静電容量方式は、抵抗膜方式に比べて耐久性及び透過率に優れている。しかしながら、指または導電性を有する特殊なペンでのみ操作可能であり、手袋を装着した指や非導電性のペンでは入力ができないなどの問題がある（特許文献１）。
【０００６】
光センサー方式では、光を感知する機能を有する光センサーが表示装置に実装される。タッチの有無を光センサーが受光量の変化として検出する。表示装置が液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）である場合、光センサーは例えば液晶セル内に配置される。タッチパネル上に指を置くと、光センサーに入射する外光が指によって遮光され、光センサーの受光量が変化する。この変化によってタッチした位置が検出される（特許文献３）。光センサー方式では、表示装置の各画素に光センサーを配置することも可能であるため、イメージセンサーとしても利用することができ、イメージスキャナーの機能を付与できる利点がある。また、抵抗膜方式や静電容量方式では困難な多点入力が可能であることから、様々なアプリケーションへの応用が期待できる。光センサー方式に関して、光源を有するライトペンを入力手段として利用する方法も提案されている。
【０００７】
また、液晶ディスプレイなどの表示装置の場合、光センサーが検出する光源としてバックライトの反射光を利用する方法も提案されている。この方法では、画面上に置かれた指とタッチパネル面との界面でバックライト光が反射し、その反射光を光センサーが感知することによりタッチした部分の位置が認識される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特表２００５-５３０９９６号公報
【特許文献２】特表２００７-５２２５８６号公報
【特許文献３】特開昭６１−３２３２号公報
【特許文献４】特開平２-２１１４２１号公報
【特許文献５】特開平４-２２２９１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記のように、光センサー方式のタッチパネルは、耐久性、多点入力など多くの有利な点を有している。
【００１０】
しかしながら、光センサー方式のタッチパネルは、外光の受光量が不十分な環境、例えば薄暗い環境においては、タッチパネル上に指を置いても光センサーが受光量の変化を検出することが困難となり、位置認識の誤動作を起こしやすいという問題を有している。ライトペンを利用すればこの問題は解消され得るが、入力のために特殊なライトペンが必要となり、利便性に欠ける。バックライト光の反射光を利用する方法も外光不足の対策としてある程度有効と考えられるが、この方法では液晶表示装置を黒表示したときにタッチパネル上に指を置いてもバックライト光を反射させることができず、タッチした部分の位置の検出ができない。
【００１１】
そこで、本発明者らは、外光が弱い環境下でも誤動作が少なく、特殊なペンを使用せずとも入力が可能であり、さらには液晶表示装置において画像を黒表示した場合でも入力が可能なタッチパネルを得ることを可能にする光学部材の実現を目指して検討を行った。その検討のなかで、本発明者らは、主面上に凹凸形状を有する光学フィルムが上記光学部材の実現に有効であることを見出した。
【００１２】
他方、タッチパネルの更なる需要拡大が期待されるため、光学部材を生産性よく且つ安定に製造できる技術が求められている。これに対しては、上記光学部材の実現に加えて、上記光学フィルムを安定供給できる技術提供も課題となる。
【００１３】
本発明は以上のような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、主面上に凹凸形状を有するフィルムの製造に用いることができる転写原型及びフィルム成型用型を提供することにあり、また、これらの型を用いて得られるタッチパネル用光学フィルム、並びにタッチパネル用光学部材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために本発明は、凹凸表面を有し、該凹凸表面から所定の部材表面に凹凸形状を転写するための転写原型であって、基体と、該基体の表面にめっきにより固定された複数の粒子と、を備える転写原型を提供する。本発明の転写原型は、基体の表面に固定された上記複数の粒子によって凹凸形状が設けられている。本発明の転写原型によれば、固定される粒子の粒径や密度（単位面積当たりの個数）などを適宜調節することにより凹凸形状の設計が可能であり、所定の部材表面に所望の凹凸形状を形成することができる。また、本発明の転写原型は、複合めっきによって凹凸表面が形成され得るものであることから、製造が容易であるという利点も有している。
【００１５】
本発明の転写原型は、主面上に凹凸形状を有するフィルムを成型するための、転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を有する凹凸表面を有するフィルム成型用型、の作成に用いられることが好ましい。上記フィルム成型用型を介してフィルムを成型する場合、本発明の転写原型の凹凸表面と同形状の凹凸形状をフィルム表面に設けることができる。また、本発明の転写原型によって上記フィルム成型用型を量産すれば、主面上に凹凸形状を有するフィルムの生産性を高めることができる。
【００１６】
本発明の転写原型は、上記フィルムがタッチパネル用光学フィルムとして用いられるものである場合の上記フィルム成型用型の作成に用いられるものであることが好ましい。
【００１７】
また、本発明の転写原型は、粗面化されている凹部を有するものであることが好ましい。特に、主面上に凹凸形状を有するタッチパネル用光学フィルムを成型するためのフィルム成型用型の作成に本発明の転写原型が用いられる場合、上記粗面化されている凹部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に粗面化されている凹部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、モアレやギラツキが発生しにくいものになり得る。
【００１８】
本発明の転写原型は、上記粒子によって形成され、高さが１〜８０μｍである凸部を有するものであることが好ましい。本発明において、「転写原型の凸部の高さ」とは、所定の幅内の断面における凸部の頂部と凹部の底部との高低差を意味する。特に、主面上に凹凸形状を有するタッチパネル用光学フィルムを成型するためのフィルム成型用型の作成に本発明の転写原型が用いられる場合、上記凸部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に高さが１〜８０μｍの凸部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、外光が弱い環境下でも誤動作が生じにくいものになり得る。
【００１９】
本発明の転写原型は、上記粒子によって形成され、最大幅が１〜３００μｍである凸部を有するものであることが好ましい。本発明において、「転写原型の凸部の最大幅」とは、凸部の高さ方向と直交する方向の幅のうちの最大の値を意味する。特に、主面上に凹凸形状を有するタッチパネル用光学フィルムを成型するためのフィルム成型用型の作成に本発明の転写原型が用いられる場合、上記凸部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に最大幅が１〜３００μｍの凸部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、タッチパネルにおける表示品質を十分維持しながら、外光が弱い環境下でも誤動作が生じにくいものになり得る。
【００２０】
本発明の転写原型は、当該転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを製造するために用いることができる。この場合、転写原型の凸部はフィルムの表面に凹部として転写されることになる。このようにして得られるフィルムは、タッチパネル用光学フィルムとして用いることができる。
【００２１】
本発明はまた、上記本発明の転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を有する凹凸表面を有するフィルム成型用型を提供する。本発明のフィルム成型用型によれば、主面上に凹凸形状を有するフィルムを成型することができ、特には、タッチパネル用光学フィルムとして好適なフィルムを得ることができる。
【００２２】
本発明はまた、上記本発明のフィルム成型用型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムからなる第１のタッチパネル用光学フィルムを提供する。
【００２３】
本発明のタッチパネル用光学フィルムは、良好なタッチパネル特性を得る観点から、スペーサーとして機能する凸部と、該凸部間に設けられた平坦部と、を主面上に有するものであることが好ましい。
【００２４】
本発明はまた、上記本発明の転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムからなる第２のタッチパネル用光学フィルムを提供する。
【００２５】
本発明はまた、第１の層と、該第１の層に部分的に又は完全に離れるように設けられた第２の層とを備え、第１の層及び第２の層の少なくとも一方の層は、上記本発明の第１のタッチパネル用光学フィルムからなり、他方の層と対向する表面に凹凸形状を有する層であり、且つ、第１の層及び第２の層の少なくとも一方の層は、力学的な圧力を加えることによる変形と力学的な圧力を除くことによる形状の復元とが可逆的に可能であることを特徴とする第１のタッチパネル用光学部材を提供する。
【００２６】
本発明はまた、第１の層と、該第１の層に部分的に又は完全に離れるように設けられた第２の層とを備え、第１の層及び第２の層の少なくとも一方の層は、上記本発明の第２のタッチパネル用光学フィルムからなり、他方の層と対向する表面に凹凸形状を有する層であり、且つ、第１の層及び第２の層の少なくとも一方の層は、力学的な圧力を加えることによる変形と力学的な圧力を除くことによる形状の復元とが可逆的に可能であることを特徴とする第２のタッチパネル用光学部材を提供する。
【００２７】
本発明はまた、上記本発明の第１のタッチパネル用光学部材の製造方法であって、フィルム成型用型の凹凸表面上に、該凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、凹凸形状を主面上に有するフィルムをフィルム成型用型から剥離する工程と、剥離した凹凸形状を主面上に有するフィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程と、を備えるタッチパネル用光学部材の製造方法を提供する。
【００２８】
本発明はまた、上記本発明の第２のタッチパネル用光学部材の製造方法であって、支持フィルム上に設けられた硬化性樹脂組成物層の表面に転写原型の凹凸表面を押し当てた後、硬化性樹脂組成物層を硬化して、転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、凹凸形状を主面上に有するフィルムを支持フィルムから剥離する工程と、剥離した凹凸形状を主面上に有するフィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程と、を備えるタッチパネル用光学部材の製造方法を提供する。
【００２９】
本発明はまた、上記本発明の転写原型を製造する方法であって、基体として円柱状の導電性基体と、粒子を含む電解めっき液が収容されためっき槽とを用意し、これらを導電性基体の周面の一部が電解めっき液に浸漬するように配置し、導電性基体を軸周りに回転駆動させながら電解めっき処理を行うことにより導電性基体の表面に粒子を固定することを特徴とする転写原型の製造方法を提供する。
【００３０】
上記電解めっき処理は、回転駆動する導電性基体の電解めっき液に浸漬していない周面にブレード状の部材又はフィルム状の部材を当接させて導電性基体の表面に付着する電解めっき液を均しながら行われることが好ましい。これにより、導電性基体に付着した粒子の上にさらに粒子が付着することを防止することができる。
【００３１】
また、上記粒子が、樹脂からなる中核と、該中核を被覆する金属層とからなるものであることが好ましい。このような粒子を用いることにより、粒子の比重がめっき液に近くなるために粒子がめっき液に分散されやすくなり、導電性基体上で均一な粒子分布が得られやすくなる。
【００３２】
更に、上記電解めっき処理が、めっき槽に収容された電解めっき液中に気泡を注入しながら行われることが好ましい。これにより、めっき液が攪拌されて導電性基体上で均一な粒子分布が得られやすくなる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、外光が弱い環境下でも誤動作が少なく、特殊なペンを使用せずとも入力が可能であり、さらには液晶表示装置において画像を黒表示した場合でも入力が可能なタッチパネルを得ることを可能にするタッチパネル用光学部材を提供することができる。また、本発明によれば、かかるタッチパネル用光学部材に用いられるタッチパネル用光学フィルム並びにその製造に好適な転写原型及びフィルム成型用型を提供することができ、上記のタッチパネル用光学部材を生産性よく安定に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明に係るタッチパネルの断面構成を模式的に示す図である。
【図２】タッチパネル１００における非押圧時及び押圧時の断面構成を模式的に示す図である。
【図３】本発明に係る転写原型の一実施形態を模式的に示す図である。
【図４】本発明に係る転写原型の他の実施形態を模式的に示す図である。
【図５】本発明に係る転写原型を製造する方法を説明するための模式図である。
【図６】本発明に係るフィルム成型用型を製造する方法を説明するための模式図である。
【図７】本発明に係るフィルム成型用型を製造する方法を説明するための模式図である。
【図８】本発明に係るタッチパネル用光学フィルム及びタッチパネル用光学部材を製造する方法を説明するための模式図である。
【図９】本発明に係るタッチパネル用光学フィルムを製造する方法を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００３６】
まず、本発明に係るタッチパネルについて説明する。
【００３７】
図１は、本発明のタッチパネル用光学部材を備えるタッチパネルの一実施形態を示す端面図である。図１に示すタッチパネル１００は、液晶セル４と、液晶セル４の一方面側に設けられた光源としてのバックライト６０と、液晶セル４の他方面側に設けられた光学部材１と、液晶セル４内に設けられた光センサー５２と、液晶セル４及び光学部材１を挟んで対向配置された一対の偏光板２０，２１とを主として備える。
【００３８】
液晶セル４は、対向配置された２枚のガラス基板２３，２４と、バックライト６０側のガラス基板２４上に設けられた薄膜トランジスター５１及び光センサー５２と、薄膜トランジスター５１及び光センサー５２を覆う絶縁膜５４と、絶縁膜５４上に積層された透明電極４１、配向膜４３、液晶層４５、配向膜４２及び透明電極４０とを含む。ガラス基板２４と薄膜トランジスター５１及び光センサー５２との間には遮光膜５０が設けられている。配向膜４２と配向膜４３との間にはスペーサー４７が設けられている。ガラス基板２３上には、粘着層３１、光学部材１、粘着層３０、位相差板２２及び偏光板２０がこの順で積層されている。
【００３９】
図１に示すタッチパネル１００は、液晶表示装置としての機能とともに、画面Ｓ１００の所定の位置が指等でタッチされたときにその位置を検出する機能も有する入力装置である。
【００４０】
光学部材１は、第１の層１１と、第１の層１１上に積層された第２の層１２とを備える。光学部材１は、第１の層１１側の主面Ｓ１及び第２の層側の主面Ｓ２を有する積層シートである。第１の層１１の第２の層１２側の表面１１ａは凸部１４と粗面化された凹部１５とから形成される凹凸形状を有しており、第２の層１２の第１の層１１側の表面１２ａは平坦である。光学部材１は、第１の層１１がバックライト６０及び光センサー５２側に位置する向きで配置されている。
【００４１】
第１の層１１の凸部１４がスペーサーとして機能し、第１の層の表面１１ａと第２の層の表面１２ａとは互いに部分的に離れており、離れた位置において第１の層１１と第２の層１２の間に空隙２が形成されている。空隙２内の気体は空気であってもよいし、窒素、ヘリウム及びアルゴンのような安定で無害な気体であってもよい。あるいは、空隙２内が真空であってもよい。
【００４２】
本実施形態においては、第１の層１１の凸部１４と第２の層１２とが接着剤１３によって接着されている。第１の層１１及び第２の層１２は接着剤を用いずに積層されていてもよいが、接着されていることにより、後工程で第１の層１１と第２の層１２のズレが起きにくくなり安定性が向上し、温度や気圧変化に対してもより強力な耐性が得られやすくなる。
【００４３】
図２は、光学部材１の機能を説明するための模式図である。図２の（ａ）に示すように、タッチパネル１００の画面Ｓ１００が押圧されていないとき、バックライト６０から発せられて光学部材１内に進入した光の一部は、第１の層１１の粗面化された凹部１５の表面において反射して反射光Ｌ１となる。粗面化された凹部１５の表面は凹凸形状を有していることから光が反射又は散乱し易く、第１の主面Ｓ１側に設けられた光センサー５２が受光する、散乱光を含む反射光の光量は比較的大きい。
【００４４】
図２の（ｂ）に示すように、タッチパネル１００の画面Ｓ１００の所定の位置が指Ｆによってタッチされたとき、光学部材１は主面Ｓ２側から押圧される。このように力学的圧力が局所的に加えられた第２の層は第１の層側に向けて歪み、第１の層１１及び第２の層１２が互いに押し付けられる。そうすると表面１１ａの凹凸形状における凸部が表面１２ａとの接触により押しつぶされて、表面１１ａが可逆的に変形する。その結果、第１の層の表面１１ａが、押圧された位置において表面１２ａに沿うほぼ平坦な形状に変化する。表面１１ａが平坦になると、そこで反射又は散乱する光が減少し、光学部材１内に進入した光は主として指Ｆと画面Ｓ１００との界面で反射するようになる。指Ｆと画面Ｓ１００との界面で反射した反射光Ｌ２の光量は、一般に反射光Ｌ１の光量よりも小さい。また、光学部材を透過する光の光量又は輝度が大きくなる。この状態で光センサー５２が受光する光量は、光学部材１が押圧されていないときと比較すると小さくなる場合が多い。
【００４５】
このように、光学部材１が主面Ｓ２側から押圧されたときに、主面Ｓ１側から入射した光の反射光の光量等が変化する。この光学的な変化を主面Ｓ１側に設けられた光センサーを用いて検知することにより、タッチパネル１００がタッチされた所定の位置を認識することが可能である。また、光学部材１が画面Ｓ１００側の偏光板２０とバックライト６０との間に設けられていることから、黒表示のときでも白表示等のときと同様にバックライトの光及びその反射光を効率的に利用することができる。
【００４６】
光センサー５２としては、光量等の反射光の光学的なパラメータを検知可能なものであれば、特に制限なく用いられる。具体的には、アモルファスシリコン、多結晶シリコンなど、光電効果を発現する半導体素子が挙げられる。
【００４７】
光学部材１の第１の層１１は、力学的圧力に対して可逆的な変形が可能なゴム弾性を有する。第１の層１１がゴム弾性を有していることにより、光学部材１が押圧されたときにその表面１１ａが容易に可逆的に変形する。タッチパネルの耐久性の観点からも、第１の層及び第２の層のうち少なくとも一方がゴム弾性を有していることが好ましい。
【００４８】
タッチパネルの耐久性、操作性、誤動作防止等の観点から、第１の層１１の圧縮弾性率は好ましくは０．０１〜１００ＭＰａである。圧縮弾性率が０．０１ＭＰａ未満であると、力学的圧力を加えない状態でも表面が変形して、光源から入射した光の反射及び散乱が生じにくくなる傾向がある。圧縮弾性率が１００ＭＰａを超えると、弱い圧力で押圧されたときに表面１１ａが変形しにくくなるために、力学的圧力の変化を光学的変化に変換することが困難になる傾向がある。同様の観点から、圧縮弾性率は０.０１〜１００ＭＰａであることが好ましく、０．０５〜９０ＭＰａであることがより好ましく、０．１〜８０ＭＰａであることがさらに好ましく、０．５〜７０ＭＰａであることが特に好ましく、１〜６０ＭＰａであることが極めて好ましく、１〜１０ＭＰａであることが最も好ましい。
【００４９】
圧縮弾性率は、超微小硬度計を用いて下記条件の圧縮試験により測定される荷重−変位曲線の傾きから求められる。
試料膜厚：１００μｍ（厚さ方向に圧縮）
温度：２５℃
最大加圧：０．１ｍＮ／μｍ２
測定時間：２０秒
圧子：円形平面圧子（直径φ５０μｍ）
【００５０】
第１の層１１の表面１１ａ及び第２の層１２の表面１２ａの形状は、入射した光の一部を反射又は散乱させることができる形状であれば、平坦であっても非平坦であってもよく、これに限定されるものではない。タッチパネルとして良好な表示品質を維持できるという観点から、表面１１ａ及び表面１２ａは平坦であることが好ましいが、バックライト６０から入射した光を特に効率的に反射し、光センサー５２で有効に検出できるという観点から、表面１１ａ及び表面１２ａは、図１に示されるようなスペーサーとして機能する凸部と、該凸部間に設けられた粗面化された平坦部とを有していることが好ましい。また、同様の観点から、表面１１ａ及び表面１２ａは、全面にわたる粗面化された平坦部を有していてもよい。前者の場合、粗面化された平坦部の最大高さ（所定の長さ（例えば１０ｍｍ）の断面における、凸部の頂点と凹部の底との高低差の最大値）は０．０１〜３μｍであることが好ましい。また、タッチパネル１００をタッチした位置をさらに感度よく認識できる。同様の観点から、粗面化された平坦部の最大高さは０．１〜２．５μｍであることがより好ましく、０．３〜２μｍであることがさらに好ましく、０．５〜１．５μｍであることが特に好ましく、０．７〜１．３μｍであることが最も好ましい。また、同様の観点から、凸部の密度は、５〜２００個／ｍｍ２であることが好ましく、１０〜１５０個／ｍｍ２であることがより好ましく、２０〜１２０個／ｍｍ２であることが特に好ましい。後者の場合、粗化面の最大高さ（所定の長さ（例えば１０ｍｍ）の断面における、凸部の頂点と凹部の底との高低差の最大値）は０．０１〜３μｍであることが好ましい。また、タッチパネル１００をタッチした位置をさらに感度よく認識できる。同様の観点から、粗化面の最大高さは０．１〜２．５μｍであることが好ましく、０．３〜２μｍであることがより好ましく、０．５〜１．５μｍであることがさらに好ましく、０．７〜１．３μｍであることが特に好ましい。また、同様の観点から、凸部の密度は、５〜２００個／ｍｍ２であることが好ましく、１０〜１５０個／ｍｍ２であることがより好ましく、２０〜１２０個／ｍｍ２であることがさらに好ましい。
【００５１】
凸部１４の高さは、１〜８０μｍであることが好ましい。ここで、「凸部の高さ」とは、所定の幅内の断面における凸部の頂部と凹部の底部との高低差を意味する。凸部の高さが１μｍ未満であると、本発明に係るタッチパネル用光学部材において、力学的圧力を加えない状態でも第１の層の表面１１ａと第２の層の表面１２ａが接触しやすくなり、誤動作を生じやすくなる傾向がある。凸部の高さが８０μｍを越えると、弱い圧力で押圧されたときに第１の層の表面１１ａと第２の層の表面１２ａが押圧されたところで互いに接触しにくくなり、押圧した位置を認識しにくくなる傾向がある。同様の観点から、凸部の高さは５〜７５μｍであることがより好ましく、１０〜７０μｍであることがさらに好ましく、１３〜６５μｍであることが特に好ましく、１５〜６０μｍであることが極めて好ましく、１７〜５５μｍであることがより極めて好ましく、２０〜５０μｍであることが最も好ましい。
【００５２】
また、凸部１４の最大幅は、１〜３００μｍであることが好ましい。ここで、「凸部の最大幅」とは、凸部の高さ方向と直交する方向の幅のうちの最大の値を意味する。凸部の最大幅が１μｍ未満であると、本発明に係るタッチパネル用光学部材において、力学的圧力を加えない状態でも第１の層の表面１１ａと第２の層の表面１２ａが接触しやすくなり、タッチパネルの操作時に誤動作を生じやすくなる傾向がある。凸部の最大幅が３００μｍを越えると、弱い圧力で押圧されたときに第１の層の表面１１ａと第２の層の表面１２ａが押圧されたところで互いに接触しにくくなり、押圧した位置を認識しにくくなる傾向があり、またタッチパネルとして視認した場合に、その表示品質が低下する傾向がある。同様の観点から、凸部の最大幅は５〜２５０μｍであることがより好ましく、７〜２００μｍであることがさらに好ましく、１０〜１５０μｍであることが特に好ましく、１５〜１００μｍであることが極めて好ましく、１７〜７０μｍであることがより極めて好ましく、２０〜５０μｍであることが最も好ましい。
【００５３】
本実施形態において隣り合う凸部１４の頂点間の距離は、良好なタッチパネル特性を得る観点から、０．０１〜１５μｍであることがより好ましく、０．１〜１０μｍであることがさらに好ましく、０．５〜９μｍであることが特に好ましく、０．７〜７μｍであることが極めて好ましく、１〜５μｍであることが最も好ましい。
【００５４】
押圧による力学的圧力変化から変換された光学的変化を効率的に検出でき、かつ良好な表示品質を維持できるという観点から、第１の層１１及び第２の層１２は透明性の高い材料から構成されることが好ましい。具体的には、第１の層１１又は第２の層１２を構成する材料により形成された厚さ２０μｍの両面平坦膜の可視光線透過率が、７０〜１００％であることが好ましく、７５〜９８％であることがより好ましく、８０〜９７％であることがさらに好ましく、８３〜９６％であることが特に好ましく、８５〜９５％であることが最も好ましい。この可視光線透過率は、第１の層１１又は第２の層を構成する材料を用いて形成した両面平坦膜を用いて、後述する、押圧前後での可視光線透過率の変化の測定方法と同様の方法により測定することができる。
【００５５】
表面１１ａの変形前後の光量変化を効果的に発現させる観点から、第１の層１１と第２の層１２の屈折率差の絶対値は、０〜０．１であることが好ましい。同様の観点から、本実施形態のように第１の層と第２の層の間に空隙２が形成されている場合、第１の層１１及び第２の層１２の屈折率は１．３以上であることが好ましい。これらの屈折率は、プリズムカップリング法、分光エリプソメトリー法など公知の方法で測定される。
【００５６】
ゴム弾性を有する第１の層１１を構成する材料は、好ましくは各種のエラストマーである。好適なエラストマーの具体例としては、天然ゴム、合成ポリイソプレン、スチレンとブタジェンのコポリマー、ブタジェンとアクリロニトリルのコポリマー、ブタジェンとアルキルアクリレートのコポリマー、ブチルゴム、ブロモブチルゴム、クロロブチルゴム、ネオブレン（クロロプレン、２−クロロ−１，３−ブタジェン）、オレフィン系ゴム（例えばエチレンプロピレンゴム（ＥＰＲ）、およびエチレンプロピレンジェノモノマー（ＥＰＤＭ）ゴム）、ニトリルエラストマー、ポリアクリル系エラストマー、ポリスルフィドポリマー、シリコーンエラストマー、熱可塑性エラストマー、熱可塑性コポリエステル、工チレンアクリル系エラストマー、酢酸ビニルエチレンコポリマー、エピクロルヒドリン、塩素化ポリエチレン、化学的に架橋したポリエチレン、クロロスルホン化ポリエチレン、フルオロカーボンゴム、フルオロシリコーンゴムが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。これらゴム弾性を有する具体的材料の中で、シリコーンエラストマーは、前述した凹凸形状の成形性に優れるという観点から、特に好ましい。
【００５７】
シリコーンエラストマーとしては、例えば、過酸化物加硫型シリコーンゴム、付加反応型シリコーンゴム、光反応型シリコーンゴム及び光ラジカル重合反応型シリコーンゴムがある。過酸化物加硫型シリコーンゴムは、直鎖状の高重合ポリオルガノシロキサンからなるシリコーン生ゴムに有機過酸化物を配合し、加熱することによりシリコーン生ゴムを架橋してゴム弾性体を形成する方法により得られる。付加反応型シリコーンゴムは、脂肪族不飽和炭化水素基を有するポリオルガノシロキサンとポリオルガノハイドロジェンシロキサンの間の付加反応による架橋を白金触媒の存在下で行ってゴム弾性体を形成する方法により得られる。光反応型シリコーンゴムは、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを光酸発生剤の存在下で光照射することにより架橋してゴム弾性体を形成する方法により得られる。光ラジカル重合反応型シリコーンゴムは、アクリロイル基含有ポリオルガノシロキサンを光重合開始剤存在下で光照射することにより架橋してゴム弾性体を形成する方法により得られる。
【００５８】
付加反応型シリコーンゴムを形成するために用いられるポリオルガノシロキサンは、ケイ素原子に結合した１価の脂肪族不飽和炭化水素基を１分子中に２個以上有する。１価の脂肪族不飽和炭化水素基としては、ビニル基、アリル基、１−ブテニル基及び１−ヘキセニル基が例示される。合成が容易で、また硬化前の組成物の流動性や、硬化後の組成物の耐熱性が良好であるという観点から、ビニル基が最も好ましい。さらに、１価の脂肪族不飽和炭化水素基は、ポリオルガノシロキサン分子鎖の末端または途中のいずれに存在してもよく、その双方に存在してもよい。ただし、架橋後の組成物に優れた機械的性質を与えるためには、ポリオルガノシロキサンは、少なくとも分子鎖の両末端に１価の脂肪族不飽和炭化水素基を有していることが好ましい。
【００５９】
また、ポリオルガノシロキサンのケイ素原子に結合する他の有機基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル及びドデシルなどのアルキル基、フェニルなどのアリール基、ベンジル、２−フェニルエチル及び２−フェニルプロピルなどのアラルキル基、クロロメチル、クロロフェニル、２−シアノエチル及び３，３，３−トリフルオロプロピルなどの置換炭化水素基が挙げられる。これらのうち、合成が容易であって、架橋前の流動性や形成されるゴム弾性体の圧縮弾性率などの特性のバランスが優れているという観点から、メチル基が最も好ましい。
【００６０】
ポリオルガノシロキサンは、直鎖状でも分岐状であってもよい。また、ポリオルガノシロキサンの重合度はとくに限定されないが、架橋前の組成物が良好な流動性および作業性を有し、架橋後の組成物が適度の圧縮弾性率を有するには、２５℃における粘度が５００〜５０００００ＭＰａ・ｓであることが好ましく、１０００〜１０００００ＭＰａ・ｓであることが特に好ましい。
【００６１】
付加反応型シリコーンゴムを形成するために用いられるポリオルガノハイドロジェンシロキサンは、分子中に含まれるヒドロシリル基がポリオルガノシロキサン中の１価の脂肪族不飽和炭化水素基に付加することにより、ポリオルガノシロキサンの架橋剤として機能する。網目構造を効率的に形成するために、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンは、ケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも３個有していることが好ましい。シロキサン単位のケイ素原子に結合した有機基としては、上記ポリオルガノシロキサンにおける１価の不飽和脂肪族炭化水素基以外の有機基と同様のものが挙げられ、それらの中でも、合成が容易な点から、メチル基が最も好ましい。また、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンにおけるシロキサン骨格は、直鎖状、分岐状および環状のいずれであってもよく、またこれらの混合物を用いてもよい。ポリオルガノハイドロジェンシロキサンの重合度は特に限定されないが、同一のケイ素原子に２個以上の水素原子が結合したポリオルガノハイドロジェンシロキサンは合成が困難であることから、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンは３個以上のシロキサン単位を有することが好ましい。
【００６２】
ポリオルガノハイドロジェンシロキサンの配合量は、ポリオルガノシロキサン中の１価の脂肪族不飽和炭化水素基１個に対して、ポリオルガノハイドロジェンシロキサン中のケイ素原子に結合した水素原子が０．５〜５個、好ましくは１〜３個となるような量であることが好ましい。この水素原子の存在比が０．５未満であると、架橋が不完全になる傾向があり、存在比が５を越えるような量の場合は、架橋の際に発泡が起こりやすく、表面状態が低下する傾向がある。
【００６３】
付加反応型シリコーンゴムには、ポリオルガノシロキサン中の１価の脂肪族不飽和炭化水素基とポリオルガノハイドロジェンシロキサンのヒドロシリル基との間の付加反応を促進させるための触媒として、白金系化合物を用いることが好ましい。白金系化合物としては、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコールの反応生成物、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、及び白金−ホスフィン錯体が例示される。ポリオルガノシロキサン及びポリオルガノハイドロジェンシロキサンへの溶解性や、触媒活性が良好な点から、塩化白金酸とアルコールの反応生成物および白金−ビニルシロキサン錯体が好ましい。白金系化合物の配合量は、ポリオルガノシロキサンに対し、白金原子換算で１〜２００重量ｐｐｍであることが好ましく、１〜１００重量ｐｐｍであることがさらに好ましく、２〜５０重量ｐｐｍであることが特に好ましい。１重量ｐｐｍ未満の場合には、硬化速度が不十分で、光学部材の製造効率が低下する傾向があり、２００重量ｐｐｍを越えると、架橋速度が過度に早まるために各成分を配合した後の作業性が損なわれる傾向がある。
【００６４】
第２の層１２は、第１の層１１の凹凸形状を力学的圧力によって効果的に変形させられるという観点から、ゴム弾性を実質的に示さない硬質な材料から構成されることが好ましい。具体的には、第２の層１２は、ガラス及びセラミックスから選ばれる無機材料、または、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルフォン、ポリエチレンテレフタレート及びポリエーテルナフタレートから選ばれる有機材料から構成されることが好ましい。
【００６５】
光学部材１が押圧されていないときの可視光線透過率と、光学部材１が押圧されたときの可視光線透過率との差（押圧前後での可視光線透過率の変化）は０．１〜５０％であることが好ましい。この差が０．１％未満では、力学的圧力が加えられたときの光学的変化を光センサーで検出することが困難になる傾向があり、５０％を超えると、力学的圧力を加えない状態での第１の層１１又は第２の層１２における反射または散乱を強くする必要がある。そうすると凹凸形状を設計しにくくなるとともに、表示装置としての表示品質が低下する傾向がある。同様の観点から、押圧前後での可視光線透過率の変化は０．５〜４５％であることが好ましく、１〜４０％であることがより好ましく、２〜３５％であることがさらに好ましく、３〜３０％であることが特に好ましい。
【００６６】
押圧前後での可視光線透過率の変化は、以下の１）〜７）の手順で測定することができる。なお、可視光線とは一般的に視認可能な波長領域３８０〜７８０ｎｍの光線を意味する。
１）光学部材をガラス基板上に載置し、その上に直径φ１０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍの円盤状ガラス板を載置した試料を準備する。
２）試料に対して可視領域の光線を試料に対して法線方向に照射し、色彩輝度計を使用して、測定視野角１°の範囲で試料を透過した光線の輝度ａを測定し、その状態から光学部材を取り除いて同様に輝度ｂを測定する。
３）押圧されていないときの可視光線透過率Ｔ１を式：Ｔ１＝（ａ／ｂ）×１００（％）により算出する。
４）上記と同様の試料を準備し、ガラス基板と円盤状ガラス板間に５×１０３Ｐａの荷重を加える。
５）試料に荷重を加えながら、可視領域の光線を試料に対して法線方向に照射し、色彩輝度計を使用して、測定視野角１°の範囲で試料を透過した光線の輝度ｃを測定する。この状態から光学部材を取り除き、同様の方法で輝度ｄを測定する。
６）押圧されたときの可視光線透過率Ｔ２を式：Ｔ２＝（ｃ／ｄ）×１００（％）により算出する。
７）可視光線透過率Ｔ１とＴ２の差の絶対値（ΔＴ）を、押圧前後での可視光線透過率の変化として求める。
【００６７】
光学部材１が押圧されていないときの可視光線反射率と、光学部材１が押圧されたときの可視光線反射率との差（押圧前後での可視光線反射率の変化）は０．１〜５０％であることが好ましい。この差が０．１％未満では、力学的圧力が加えられたときの光学的変化を光センサーで検出することが困難になる傾向があり、５０％を超えると、力学的圧力を加えない状態での第１の層１１又は第２の層１２における反射または散乱を強くする必要がある。そうすると凹凸形状を設計しにくくなるとともに、表示装置としての表示品質が低下する傾向がある。同様の観点から、押圧前後での可視光線反射率の変化は、０．５〜４８％であることが好ましく、１〜４５％であることがより好ましく、２〜４３％であることがさらに好ましく、３〜４０％であることが特に好ましい。
【００６８】
押圧前後での可視光線反射率の変化は、以下の手順で測定することができる。
１）酸化マグネシウムなどの白色板上に厚さ０．７ｍｍのガラス基板及び直径φ１０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍの円盤状ガラス板を載置し、可視領域の光線を白色板に対して法線方向に照射して、分光測色計などを使用して、白色板の法線方向に対して角度２５°に反射した光線の明度ａ’を測定する。次いで、ガラス基板と円盤状ガラス板との間に光学部材を載置して同様の方法で反射光線の明度ｂ’を測定する。
２）光学部材が押圧されていないときの可視光線反射率Ｒ１を式：Ｒ１＝（ｂ’／ａ’）×１００（％）により算出する。
３）ガラス基板と円盤状ガラス板との間に５×１０３Ｐａの荷重を加えながら１）と同様の方法で反射光線の明度をｃ’を測定する。
４）光学部材が押圧されたときの可視光線反射率Ｒ２を式：Ｒ２＝（ｃ’／ａ’）×１００（％）により算出する。
５）押圧前後での可視光線反射率Ｒ１とＲ２の差の絶対値（ΔＲ）を、押圧前後での可視光線反射率の変化として求める。
【００６９】
第１の層１１の膜厚（第１の層１１のうち、厚さ方向において凹凸形状を除いた部分の厚さ）は、１〜５００μｍであることが好ましい。第１の層１１の膜厚が１μｍ未満では、凹凸形状を有する第１の層１１を作製することが困難となる傾向があり、５００μｍを超えると、光学部材に圧力を加えた場合の圧力伝達が弱くなるために、第１の層１１の表面形状が変化しにくくなる傾向がある。同様の観点から、第１の層１１の膜厚は５〜４００μｍがより好ましく、１０〜３００μｍがさらに好ましい。
【００７０】
光学部材１は、タッチパネル１００の表示品質の観点から、一方の面に入射した可視光線と反対面に入射した可視光線の透過率差の絶対値が、１〜２０％であることが好ましい。この透過率差の絶対値が１％未満の場合にはタッチパネルが外光を反射しやすくなり、表示品質を低下させる傾向があり、２０％を超えるとこれを実現させる凹凸形状の光学設計が困難になる傾向がある。同様の観点から、透過率差の絶対値は１．５〜１７％であることがより好ましく、２〜１５％であることがさらに好ましく、２．５〜１２％であることが特に好ましく、３〜１０％であることが極めて好ましい。
【００７１】
可視光線の透過率は、上述の「押圧前後での可視光線透過率の変化」の測定と同様の方法により、光学部材１の両面からの可視光線透過率をそれぞれ測定し、それらの差の絶対値を算出することによって求めることができる。
【００７２】
第１の層１１と第２の層１２との間に、第１の層１１とは屈折率が異なり、中間層が設けられていてもよい。中間層を設けることにより、空隙２が形成される場合と比較して、使用環境の変化に対する耐久性が更に優れるタッチパネルを得ることができる。
【００７３】
凹凸形状を有する表面１１ａを有する第１の層１１の屈折率と、中間層の屈折率との差の絶対値（Δｎ）は、０．０１〜１．０であることが好ましい。この屈折率差の絶対値が、０．０１未満では、光学部材が押圧されていないときの光学部材１からの反射光を光センサーが効率的に検知できなくなるために、タッチした位置を正常に認識することが困難になる傾向がある。また、また屈折率差の絶対値が１．０を超えると、これを達成するために必要な屈折率を有する材料の選択が困難になる傾向がある。同様の観点から、屈折率差の絶対値は０．０３〜０．７であることがより好ましく、０．０５〜０．５であることがさらに好ましく、０．０７〜０．３であることが特に好ましく、０．１〜０．２であることが最も好ましい。屈折率は、プリズムカップリング法、分光エリプソメトリー法など公知の方法で測定される。
【００７４】
中間層は粘着性を有することが好ましい。粘着性を有する中間層を形成するために用いられる樹脂としては、第１の層または第２の層に対して粘着性を示すものであれば特に制限はなく、例えば、アクリル樹脂、架橋型アクリル樹脂、アクリル系単量体、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００７５】
アクリル樹脂としては、低いガラス転移温度を示す不飽和単量体を含む共重合体が好ましい。低いガラス転移温度を示す不飽和単量体としては、例えば、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシルが挙げられる。また、低いガラス転移温度を示す不飽和単量体を含む共重合体に用いられるその他の不飽和単量体としては、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉｓｏ−プロピル、メタクリル酸ｉｓｏ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉｓｏ−ブチル、メタアクリル酸ｉｓｏ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸ペンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイコシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタクリル酸２−フルオロエチル、スチレン、α−メチルスチレン、シクロヘキシルマレイミド、アクリル酸ジシクロペンタニル、メタクリル酸ジシクロペンタニル、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、ブタジエン、イソプレン、及びクロロプレンが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
【００７６】
架橋型アクリル樹脂は、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリルアミド、アクリロニトリルなどの、官能基を有する不飽和単量体を共重合成分として含む共重合体を架橋剤により架橋したものである。
【００７７】
上記架橋剤としては、イソシアネート系、メラミン系、エポキシ系等の公知の架橋剤を用いることができる。また、架橋剤としては、架橋型アクリル樹脂中に緩やかに広がった網目状構造を形成するために、３官能、４官能といった多官能架橋剤がより好ましく使用される。
【００７８】
アクリル樹脂、及び、架橋型アクリル樹脂を得るために使用される共重合体の重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレン換算した値）は、第１の層１１または第２の層１２に対する粘着性の観点から、１０００〜３０００００であることが好ましく、５０００〜１５００００であることがより好ましい。
【００７９】
粘着性を有する樹脂は、高い流動性を発現させ、第１の層または第２の層の表面形状を効果的に変形させるという観点から、単量体を使用することもできる。単量体としては、例えば、ポリエチレングリコールジアセテート、ポリプロピレングリコールジアセテート、ウレタンモノマー、ノニルフェニルジオキシレンアクリレート、ノニルフェニルジオキシレンメタクリレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β’−アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β’−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β’−アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β’−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルメタクリレート、あるいはアクリル樹脂に使用される不飽和単量体を使用することができる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
【００８０】
中間層のガラス転移温度（Ｔｇ）は、−２０℃以下であることが好ましい。中間層のガラス転移温度が−２０℃よりも高いと粘着性が低下し、第１の層１１及び第２の層１２に対する適度な粘着力が得られなくなる傾向がある。
【００８１】
中間層の厚さ（凹凸形状の凹部に充填された部分を除いた部分の厚さ）は、１〜５０μｍであることが好ましい。中間層の厚さが１μｍ未満であると、第１の層または第２の層を積層する際に、気泡を巻き込む傾向があり、５０μｍを超えると、タッチパネルがタッチされたときに圧力が伝達されにくくなるために、第１の層１１の表面形状が変形しにくくなる傾向がある。同様の観点から、中間層の厚さは２〜４０μｍであることがより好ましく、３〜３０μｍであることが更に好ましい。
【００８２】
支持体フィルムと、該支持体フィルム上に設けられた光学部材１とを具備する積層体の状態で光学部材１を用いてもよい。支持体フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、トリアセチルセルロースからなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。
【００８３】
支持体フィルムと第１の層１１または第２の層１２との間に、粘着性又は接着性を有する樹脂層が設けられていてもよい。
【００８４】
第１の層１１または第２の層１２の上に、さらにカバーフィルムが積層されていてもよい。カバーフィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース等からなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。カバーフィルムと第１の層１１または第２の層１２との間に、粘着性または接着性を有する樹脂層が設けられていてもよい。
【００８５】
次に、上述した光学部材における第１の層１１として好適な光学フィルムを作成するための、本発明に係る転写原型について説明する。
【００８６】
図３は、本発明に係る転写原型の一実施形態を模式的に示す図である。図３の（ａ）は、転写原型を斜め上方から見た模式図であり、（ｂ）は（ａ）のＩ−Ｉ線に沿った断面図である。図３に示す転写原型１０００は、基体１０１０と、該基体の表面にめっきにより固定された複数の粒子１０２０とから構成されている。転写原型１０００においては、めっき層１０３０が基体１０１０の表面及び粒子１０３０を被覆することにより粒子１０３０を固定している。転写原型１０００は、固定された粒子による凸部１０４０と粒子が固定されていないことによる凹部１０５０とから形成された凹凸表面を有し、該凹凸表面から所定の部材表面に凹凸形状を転写することができる。なお、本実施形態に係る転写原型は円筒状であるが、本発明の転写原型はこの形状に限られず、例えば、平板状とすることもできる。
【００８７】
基体の材質は、金属、樹脂等が挙げられ、特に制限されないが、寸法安定性に優れ、後述する電解めっきによる転写原型の製造を考慮した導電性に優れるステンレス等の鉄合金、さらに加工裕度のある銅が積層されたものが好ましい。
【００８８】
基体の形状は、板状、シート状、ロール状等が挙げられ、特に制限されないが、ロール状であると回転しながら加工が可能となるので好ましい。
【００８９】
基体の表面は、機械研磨、エッチング、めっき、洗浄する等して滑らかな状態に加工されていてもよく、粗面化されていてもよい。基体の表面を粗面化する方法としては、例えば、めっき、切削、レーザー描画、圧痕、エッチング等の方法が挙げられる。なお、めっきによる方法は、後述する粒子を含んだめっき液を用いて基体上に凹凸表面を形成する際に、凹凸表面の凸部を形成する粒子よりも粒径が小さい粒子を用いることにより、凸部間に粗面化された凹部を形成する方法である。
【００９０】
粒子の材質としては、金属、金属複合物、樹脂、又はそれらの複合物等が挙げられるが、特に制限されない。これらの中でも、寸法安定性に優れ、後述する電解めっきによる転写原型の製造を考慮した導電性に優れる金属、金属複合物、またはそれらが積層された樹脂粒子を用いるのが好ましい。金属としては、例えば、金、銀、銅、亜鉛、ニッケル、亜鉛、シリカ、ジルコニア、チタンや、それらの複合物が挙げられる。
【００９１】
また、粒子の比重をめっき液に近くして、粒子をめっき液中に分散させやすくする観点から、上記粒子が、上記の金属や金属複合物が積層された樹脂粒子などの、樹脂からなる中核と、該中核を被覆する金属層とからなるものであることが好ましい。樹脂粒子としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂などが挙げられる。金属層は、上記の金属や金属複合物の層が少なくとも１層積層されることで基体への付着性が良くなる。
【００９２】
粒子の形状は、球、楕円、円柱状、角柱などが挙げられるが、特に制限されない。転写原型の凸部の高さ及び最大幅をより均一にする観点から、粒子の形状は球であることが好ましい。粒子が球状である場合、その粒径は約０．１〜１００μｍであることが好ましい。粒子が球以外の形状である場合、最大径が１００μｍ以下であることが好ましく、最小径が０．１μｍ以上であることが好ましい。
【００９３】
粒子を基体表面に固定するめっき層としては、銅、ニッケル、亜鉛、すず、クロム、金、銀、白金等からなる層が挙げられる。このようなめっき層は、例えば、粒子を含むめっき液を用いて電解めっき又は無電解めっきにより形成することができる。
【００９４】
めっき層の厚みは、粒子の形状を大きく変化させずに粒子を固定できる点で、０．０１〜５μｍであることが好ましい。
【００９５】
本実施形態の転写原型は、後述するフィルム成型用型を介してタッチパネル用光学フィルムを作成するために用いることできる。本実施形態の転写原型の凹凸表面について、前述の本発明に係るタッチパネル用光学部材を作成する場合の好適な条件を説明する。
【００９６】
基体の表面に形成された凸部の高さは、１〜８０μｍであることが好ましい。ここで、「凸部の高さ」とは、所定の幅内の断面における凸部の頂部と凹部の底部との高低差を意味する。なお、粒子の大きさに比べてめっき層の厚みが非常に小さい場合には、基体の表面から粒子頂部までの距離を代用することができる。かかる凸部を有することにより、後述するフィルム成型用型を介してタッチパネル用光学フィルムを作成した場合、上記凸部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に高さが１〜８０μｍの凸部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、外光が弱い環境下でも誤動作が生じにくいものになり得る。すなわち、本発明に係る光学部材が一方の主面側から押圧されたときに、そこで反射する反射光の状態が効率的に変化し、より高い感度及び精度で位置の認識が可能になる。凸部の高さが１μｍ未満であると、本発明に係るタッチパネル用光学部材において、力学的圧力を加えない状態でも第１の層の表面と第２の層の表面が接触しやすくなり、誤動作を生じやすくなる傾向がある。凸部の高さが８０μｍを越えると、弱い圧力で押圧されたときに第１の層の表面と第２の層の表面が押圧されたところで互いに接触しにくくなり、押圧した位置を認識しにくくなる傾向がある。同様の観点から、凸部の高さは５〜７５μｍであることがより好ましく、１０〜７０μｍであることがさらに好ましく、１３〜６５μｍであることが特に好ましく、１５〜６０μｍであることが極めて好ましく、１７〜５５μｍであることがさらに極めて好ましく、２０〜５０μｍであることが最も好ましい。
【００９７】
また、凸部の最大幅は、１〜３００μｍであることが好ましい。ここで、「凸部の最大幅」とは、凸部の高さ方向と直交する方向の幅のうちの最大の値を意味する。なお、粒子の大きさに比べてめっき層の厚みが非常に小さく、粒子が球形である場合には、粒子径を代用することができる。かかる凸部を有することにより、後述するフィルム成型用型を介してタッチパネル用光学フィルムを作成した場合、上記凸部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に最大幅が１〜３００μｍの凸部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、タッチパネルにおける表示品質を十分維持しながら、外光が弱い環境下でも誤動作が生じにくいものになり得る。凸部の最大幅が１μｍ未満であると、本発明に係るタッチパネル用光学部材において、力学的圧力を加えない状態でも第１の層の表面と第２の層の表面が接触しやすくなり、タッチパネルの操作時に誤動作を生じやすくなる傾向がある。凸部の最大幅が３００μｍを越えると、弱い圧力で押圧されたときに第１の層の表面と第２の層の表面が押圧されたところで互いに接触しにくくなり、押圧した位置を認識しにくくなる傾向があり、またタッチパネルとして視認した場合に、その表示品質が低下する傾向がある。同様の観点から、凸部の最大幅は５〜２５０μｍであることがより好ましく、７〜２００μｍであることがさらに好ましく、１０〜１５０μｍであることが特に好ましく、１５〜１００μｍであることが極めて好ましく、１７〜７０μｍであることがさらにきわめて好ましく、２０〜５０μｍであることが最も好ましい。
【００９８】
本実施形態において、凸部の密度は、良好なタッチパネル特性を得るという観点から、５〜２００個／ｍｍ２であることが好ましく、１０〜１５０個／ｍｍ２であることがより好ましく、２０〜１２０個／ｍｍ２であることが特に好ましい。
【００９９】
転写原型の凹部は、粗面化されていることが好ましい。かかる凹部を有することにより、後述するフィルム成型用型を介してタッチパネル用光学フィルムを作成した場合、上記粗面化されている凹部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に粗面化されている凹部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、モアレやギラツキが発生しにくいものになり得る。粗面化された凹部における粗さとしては、最大高さが０．１〜５μｍであることが好ましく、０．３〜３μｍであることがより好ましく、０．５〜１．５μｍであることが特に好ましく、０．７〜１．３μｍであることが最も好ましい。
【０１００】
このような粗面化された凹部は、上述したように、基体の表面を切削、レーザー描画、圧痕、エッチング等の方法により粗面化する方法や、凹凸表面の凸部を形成する粒子よりも粒径が小さい粒子を用いてめっきを行うことにより、凸部間に粗面化された凹部を形成する方法などが挙げられる。図４の（ａ）は、前者の方法により作成された転写原型の実施形態を示す図であり、図４の（ｂ）は、後者の方法により作成された転写原型の実施形態を示す図である。図４（ａ）の転写原型１１００は、粗面化された基体１０１２上に、めっき層１０３０によって固定された粒子１０２０を有しており、粒子によって形成された凸部１０４０の間に粗面化された凹部１０５２が設けられている。また、図４（ｂ）の転写原型１２００は、基体１０１０上に、第１の粒子１０２１と第１の粒子よりも粒径が小さい第２の粒子１０２２とがめっき層１０３０によって固定されており、第１の粒子によって形成された凸部１０４０の間に第２の粒子によって形成された粗面化された凹部１０５４が設けられている。
【０１０１】
また、転写原型の凹凸表面は、ランダムな形状であることが好ましい。凹凸表面が規則的な形状の場合、パネルの規則性と重なってモアレ等が発生しやすくなり、表示品位が低下する傾向にある。
【０１０２】
転写原型の凹凸表面における凸部の密度は、１〜３００個／ｍｍ２が好ましい。凸部がかかる密度で設けられていると、本発明に係るタッチパネル用光学部材において、フィルムの凸部がスペーサーとして機能し、第１の層の表面と第２の層の表面とをフィルムの凸部を介して、互いに部分的に又は完全に、より安定して乖離させることができ、タッチパネルの操作時に、さらに誤動作を生じにくくすることができる。
【０１０３】
次に、本発明に係る転写原型の製造方法について図面を参照しながら説明する。
【０１０４】
図５は、本実施形態に係る転写原型の製造方法を説明するための模式図である。図５に示される本実施形態の転写原型の製造方法は、基体として円柱状の導電性基体１０１０と、粒子を含む電解めっき液２０１０が収容されためっき槽２０００とを用意し、これらを導電性基体の周面の一部が電解めっき液に浸漬するように配置し、導電性基体を軸周りに回転駆動させながら電解めっき処理を行うことにより導電性基体の表面に粒子を固定することを特徴とする。図５に示すめっき槽２０００の内側にはＮｉ電極２０２０が設けられており、このＮｉ電極と導電性基体には電源が接続されている。また、めっき槽内にはエアー管２０３０が導入され、電解めっき液２０１０中に気泡２０３２を発生させることができるようになっている。
【０１０５】
導電性基体としては、例えば、円筒形のＳＵＳ製基体、鉄製基体、銅製基体などを用いることができる。これらの基体表面は、滑らかな状態に加工し、粒子が均一に付くようにするため、銅めっきによって銅層が設けられていることが好ましい。この場合の銅層の厚みは、０．１〜１５００μｍとすることができる。
【０１０６】
電解めっき液に含有させる粒子としては、粒子の比重をめっき液に近くして、粒子をめっき液中に分散させやすくする観点から、樹脂からなる中核と、該中核を被覆する金属層とからなるものが好ましい。具体的には、金めっき、銀めっき、銅めっき、白金めっき、Ｎｉめっき、クロムめっきなどが施された樹脂粒子を好適に用いることができる。樹脂粒子としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂などが挙げられる。粒子の粒径については、上述した好ましい高さ及び最大幅の凸部が形成されるように選択することが好ましい。
【０１０７】
電解めっき液としては、電解銅めっき液の場合、硫酸銅、硫酸、サッカリンナトリウム、界面活性剤などを含むものが挙げられる。電解ニッケルめっき液の場合、硫酸ニッケル六水和物、塩化ニッケル六水和物、硼酸、サッカリンナトリウムなどを含むものが挙げられる。電解銅めっき液や電解ニッケルめっき液において、サッカリンナトリウムは光沢剤として用いられるが、これを除いてめっきしてもよい。この場合、めっき液に分散された粒子が効率的に基体に付くため、分散する粒子の量を低減することができる。その他の電解めっき液としては、例えば、亜鉛めっきの場合、無水クロム酸、スルファミン酸、硼酸を含むものが挙げられる。
【０１０８】
電解めっき液中に含有させる粒子は、電解めっき液１００体積部に対して０．０１〜３０体積部とすることが好ましい。
【０１０９】
図５に示すように、本実施形態においては、回転駆動する導電性基体の電解めっき液に浸漬していない周面にブレード状の部材又はフィルム状の部材２０４０を当接させて導電性基体の表面に付着する電解めっき液を均しながら電解めっき処理を行うことが好ましい。これにより、基体に付いた粒子の上にさらに粒子が重なって付くことを防ぐことができる。ブレード状の部材又はフィルム状の部材２０４０としては、例えば、ＰＥＴフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリエチレンフィルムなどが挙げられる。フィルム状の部材の厚さは、１〜１００μｍとすることが好ましい。
【０１１０】
また、上記電解めっき処理が、めっき槽に収容された電解めっき液中に気泡を注入しながら行われることが好ましい。これにより、めっき液中の粒子が攪拌されるため、均一にムラなく基体に粒子をつけることが容易となる。
【０１１１】
電解めっき処理における電流密度（めっき面積１０平方センチメートル当たりの電流値）は、０．１〜１００Ａ／ｄｍ２とすることが好ましい。めっきの時間は、０．１〜６０分とすることが好ましい。また、基体を３〜３０ｒｐｍで回転させながら、めっき処理を行うことが好ましい。
【０１１２】
本実施形態においては、上記の電解めっき処理によって基体上に粒子を固定した後、さらに平坦化若しくは粗化のためのめっきを施してもよい。このめっきによって、所望の特性を発現するように粒子と基体との接点付近における粒子接線及び基体のなす角θなど、転写原型の凹凸表面の形状を調整することができる。
【０１１３】
上記のめっきとしては、特に限定されないが、金、銀、銅、ニッケル、亜鉛、ロジウム、錫、クロム、チタン、プラチナ、パラジウム、各種合金等によるめっきが挙げられる。これらの中でも、汎用性があり、簡便に粗化若しくは平坦化ができる銅、ニッケル等のめっきが好ましい。めっき方法としては、湿式めっきとして、電解めっき、無電解めっき、銀鏡反応等を用いることができる。平坦化をするためのめっきとしては、湿式めっきの他に、乾式めっきとして熔融めっきイオンプレーティング、真空蒸着、スパッタ等を用いることができる。
【０１１４】
次に、本発明に係るフィルム成型用型について説明する。本発明に係るフィルム成型用型は、上記本発明に係る転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を有する凹凸表面を有するものである。このフィルム成型用型によれば、主面上に凹凸形状を有するフィルムを成型することができ、特には、タッチパネル用光学フィルムとして好適なフィルムを得ることができる。
【０１１５】
図６は、フィルム成型用型を製造する方法の一実施形態を示す模式断面図である。本実施形態では、凹凸表面を有する転写原型を、変形可能な被転写フィルムに押し当て、その状態で固体状に変化させた後、転写原型から剥離してフィルム成型用型を作製している。
【０１１６】
本実施形態においては、被転写フィルムとして、支持フィルム５と、支持フィルム５上に設けられた硬化性樹脂組成物層６とを有する積層体が用いられる（図６（ａ））。この積層体の硬化性樹脂組成物層６に転写原型１１００の凹凸表面１１００ａを押し当てた状態で硬化が行われ、硬化した樹脂層を備える積層体は転写原型から剥離される（図６（ｂ））。こうして、転写原型１１００の凹凸表面１１００ａから転写された凹凸形状（凸部７ａ及び凹部７ｂ）を有する凹凸表面を有するフィルム成型用型７が得られる（図６（ｃ））。なお、本実施形態において感光性樹脂組成物の硬化は、転写原型１１００に対向して配置された活性光線照射装置Ｌ１から照射された活性光線Ｌ２によって行われる。
【０１１７】
支持フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、トリアセチルセルロースからなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。
【０１１８】
硬化性樹脂組成物層６は、例えば、光によって硬化が可能な感光性樹脂組成物を支持フィルム上に塗布することにより形成することができる。感光性樹脂組成物としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体のようなエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル・ビニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体のようなスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体のようなビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチル・酢酸ビニル共重合体のような（メタ）アクリル酸エステル共重合体、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステル、合成ゴム、セルロース誘導体等の樹脂成分と、モノマーとしてアクリル酸、メタクリル酸、ブチルアセテート、ビニルアセテート、アクリル酸メチル等のアクリル酸エステル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、スチレン、α-メチルスチレン等のスチレン又はその誘導体、ブタジエン、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジオールアクリレート、ペンタエリスリトールメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能性（メタ）アクリレートなどと、光重合開始剤としてベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４,４’-ジアミノベンゾフェノン、メチルベンゾイン、ベンゾフェノン、アクリジン誘導体などと、を含むものが挙げられるが、特に制限はされない。また、市販の各種感光性樹脂組成物（日立化成工業株式会社製、アクリル系共重合体を含むヒタロイドシリーズなど）を使用しても良いし、並びに、前述した第１の層１１及び／又は第２の層１２を構成する材料と同様のものを使用しても良い。
【０１１９】
感光性樹脂組成物を塗布する方法としては、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法が挙げられる。
【０１２０】
感光性樹脂組成物の硬化は、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプなどの活性光線照射装置による活性光線の照射によって行うことができ、必要に応じて加熱してもよい。
【０１２１】
フィルム成型用型を製造する別の方法として、例えば、図７（ａ）に示されるような、平坦な支持フィルム５上に形成された硬化性樹脂組成物層６に、転写原型１１００の凹凸表面１１００ａを押し当て、その後、硬化性樹脂組成物層を硬化させる方法が挙げられる。この方法によっても、転写原型１１００の凹凸表面１１００ａから転写された凹凸形状（凸部７ａ及び凹部７ｂ）を有する凹凸表面を有するフィルム成型用型７が得られる（図７（ｂ））。
【０１２２】
この方法の場合、支持フィルム５に代えて、例えば、ガラス及びセラミックスから選ばれる無機材料、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルフォン、ポリエチレンテレフタレート及びポリエーテルナフタレート、硬質シリコーン樹脂、並びにアクリル樹脂から選ばれる有機材料から構成される、厚さ５μｍ〜１０ｍｍ程度の支持基板を用いることができる。
【０１２３】
この方法においても、転写原型を押し当てながら熱や光等を与えて、硬化性樹脂組成物層を硬化されることができる。
【０１２４】
次に、本発明に係るフィルム成型用型を用いて本発明に係るタッチパネル用光学フィルム及び本発明に係るタッチパネル用光学部材を製造する方法について説明する。
【０１２５】
図８は、本発明に係るタッチパネル用光学フィルム及びタッチパネル用光学部材の製造方法の一実施形態を示す模式断面図である。本実施形態の方法は、フィルム成型用型７の凹凸表面７ａ上に、該凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程（図８（ａ）及び（ｂ））と、凹凸形状を主面上に有するフィルムをフィルム成型用型から剥離する工程（図８（ｃ））と、剥離した凹凸形状を主面上に有するフィルムを第１の層１１とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層１２を積層する工程（図８（ｄ））とを備える。これらの工程を経て、本発明に係るタッチパネル用光学部材１が得られる。
【０１２６】
上記フィルムは、上述した第１の層１１を構成する成分を含む液状物を、ロール８を用いてフィルム成型用型７の凹凸表面７ａ上に塗布し、塗布された液状物を熱又は光などにより固体状に変化させることにより形成できる。
【０１２７】
本実施形態においては、フィルム成型用型７上に塗布された液状物上に、凹凸表面を有する別の型を積層し、その状態で液状物を固体状に変化させる方法により、両面が凹凸形状を有するフィルムを形成し、これを第１の層とすることもできる。
【０１２８】
本発明においては、本発明に係る転写原型からタッチパネル用光学フィルムを作製することができる。この場合のタッチパネル用光学部材の製造方法としては、転写原型の凹凸表面上に、該凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、凹凸形状を主面上に有するフィルムを転写原型から剥離する工程と、剥離した凹凸形状を主面上に有するフィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程とを備える方法が挙げられる。また、別の方法として、支持フィルム上に設けられた硬化性樹脂組成物層の表面に転写原型の凹凸表面を押し当てた後、硬化性樹脂組成物層を硬化して、凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程（図９を参照）と、凹凸形状を主面上に有するフィルムを支持フィルムから剥離する工程と、剥離した凹凸形状を主面上に有するフィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程とを備えるタッチパネル用光学部材の製造方法が挙げられる。
【実施例】
【０１２９】
以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１３０】
（実施例１）
＜転写原型の作製＞
直径１３０ｍｍの円筒形のＳＵＳ製基材を回転させながら、銅めっきを行って、ＳＵＳ製基材上に銅が２００μｍ積層された原型基材を得た。そして、これを研磨して表面が鏡面となるように加工した。次に、これを回転させながら以下に示す銅光沢めっき液に浸漬し、電流密度（めっき面積１０平方センチメートルあたりの電流値）が８．３Ａ／ｄｍ２となるように電流を調節し、４分３０秒間光沢めっきを行い、基体とした。
（銅光沢めっき液）：
硫酸銅（和光純薬製） １５０ｇ／リットル
硫酸（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
光沢剤Ｈ−１（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
光沢維持剤Ｈ−２（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
メイクアップ剤Ｈ−ＭＵ（大和特殊（株）製） １０ｇ／リットル
【０１３１】
次に、上記基体を回転させながら以下に示す銅めっき液に浸漬し、電流密度が１Ａ／ｄｍ２となるように電流を調節し、５分間めっきを行った。その後、めっき液を除去する目的で、純水による洗浄を行った。
（銅めっき液）：
金めっきアクリル樹脂粒子（３０μｍΦ） １０ｇ／リットル
硫酸銅（和光純薬製） １５０ｇ／リットル
硫酸（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
光沢剤Ｈ−１（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
光沢維持剤Ｈ−２（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
メイクアップ剤Ｈ−ＭＵ（大和特殊（株）製） １０ｇ／リットル
【０１３２】
次に、基体上に固定された金めっきアクリル樹脂粒子による凹凸形状を整えるために、以下に示すニッケルめっき液に浸漬し、電流密度２．１Ａ／ｄｍ２となるように電流を調整し、光沢ニッケルめっきを２０分間行った。その後、めっき液を除去する目的で、純水による洗浄を行い、転写原型を得た。
（光沢ニッケルめっき液）：
硫酸ニッケル六水和物（和光純薬製） ２００ｇ／リットル
塩化ニッケル六水和物（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
硼酸（和光純薬製） ２０ｇ／リットル
サッカリンナトリウム（和光純薬製） ３ｇ／リットル
【０１３３】
＜第１の層（Ｌ−１）の作製＞
支持フィルムとして厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用意し、この支持フィルム上に、下記に示す光硬化性樹脂溶液をコンマコーターで塗布し乾燥して、５０μｍの膜厚の光硬化性樹脂層を形成し、積層体を得た。次いで、この積層体の光硬化性樹脂層に上記で作製した転写原型を押しあて、この状態で紫外線を照射して光硬化性樹脂を硬化した。その後、積層体を転写原型から分離し、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、凹凸表面を有する硬化樹脂層が設けられたフィルム成型用型を得た。
（光硬化性樹脂溶液）
アクリル酸−ブチルアクリレート−ビニルアセテート共重合体 ３１．５質量％
ブチルアセテート（モノマー） ５０．０質量％
ビニルアセテート（モノマー） １３．０質量％
アクリル酸（モノマー） １．８質量％
ヘキサンジオールアクリレート（モノマー） １．２質量％
ベンゾインイソブチルエーテル（開始剤） ２．５質量％
【０１３４】
上記フィルム成型用型の凹凸表面上に、付加反応型シリコーン樹脂溶液（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、商品名「ＴＳＥ−３４５０」）を、コンマコーターを用いて均一に塗布した。その後、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた１０分間の加熱により、片面が平坦でその反対側の表面が凹凸形状を有する、第１の層（Ｌ−１）としての固体状のシリコーンゴム層を形成させた。
【０１３５】
次いで、この第１の層（Ｌ−１）となる固体状のシリコーンゴム層と、膜厚５０μｍのトリアセチルセルロースにシリコーン粘着材が積層されたフィルムとを、シリコーンゴム層とシリコーン粘着材が接するようにラミネータを用いて貼り合わせた。ラミネータは、日立化成工業（株）製の商品名「ＨＬＭ−３０００型を使用し、ラミネート条件は、ロール温度２５℃、送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａであった。
【０１３６】
その後、第１の層（Ｌ−１）となる固体状のシリコーンゴム層、シリコーン粘着材層及びトリアセチルセルロースの積層体を、フィルム成型用型から剥離し、片面に凹凸形状を有し、その反対側の表面が平坦である第１の層（Ｌ−１）を、トリアセチルセルロースに積層されたシリコーン粘着材層上に形成した。
【０１３７】
こうして得られた第１の層（Ｌ−１）の膜厚（転写原型の粒子によって形成された凸部を除いた部分の厚さ）を（株）小坂研究所製の表面形状測定装置（サーフコーダー ＳＥ-３０Ｄ型）を用いて測定した結果、膜厚は６０μｍであった。また、形成された凸部の高さと最大幅を、Ｐｈｉｌｉｐｓ製、操作型電子顕微鏡（ＸＬ３０）を使用して測定した結果、高さは２５μｍであり、最大幅は３３μｍであった。また、凸部以外の場所は、最大高さが０．０１〜１μｍのランダムな凹凸形状を有する粗面化された平坦部が形成されていた。さらに、第１の層上における単位面積あたり凸部の数を光学顕微鏡で観察して測定した結果、凸部の密度は７０個／ｍｍ２であった。
【０１３８】
＜第２の層（Ｌ−２）の作製＞
支持体フィルムとして表面が平滑なトリアセチルセルロースフィルムを準備し、その平滑な表面上に付加反応型シリコーン樹脂溶液（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、商品名ＴＳＥ-３４５０）を、コンマコーターを用いて均一に塗布した。その後、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた１０分間の加熱により、両面が平坦な固体状のシリコーンゴム層（第２の層（Ｌ−２））を形成させた。
【０１３９】
得られた第２の層（Ｌ−２）である固体状シリコーンゴム層の厚さを（株）小坂研究所製表面形状測定装置（サーフコーダー ＳＥ-３０Ｄ型）を用いて測定したところ、６０μｍであった。
【０１４０】
＜光学部材（ｉ）の作製＞
上記で得た第１の層（Ｌ−１）の凸部を有する面上に、上記で得た第２の層（Ｌ−２）を積層し、圧着圧力３×１０２Ｐａで均一に加圧しながら、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた６０分間の加熱により、支持体フィルムに挟まれた光学部材（ｉ）を形成させた。
【０１４１】
［凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）の圧縮弾性率］
光学部材（ｉ）を構成する、凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を形成するために使用した付加反応型シリコーン樹脂溶液を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの平滑面上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、７５℃の熱風対流式乾燥機で６０分間加熱して、固体状のシリコーンゴム層を形成させた。
【０１４２】
次いで、得られたシリコーンゴム層をポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離して、両面が平坦なシリコーンゴム層単体を得た。得られたシリコーンゴム層単体の厚さは、６０μｍであった。得られたシリコーンゴム層単体を、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に積層して、圧縮弾性率評価用の試料を得た。
【０１４３】
（株）島津製作所製超微小硬度計（ＤＵＨ−２０１型）を使用して、試料の厚さ方向に、温度２５℃において、最大加圧０．１ｍＮ／μｍ２、時間２０秒で、直径φ５０μｍの円形平面圧子により加圧し、そのときの荷重−変位を連続的に測定した。得られた荷重−変位の傾きから圧縮弾性率を算出したところ、３ＭＰａであった。この結果から、光学部材（ｉ）を構成する、凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）は、表面形状の可逆的な変形及び復元が可能なゴム弾性を有することが確認できた。
【０１４４】
［光学部材（ｉ）の可視光線透過率変化］
光学部材（ｉ）に積層されている第２の層側の支持体フィルム（トリアセチルセルロース）を剥離し、光学部材（ｉ）を含む積層体を、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上にラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて積層した。積層条件は、ロール温度２５℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａであった。以下の実施例及び比較例では、光学部材のガラス基板上への積層等は原則として同様の条件で行った。このとき、第２の層（Ｌ−２）がガラス基板に接する向きで光学部材を積層して、可視光線透過率変化評価用の試料を得た。
【０１４５】
得られた試料の第１の層（Ｌ−１）側のトリアセチルセルロース（支持体フィルム）上に直径φ１０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍの円盤状ガラス板を載置した。そして、液晶表示装置に用いられるＬＥＤバックライトを光源とする可視領域の光線を試料に対して法線方向に照射し、（株）トプコン製色彩輝度計（ＢＭ−５Ａ）を使用して、測定視野角１°の範囲で試料を透過した光線の輝度ａを測定した。また、試料から光学部材（ｉ）を含む積層体のみを取り除き、その状態でガラス基板及び円盤状のガラス板を透過した光線の輝度ｂを同様に測定した。測定した輝度ａ及び輝度ｂから、光学部材（ｉ）に対して力学的圧力を加えていない状態の可視光線透過率Ｔ１（＝ａ／ｂ×１００（％））を求めた。
【０１４６】
さらに、上記と同様に試料の第１の層（Ｌ−１）側のトリアセチルセルロース（支持体フィルム）上に円盤状ガラス板を載置し、ガラス基板と円盤状ガラス板間に５×１０３Ｐａの圧縮荷重を加えた。その状態で、上記と同様に、測定視野角１°の範囲で試料を透過した光線の輝度ｃを測定した。また、試料から光学部材（ｉ）を含む積層体のみを取り除き、その状態でガラス基板及びガラス板を透過した光線の輝度ｄを測定した。測定した輝度ｃ及び輝度ｄから、光学部材に力学的圧力を加えたときの可視光線透過率Ｔ２（＝（ｃ／ｄ）×１００（％））を求めた。求めた可視光線透過率Ｔ１とＴ２の差の絶対値（ΔＴ）は１５％であった。この結果から、得られた光学部材（ｉ）の可視光線透過率は、力学的圧力を加えることによって十分に変化することを確認できた。
【０１４７】
［光学部材（ｉ）の可視光線反射率変化］
酸化マグネシウム製の白色板に厚さ０．７ｍｍのガラス基板及び直径φ１０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍの円盤状ガラス板を載置した。そして、コニカミノルタホールディングス（株）製ｃｍ５１２ｍ３型分光測色計を使用して、白色板に対して法線方向に可視光線を照射し、白色板の法線方向に対して角度２５°の方向に反射した反射光の明度ａ’を測定した。
【０１４８】
次いで、光学部材（ｉ）に積層されている第２の層側の支持体フィルム（トリアセチルセルロース）を剥離し、光学部材（ｉ）を含む積層体を、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に積層した。このとき、第２の層（Ｌ−２）がガラス基板に接する向きで光学部材（ｉ）を積層した。さらに、第１の層（Ｌ−１）側のトリアセチルセルロース（支持体フィルム）上に直径φ１０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍの円盤状ガラス板を載置した。その状態で、前記と同様の方法により、試料に対して法線方向に可視光線を照射して、試料の法線方向に対して角度２５°の方向に反射した反射光の明度ｂ’を測定した。
【０１４９】
測定した明度ａ’及び明度ｂ’から、光学部材（ｉ）に力学的圧力を加えていない状態での光学部材の可視光線反射率Ｒ１（＝ｂ’／ａ’×１００（％））を求めた。
【０１５０】
さらに、ガラス基板と円盤状ガラス板との間に５×１０３Ｐａの荷重を加えながら、上記と同様の方法により、試料に対して法線方向に可視光線を照射して、試料の法線方向に対して角度２５°の方向に反射した反射光の明度ｃ’を測定した。測定した明度ｃ’及び明度ａ’から、光学部材（ｉ）に力学的圧力を加えた状態での光学部材（ｉ）の可視光線反射率Ｒ２（＝（ｃ’／ａ’）×１００（％））を求めた。求めた可視光線反射率Ｒ１とＲ２の差の絶対値（ΔＲ）は３０％であった。この結果から、得られた光学部材（ｉ）の可視光線反射率は、力学的圧力を加えることによって十分に変化することを確認できた。
【０１５１】
［凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を構成する材料から構成された両面平坦膜の可視光線透過率］
光学部材（ｉ）を構成する、凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を形成するために使用した付加反応型シリコーン樹脂溶液を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの平坦面上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、７５℃の熱風対流式乾燥機で６０分間加熱して、固体状のシリコーンゴム層を形成させた。
【０１５２】
得られたシリコーンゴム層をポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離して、両面が平坦な可視光線透過率評価用のシリコーンゴム層単体（厚さ２０μｍ）を得た。このシリコーンゴム層単体を、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に積層して、可視光線透過率評価用の試料を作製した。ＬＥＤバックライトを光源とする可視領域の光線を試料に対して法線方向に照射し、（株）トプコン製色彩輝度計（ＢＭ−５Ａ）を使用して、測定視野角１°の範囲で試料を透過した光線の輝度Ａを測定した。この状態から、シリコーンゴム層単体のみを取り除いて、同様に輝度Ｂを測定した。測定した輝度Ａ及び輝度Ｂから、凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を構成する材料から形成された両面平坦膜の可視光線透過率Ｔ（＝Ａ／Ｂ×１００（％））を求めところ、Ｔ＝９９％であり、高透明であることを確認できた。
【０１５３】
（実施例２）
＜転写原型の作製＞
直径１３０ｍｍの円筒形のＳＵＳ製基材を回転させながら、銅めっきを行って、ＳＵＳ製基材上に銅が２００μｍ積層された原型基材を得た。そして、これを研磨して表面が鏡面となるように加工した。次に、これを回転させながら以下に示す銅光沢めっき液に浸漬し、電流密度（めっき面積１０平方センチメートルあたりの電流値）が８．３Ａ／ｄｍ２となるように電流を調節し、４分３０秒間光沢めっきを行った。その後、めっき液を除去する目的で、純水による洗浄を行い、基体とした。
（銅光沢めっき液）：
硫酸銅（和光純薬製） １５０ｇ／リットル
硫酸（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
光沢剤Ｈ−１（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
光沢維持剤Ｈ−２（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
メイクアップ剤Ｈ−ＭＵ（大和特殊（株）製） １０ｇ／リットル
【０１５４】
次に、上記基体を回転させながら以下に示すニッケルめっき液に浸漬し、電流密度が２０Ａとなるように電流を調節し、５分間めっきを行った。
（ニッケルめっき液）：
金めっきアクリル樹脂粒子（３０μｍΦ）
２００ｇ／リットル
硫酸ニッケル六水和物（和光純薬製） ２００ｇ／リットル
塩化ニッケル六水和物（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
硼酸（和光純薬製） ２０ｇ／リットル
サッカリンナトリウム（和光純薬製） ３ｇ／リットル
【０１５５】
次に、基体上に固定された金めっき粒子による凹凸形状を整えるために、以下に示すニッケルめっき液に浸漬し、電流密度２．１Ａ／ｄｍ２となるように電流を調整し、光沢ニッケルめっきを２０分間行った。その後、めっき液を除去する目的で、純水による洗浄を行い、転写原型を得た。
（光沢ニッケルめっき液）：
硫酸ニッケル六水和物（和光純薬製） ２００ｇ／リットル
塩化ニッケル六水和物（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
硼酸（和光純薬製） ２０ｇ／リットル
サッカリンナトリウム（和光純薬製） ３ｇ／リットル
【０１５６】
＜第１の層（Ｌ−１）の作製＞
支持フィルムとして厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用意し、この支持フィルム上に、光硬化性樹脂（日立化成工業性（株）製ヒタロイドＨＡ−７９８１Ｆ４７；アクリル系共重合体、アクリレートモノマ及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物）をコンマコーターで塗布し乾燥して、５０μｍの膜厚の光硬化性樹脂層を形成し、積層体を得た。次いで、この積層体の光硬化性樹脂層に上記で作製した転写原型を押しあて、この状態で紫外線を照射して光硬化性樹脂を硬化した。その後、積層体を転写原型から分離し、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、凹凸表面を有する硬化樹脂層が設けられたフィルム成型用型を得た。
【０１５７】
上記フィルム成型用型の凹凸表面上に、付加反応型シリコーン樹脂溶液（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、商品名「ＴＳＥ−３４５０」）を、コンマコーターを用いて均一に塗布した。その後、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた１０分間の加熱により、片面が平坦でその反対側の表面が凹凸形状を有する、第１の層（Ｌ−１）としての固体状のシリコーンゴム層を形成させた。
【０１５８】
次いで、この第１の層（Ｌ−１）となる固体状のシリコーンゴム層と、膜厚５０μｍのトリアセチルセルロースにシリコーン粘着材が積層されたフィルムとを、シリコーンゴム層とシリコーン粘着材が接するようにラミネータを用いて貼り合わせた。ラミネータは、日立化成工業（株）製の商品名「ＨＬＭ−３０００型を使用し、ラミネート条件は、ロール温度２５℃、送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａであった。
【０１５９】
その後、第１の層（Ｌ−１）となる固体状のシリコーンゴム層、シリコーン粘着材層及びトリアセチルセルロースの積層体を、フィルム成型用型から剥離し、片面に凹凸形状を有し、その反対側の表面が平坦である第１の層（Ｌ−１）を、トリアセチルセルロースに積層されたシリコーン粘着材層上に形成した。
【０１６０】
こうして得られた第１の層（Ｌ−１）の膜厚（転写原型の粒子によって形成された凸部を除いた部分の厚さ）を（株）小坂研究所製の表面形状測定装置（サーフコーダー ＳＥ-３０Ｄ型）を用いて測定した結果、膜厚は６０μｍであった。また、形成された凸部の高さと最大幅を、Ｐｈｉｌｉｐｓ製、操作型電子顕微鏡（ＸＬ３０）を使用して測定した結果、高さは２５μｍであり、最大幅は３３μｍであった。さらに、第１の層上における単位面積あたり凸部の数を光学顕微鏡で観察して測定した結果、凸部の密度は７０個／ｍｍ２であった。
【０１６１】
＜第２の層（Ｌ−２）の作製＞
支持体フィルムとして表面が平滑なトリアセチルセルロースフィルムを準備し、その平滑な表面上に付加反応型シリコーン樹脂溶液（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、商品名ＴＳＥ−３４５０）を、コンマコーターを用いて均一に塗布した。その後、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた１０分間の加熱により、両面が平坦な固体状のシリコーンゴム層（第２の層（Ｌ−２））を形成させた。
【０１６２】
得られた第２の層（Ｌ−２）である固体状シリコーンゴム層の厚さを（株）小坂研究所製表面形状測定装置（サーフコーダー ＳＥ-３０Ｄ型）を用いて測定したところ、６０μｍであった。
【０１６３】
＜光学部材（ｉｉ）の作製＞
上記で得た第１の層（Ｌ−１）の凸部を有する面上に、上記で得た第２の層（Ｌ−２）を積層し、圧着圧力３×１０２Ｐａで均一に加圧しながら、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた６０分間の加熱により、支持体フィルムに挟まれた光学部材（ｉｉ）を形成させた。
【０１６４】
第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）の圧縮弾性率について実施例１と同様にして評価した。圧縮弾性率を算出したところ、３ＭＰａであり、光学部材（ｉｉ）を構成する、第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）は、表面形状の可逆的な変形及び復元が可能なゴム弾性を有することが確認できた。
【０１６５】
光学部材（ｉｉ）の可視光線透過率変化及び可視光線反射率変化について、実施例１と同様にして評価した。可視光線透過率Ｔ１とＴ２の差の絶対値（ΔＴ）は１５％であった。この結果から、得られた光学部材（ｉｉ）の可視光線透過率は、力学的圧力を加えることによって十分に変化することを確認できた。求めた可視光線反射率Ｒ１とＲ２の差の絶対値（ΔＲ）は３０％であった。この結果から、得られた光学部材（ｉｉ）の可視光線反射率は、力学的圧力を加えることによって十分に変化することを確認できた。
【０１６６】
第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を構成する材料から構成された両面平坦膜の可視光線透過率を、実施例１と同様にして求めた。第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を構成する材料から形成された両面平坦膜の可視光線透過率Ｔ（＝Ａ／Ｂ×１００（％））を求めところ、Ｔ＝９９％であり、高透明であることを確認できた。
【０１６７】
（比較例１）
実施例１における金めっき粒子を含む銅めっき液に代えて、金めっき粒子を含まない銅めっき液を用いたこと以外は実施例１と同様にして転写原型を作製した。この転写原型を用いて、実施例１と同様にして光学部材（Ｃ−ｉ）を作製した。光学部材（Ｃ−ｉ）の第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）の間には空隙ができなかった。
【０１６８】
光学部材（Ｃ−ｉ）の可視光線反射率変化について、実施例１と同様にして評価したところ、可視光線反射率Ｒ１とＲ２に差は見られず、得られた光学部材（Ｃ−ｉ）の可視光線反射率は、力学的圧力を加えても変化しないことが確認された。
【符号の説明】
【０１６９】
１…光学部材、２…空隙、４…液晶セル、７…フィルム成型用型、１０…タッチパネル用光学フィルム、１１…第１の層（タッチパネル用光学フィルム）、１２…第２の層、１３…接着剤、１４…凸部、１５…凹部、２０，２１…偏光板、２２…位相差板、２３…ガラス基板、２４…ガラス基板、２５…カラーフィルター、３０，３１…粘着層、４０，４１…透明電極、４２，４３…配向膜、４５…液晶層、４７…スペーサー、５０…遮光膜、５１…薄膜トランジスター、５２…光センサー、５４…絶縁膜、６０…バックライト、１００…タッチパネル、Ｓ１，Ｓ２…光学部材の主面、Ｓ１００…画面、１０００…転写原型、１０１０…基体、１０２０…粒子、１０３０…めっき層、１０４０…凸部、１０５０…凹部。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定の部材表面に凹凸形状を転写するための凹凸表面を有する転写用原型及びフィルム成型用型、並びに、それらを用いて製造されるタッチパネル用光学フィルム及びタッチパネル用光学部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置の多機能化にともない、タッチパネルに代表される入力装置が近年広く用いられている。タッチパネルは、指またはペンなどでタッチした位置を感知することのできる入力装置であり、多くの場合、表示装置としての機能も有している。タッチパネルの用途としては、例えば携帯電話や携帯情報端末機（ＰＤＡ）などのモバイル機器、銀行の現金自動預入支払機が挙げられる。
【０００３】
タッチパネルがタッチされた位置を検出する方式としては、例えば、抵抗膜方式、静電容量方式、光センサー方式が知られている。
【０００４】
抵抗膜方式タッチパネルは、一般に、表示装置の画面上に配置されたガラス基板表面に透明導電膜が形成され、その上に微小なスペーサーを配置し、さらにその上に透明導電膜が形成されたフィルムを貼り付けた構造を有している。フィルム面がタッチされていないときには透明導電膜同士はスペーサーによって非接触の状態にあるが、フィルム面をタッチすることによってフィルムが圧力でたわんで透明導電膜同士が接触し、導通を生じる。この導通部分における抵抗変化に基づいて、タッチされた位置が検出される。抵抗膜方式は、指でもペンでも入力が可能であり、生産コストを安くすることができるなどの特長を持つ。その反面、透明導電膜が脆いため、タッチしたときの屈曲を繰り返すことによって剥がれなどの劣化が生じ、検出の感度、分解能損失、透過率低下を引き起こすなど耐久性が低く、また一般的に透過率が低いなどの問題を有している（特許文献１及び２）。
【０００５】
静電容量方式タッチパネルは、電気容量を検出する１層の透明導電膜を含む構造を有している。タッチされた部分の容量結合電気信号の変化を感知することによって、タッチされた位置を検出することができる。静電容量方式は、抵抗膜方式に比べて耐久性及び透過率に優れている。しかしながら、指または導電性を有する特殊なペンでのみ操作可能であり、手袋を装着した指や非導電性のペンでは入力ができないなどの問題がある（特許文献１）。
【０００６】
光センサー方式では、光を感知する機能を有する光センサーが表示装置に実装される。タッチの有無を光センサーが受光量の変化として検出する。表示装置が液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）である場合、光センサーは例えば液晶セル内に配置される。タッチパネル上に指を置くと、光センサーに入射する外光が指によって遮光され、光センサーの受光量が変化する。この変化によってタッチした位置が検出される（特許文献３）。光センサー方式では、表示装置の各画素に光センサーを配置することも可能であるため、イメージセンサーとしても利用することができ、イメージスキャナーの機能を付与できる利点がある。また、抵抗膜方式や静電容量方式では困難な多点入力が可能であることから、様々なアプリケーションへの応用が期待できる。光センサー方式に関して、光源を有するライトペンを入力手段として利用する方法も提案されている。
【０００７】
また、液晶ディスプレイなどの表示装置の場合、光センサーが検出する光源としてバックライトの反射光を利用する方法も提案されている。この方法では、画面上に置かれた指とタッチパネル面との界面でバックライト光が反射し、その反射光を光センサーが感知することによりタッチした部分の位置が認識される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特表２００５-５３０９９６号公報
【特許文献２】特表２００７-５２２５８６号公報
【特許文献３】特開昭６１−３２３２号公報
【特許文献４】特開平２-２１１４２１号公報
【特許文献５】特開平４-２２２９１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記のように、光センサー方式のタッチパネルは、耐久性、多点入力など多くの有利な点を有している。
【００１０】
しかしながら、光センサー方式のタッチパネルは、外光の受光量が不十分な環境、例えば薄暗い環境においては、タッチパネル上に指を置いても光センサーが受光量の変化を検出することが困難となり、位置認識の誤動作を起こしやすいという問題を有している。ライトペンを利用すればこの問題は解消され得るが、入力のために特殊なライトペンが必要となり、利便性に欠ける。バックライト光の反射光を利用する方法も外光不足の対策としてある程度有効と考えられるが、この方法では液晶表示装置を黒表示したときにタッチパネル上に指を置いてもバックライト光を反射させることができず、タッチした部分の位置の検出ができない。
【００１１】
そこで、本発明者らは、外光が弱い環境下でも誤動作が少なく、特殊なペンを使用せずとも入力が可能であり、さらには液晶表示装置において画像を黒表示した場合でも入力が可能なタッチパネルを得ることを可能にする光学部材の実現を目指して検討を行った。その検討のなかで、本発明者らは、主面上に凹凸形状を有する光学フィルムが上記光学部材の実現に有効であることを見出した。
【００１２】
他方、タッチパネルの更なる需要拡大が期待されるため、光学部材を生産性よく且つ安定に製造できる技術が求められている。これに対しては、上記光学部材の実現に加えて、上記光学フィルムを安定供給できる技術提供も課題となる。
【００１３】
本発明は以上のような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、主面上に凹凸形状を有するフィルムの製造に用いることができる転写原型及びフィルム成型用型を提供することにあり、また、これらの型を用いて得られるタッチパネル用光学フィルム、並びにタッチパネル用光学部材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために本発明は、凹凸表面を有し、該凹凸表面から所定の部材表面に凹凸形状を転写するための転写原型であって、基体と、該基体の表面にめっきにより固定された複数の粒子と、を備える転写原型を提供する。本発明の転写原型は、基体の表面に固定された上記複数の粒子によって凹凸形状が設けられている。本発明の転写原型によれば、固定される粒子の粒径や密度（単位面積当たりの個数）などを適宜調節することにより凹凸形状の設計が可能であり、所定の部材表面に所望の凹凸形状を形成することができる。また、本発明の転写原型は、複合めっきによって凹凸表面が形成され得るものであることから、製造が容易であるという利点も有している。
【００１５】
本発明の転写原型は、主面上に凹凸形状を有するフィルムを成型するための、転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を有する凹凸表面を有するフィルム成型用型、の作成に用いられることが好ましい。上記フィルム成型用型を介してフィルムを成型する場合、本発明の転写原型の凹凸表面と同形状の凹凸形状をフィルム表面に設けることができる。また、本発明の転写原型によって上記フィルム成型用型を量産すれば、主面上に凹凸形状を有するフィルムの生産性を高めることができる。
【００１６】
本発明の転写原型は、上記フィルムがタッチパネル用光学フィルムとして用いられるものである場合の上記フィルム成型用型の作成に用いられるものであることが好ましい。
【００１７】
また、本発明の転写原型は、粗面化されている凹部を有するものであることが好ましい。特に、主面上に凹凸形状を有するタッチパネル用光学フィルムを成型するためのフィルム成型用型の作成に本発明の転写原型が用いられる場合、上記粗面化されている凹部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に粗面化されている凹部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、モアレやギラツキが発生しにくいものになり得る。
【００１８】
本発明の転写原型は、上記粒子によって形成され、高さが１〜８０μｍである凸部を有するものであることが好ましい。本発明において、「転写原型の凸部の高さ」とは、所定の幅内の断面における凸部の頂部と凹部の底部との高低差を意味する。特に、主面上に凹凸形状を有するタッチパネル用光学フィルムを成型するためのフィルム成型用型の作成に本発明の転写原型が用いられる場合、上記凸部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に高さが１〜８０μｍの凸部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、外光が弱い環境下でも誤動作が生じにくいものになり得る。
【００１９】
本発明の転写原型は、上記粒子によって形成され、最大幅が１〜３００μｍである凸部を有するものであることが好ましい。本発明において、「転写原型の凸部の最大幅」とは、凸部の高さ方向と直交する方向の幅のうちの最大の値を意味する。特に、主面上に凹凸形状を有するタッチパネル用光学フィルムを成型するためのフィルム成型用型の作成に本発明の転写原型が用いられる場合、上記凸部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に最大幅が１〜３００μｍの凸部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、タッチパネルにおける表示品質を十分維持しながら、外光が弱い環境下でも誤動作が生じにくいものになり得る。
【００２０】
本発明の転写原型は、当該転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを製造するために用いることができる。この場合、転写原型の凸部はフィルムの表面に凹部として転写されることになる。このようにして得られるフィルムは、タッチパネル用光学フィルムとして用いることができる。
【００２１】
本発明はまた、上記本発明の転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を有する凹凸表面を有するフィルム成型用型を提供する。本発明のフィルム成型用型によれば、主面上に凹凸形状を有するフィルムを成型することができ、特には、タッチパネル用光学フィルムとして好適なフィルムを得ることができる。
【００２２】
本発明はまた、上記本発明のフィルム成型用型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムからなる第１のタッチパネル用光学フィルムを提供する。
【００２３】
本発明のタッチパネル用光学フィルムは、良好なタッチパネル特性を得る観点から、スペーサーとして機能する凸部と、該凸部間に設けられた平坦部と、を主面上に有するものであることが好ましい。
【００２４】
本発明はまた、上記本発明の転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムからなる第２のタッチパネル用光学フィルムを提供する。
【００２５】
本発明はまた、第１の層と、該第１の層に部分的に又は完全に離れるように設けられた第２の層とを備え、第１の層及び第２の層の少なくとも一方の層は、上記本発明の第１のタッチパネル用光学フィルムからなり、他方の層と対向する表面に凹凸形状を有する層であり、且つ、第１の層及び第２の層の少なくとも一方の層は、力学的な圧力を加えることによる変形と力学的な圧力を除くことによる形状の復元とが可逆的に可能であることを特徴とする第１のタッチパネル用光学部材を提供する。
【００２６】
本発明はまた、第１の層と、該第１の層に部分的に又は完全に離れるように設けられた第２の層とを備え、第１の層及び第２の層の少なくとも一方の層は、上記本発明の第２のタッチパネル用光学フィルムからなり、他方の層と対向する表面に凹凸形状を有する層であり、且つ、第１の層及び第２の層の少なくとも一方の層は、力学的な圧力を加えることによる変形と力学的な圧力を除くことによる形状の復元とが可逆的に可能であることを特徴とする第２のタッチパネル用光学部材を提供する。
【００２７】
本発明はまた、上記本発明の第１のタッチパネル用光学部材の製造方法であって、フィルム成型用型の凹凸表面上に、該凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、凹凸形状を主面上に有するフィルムをフィルム成型用型から剥離する工程と、剥離した凹凸形状を主面上に有するフィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程と、を備えるタッチパネル用光学部材の製造方法を提供する。
【００２８】
本発明はまた、上記本発明の第２のタッチパネル用光学部材の製造方法であって、支持フィルム上に設けられた硬化性樹脂組成物層の表面に転写原型の凹凸表面を押し当てた後、硬化性樹脂組成物層を硬化して、転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、凹凸形状を主面上に有するフィルムを支持フィルムから剥離する工程と、剥離した凹凸形状を主面上に有するフィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程と、を備えるタッチパネル用光学部材の製造方法を提供する。
【００２９】
本発明はまた、上記本発明の転写原型を製造する方法であって、基体として円柱状の導電性基体と、粒子を含む電解めっき液が収容されためっき槽とを用意し、これらを導電性基体の周面の一部が電解めっき液に浸漬するように配置し、導電性基体を軸周りに回転駆動させながら電解めっき処理を行うことにより導電性基体の表面に粒子を固定することを特徴とする転写原型の製造方法を提供する。
【００３０】
上記電解めっき処理は、回転駆動する導電性基体の電解めっき液に浸漬していない周面にブレード状の部材又はフィルム状の部材を当接させて導電性基体の表面に付着する電解めっき液を均しながら行われることが好ましい。これにより、導電性基体に付着した粒子の上にさらに粒子が付着することを防止することができる。
【００３１】
また、上記粒子が、樹脂からなる中核と、該中核を被覆する金属層とからなるものであることが好ましい。このような粒子を用いることにより、粒子の比重がめっき液に近くなるために粒子がめっき液に分散されやすくなり、導電性基体上で均一な粒子分布が得られやすくなる。
【００３２】
更に、上記電解めっき処理が、めっき槽に収容された電解めっき液中に気泡を注入しながら行われることが好ましい。これにより、めっき液が攪拌されて導電性基体上で均一な粒子分布が得られやすくなる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、外光が弱い環境下でも誤動作が少なく、特殊なペンを使用せずとも入力が可能であり、さらには液晶表示装置において画像を黒表示した場合でも入力が可能なタッチパネルを得ることを可能にするタッチパネル用光学部材を提供することができる。また、本発明によれば、かかるタッチパネル用光学部材に用いられるタッチパネル用光学フィルム並びにその製造に好適な転写原型及びフィルム成型用型を提供することができ、上記のタッチパネル用光学部材を生産性よく安定に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明に係るタッチパネルの断面構成を模式的に示す図である。
【図２】タッチパネル１００における非押圧時及び押圧時の断面構成を模式的に示す図である。
【図３】本発明に係る転写原型の一実施形態を模式的に示す図である。
【図４】本発明に係る転写原型の他の実施形態を模式的に示す図である。
【図５】本発明に係る転写原型を製造する方法を説明するための模式図である。
【図６】本発明に係るフィルム成型用型を製造する方法を説明するための模式図である。
【図７】本発明に係るフィルム成型用型を製造する方法を説明するための模式図である。
【図８】本発明に係るタッチパネル用光学フィルム及びタッチパネル用光学部材を製造する方法を説明するための模式図である。
【図９】本発明に係るタッチパネル用光学フィルムを製造する方法を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００３６】
まず、本発明に係るタッチパネルについて説明する。
【００３７】
図１は、本発明のタッチパネル用光学部材を備えるタッチパネルの一実施形態を示す端面図である。図１に示すタッチパネル１００は、液晶セル４と、液晶セル４の一方面側に設けられた光源としてのバックライト６０と、液晶セル４の他方面側に設けられた光学部材１と、液晶セル４内に設けられた光センサー５２と、液晶セル４及び光学部材１を挟んで対向配置された一対の偏光板２０，２１とを主として備える。
【００３８】
液晶セル４は、対向配置された２枚のガラス基板２３，２４と、バックライト６０側のガラス基板２４上に設けられた薄膜トランジスター５１及び光センサー５２と、薄膜トランジスター５１及び光センサー５２を覆う絶縁膜５４と、絶縁膜５４上に積層された透明電極４１、配向膜４３、液晶層４５、配向膜４２及び透明電極４０とを含む。ガラス基板２４と薄膜トランジスター５１及び光センサー５２との間には遮光膜５０が設けられている。配向膜４２と配向膜４３との間にはスペーサー４７が設けられている。ガラス基板２３上には、粘着層３１、光学部材１、粘着層３０、位相差板２２及び偏光板２０がこの順で積層されている。
【００３９】
図１に示すタッチパネル１００は、液晶表示装置としての機能とともに、画面Ｓ１００の所定の位置が指等でタッチされたときにその位置を検出する機能も有する入力装置である。
【００４０】
光学部材１は、第１の層１１と、第１の層１１上に積層された第２の層１２とを備える。光学部材１は、第１の層１１側の主面Ｓ１及び第２の層側の主面Ｓ２を有する積層シートである。第１の層１１の第２の層１２側の表面１１ａは凸部１４と粗面化された凹部１５とから形成される凹凸形状を有しており、第２の層１２の第１の層１１側の表面１２ａは平坦である。光学部材１は、第１の層１１がバックライト６０及び光センサー５２側に位置する向きで配置されている。
【００４１】
第１の層１１の凸部１４がスペーサーとして機能し、第１の層の表面１１ａと第２の層の表面１２ａとは互いに部分的に離れており、離れた位置において第１の層１１と第２の層１２の間に空隙２が形成されている。空隙２内の気体は空気であってもよいし、窒素、ヘリウム及びアルゴンのような安定で無害な気体であってもよい。あるいは、空隙２内が真空であってもよい。
【００４２】
本実施形態においては、第１の層１１の凸部１４と第２の層１２とが接着剤１３によって接着されている。第１の層１１及び第２の層１２は接着剤を用いずに積層されていてもよいが、接着されていることにより、後工程で第１の層１１と第２の層１２のズレが起きにくくなり安定性が向上し、温度や気圧変化に対してもより強力な耐性が得られやすくなる。
【００４３】
図２は、光学部材１の機能を説明するための模式図である。図２の（ａ）に示すように、タッチパネル１００の画面Ｓ１００が押圧されていないとき、バックライト６０から発せられて光学部材１内に進入した光の一部は、第１の層１１の粗面化された凹部１５の表面において反射して反射光Ｌ１となる。粗面化された凹部１５の表面は凹凸形状を有していることから光が反射又は散乱し易く、第１の主面Ｓ１側に設けられた光センサー５２が受光する、散乱光を含む反射光の光量は比較的大きい。
【００４４】
図２の（ｂ）に示すように、タッチパネル１００の画面Ｓ１００の所定の位置が指Ｆによってタッチされたとき、光学部材１は主面Ｓ２側から押圧される。このように力学的圧力が局所的に加えられた第２の層は第１の層側に向けて歪み、第１の層１１及び第２の層１２が互いに押し付けられる。そうすると表面１１ａの凹凸形状における凸部が表面１２ａとの接触により押しつぶされて、表面１１ａが可逆的に変形する。その結果、第１の層の表面１１ａが、押圧された位置において表面１２ａに沿うほぼ平坦な形状に変化する。表面１１ａが平坦になると、そこで反射又は散乱する光が減少し、光学部材１内に進入した光は主として指Ｆと画面Ｓ１００との界面で反射するようになる。指Ｆと画面Ｓ１００との界面で反射した反射光Ｌ２の光量は、一般に反射光Ｌ１の光量よりも小さい。また、光学部材を透過する光の光量又は輝度が大きくなる。この状態で光センサー５２が受光する光量は、光学部材１が押圧されていないときと比較すると小さくなる場合が多い。
【００４５】
このように、光学部材１が主面Ｓ２側から押圧されたときに、主面Ｓ１側から入射した光の反射光の光量等が変化する。この光学的な変化を主面Ｓ１側に設けられた光センサーを用いて検知することにより、タッチパネル１００がタッチされた所定の位置を認識することが可能である。また、光学部材１が画面Ｓ１００側の偏光板２０とバックライト６０との間に設けられていることから、黒表示のときでも白表示等のときと同様にバックライトの光及びその反射光を効率的に利用することができる。
【００４６】
光センサー５２としては、光量等の反射光の光学的なパラメータを検知可能なものであれば、特に制限なく用いられる。具体的には、アモルファスシリコン、多結晶シリコンなど、光電効果を発現する半導体素子が挙げられる。
【００４７】
光学部材１の第１の層１１は、力学的圧力に対して可逆的な変形が可能なゴム弾性を有する。第１の層１１がゴム弾性を有していることにより、光学部材１が押圧されたときにその表面１１ａが容易に可逆的に変形する。タッチパネルの耐久性の観点からも、第１の層及び第２の層のうち少なくとも一方がゴム弾性を有していることが好ましい。
【００４８】
タッチパネルの耐久性、操作性、誤動作防止等の観点から、第１の層１１の圧縮弾性率は好ましくは０．０１〜１００ＭＰａである。圧縮弾性率が０．０１ＭＰａ未満であると、力学的圧力を加えない状態でも表面が変形して、光源から入射した光の反射及び散乱が生じにくくなる傾向がある。圧縮弾性率が１００ＭＰａを超えると、弱い圧力で押圧されたときに表面１１ａが変形しにくくなるために、力学的圧力の変化を光学的変化に変換することが困難になる傾向がある。同様の観点から、圧縮弾性率は０.０１〜１００ＭＰａであることが好ましく、０．０５〜９０ＭＰａであることがより好ましく、０．１〜８０ＭＰａであることがさらに好ましく、０．５〜７０ＭＰａであることが特に好ましく、１〜６０ＭＰａであることが極めて好ましく、１〜１０ＭＰａであることが最も好ましい。
【００４９】
圧縮弾性率は、超微小硬度計を用いて下記条件の圧縮試験により測定される荷重−変位曲線の傾きから求められる。
試料膜厚：１００μｍ（厚さ方向に圧縮）
温度：２５℃
最大加圧：０．１ｍＮ／μｍ２
測定時間：２０秒
圧子：円形平面圧子（直径φ５０μｍ）
【００５０】
第１の層１１の表面１１ａ及び第２の層１２の表面１２ａの形状は、入射した光の一部を反射又は散乱させることができる形状であれば、平坦であっても非平坦であってもよく、これに限定されるものではない。タッチパネルとして良好な表示品質を維持できるという観点から、表面１１ａ及び表面１２ａは平坦であることが好ましいが、バックライト６０から入射した光を特に効率的に反射し、光センサー５２で有効に検出できるという観点から、表面１１ａ及び表面１２ａは、図１に示されるようなスペーサーとして機能する凸部と、該凸部間に設けられた粗面化された平坦部とを有していることが好ましい。また、同様の観点から、表面１１ａ及び表面１２ａは、全面にわたる粗面化された平坦部を有していてもよい。前者の場合、粗面化された平坦部の最大高さ（所定の長さ（例えば１０ｍｍ）の断面における、凸部の頂点と凹部の底との高低差の最大値）は０．０１〜３μｍであることが好ましい。また、タッチパネル１００をタッチした位置をさらに感度よく認識できる。同様の観点から、粗面化された平坦部の最大高さは０．１〜２．５μｍであることがより好ましく、０．３〜２μｍであることがさらに好ましく、０．５〜１．５μｍであることが特に好ましく、０．７〜１．３μｍであることが最も好ましい。また、同様の観点から、凸部の密度は、５〜２００個／ｍｍ２であることが好ましく、１０〜１５０個／ｍｍ２であることがより好ましく、２０〜１２０個／ｍｍ２であることが特に好ましい。後者の場合、粗化面の最大高さ（所定の長さ（例えば１０ｍｍ）の断面における、凸部の頂点と凹部の底との高低差の最大値）は０．０１〜３μｍであることが好ましい。また、タッチパネル１００をタッチした位置をさらに感度よく認識できる。同様の観点から、粗化面の最大高さは０．１〜２．５μｍであることが好ましく、０．３〜２μｍであることがより好ましく、０．５〜１．５μｍであることがさらに好ましく、０．７〜１．３μｍであることが特に好ましい。また、同様の観点から、凸部の密度は、５〜２００個／ｍｍ２であることが好ましく、１０〜１５０個／ｍｍ２であることがより好ましく、２０〜１２０個／ｍｍ２であることがさらに好ましい。
【００５１】
凸部１４の高さは、１〜８０μｍであることが好ましい。ここで、「凸部の高さ」とは、所定の幅内の断面における凸部の頂部と凹部の底部との高低差を意味する。凸部の高さが１μｍ未満であると、本発明に係るタッチパネル用光学部材において、力学的圧力を加えない状態でも第１の層の表面１１ａと第２の層の表面１２ａが接触しやすくなり、誤動作を生じやすくなる傾向がある。凸部の高さが８０μｍを越えると、弱い圧力で押圧されたときに第１の層の表面１１ａと第２の層の表面１２ａが押圧されたところで互いに接触しにくくなり、押圧した位置を認識しにくくなる傾向がある。同様の観点から、凸部の高さは５〜７５μｍであることがより好ましく、１０〜７０μｍであることがさらに好ましく、１３〜６５μｍであることが特に好ましく、１５〜６０μｍであることが極めて好ましく、１７〜５５μｍであることがより極めて好ましく、２０〜５０μｍであることが最も好ましい。
【００５２】
また、凸部１４の最大幅は、１〜３００μｍであることが好ましい。ここで、「凸部の最大幅」とは、凸部の高さ方向と直交する方向の幅のうちの最大の値を意味する。凸部の最大幅が１μｍ未満であると、本発明に係るタッチパネル用光学部材において、力学的圧力を加えない状態でも第１の層の表面１１ａと第２の層の表面１２ａが接触しやすくなり、タッチパネルの操作時に誤動作を生じやすくなる傾向がある。凸部の最大幅が３００μｍを越えると、弱い圧力で押圧されたときに第１の層の表面１１ａと第２の層の表面１２ａが押圧されたところで互いに接触しにくくなり、押圧した位置を認識しにくくなる傾向があり、またタッチパネルとして視認した場合に、その表示品質が低下する傾向がある。同様の観点から、凸部の最大幅は５〜２５０μｍであることがより好ましく、７〜２００μｍであることがさらに好ましく、１０〜１５０μｍであることが特に好ましく、１５〜１００μｍであることが極めて好ましく、１７〜７０μｍであることがより極めて好ましく、２０〜５０μｍであることが最も好ましい。
【００５３】
本実施形態において隣り合う凸部１４の頂点間の距離は、良好なタッチパネル特性を得る観点から、０．０１〜１５μｍであることがより好ましく、０．１〜１０μｍであることがさらに好ましく、０．５〜９μｍであることが特に好ましく、０．７〜７μｍであることが極めて好ましく、１〜５μｍであることが最も好ましい。
【００５４】
押圧による力学的圧力変化から変換された光学的変化を効率的に検出でき、かつ良好な表示品質を維持できるという観点から、第１の層１１及び第２の層１２は透明性の高い材料から構成されることが好ましい。具体的には、第１の層１１又は第２の層１２を構成する材料により形成された厚さ２０μｍの両面平坦膜の可視光線透過率が、７０〜１００％であることが好ましく、７５〜９８％であることがより好ましく、８０〜９７％であることがさらに好ましく、８３〜９６％であることが特に好ましく、８５〜９５％であることが最も好ましい。この可視光線透過率は、第１の層１１又は第２の層を構成する材料を用いて形成した両面平坦膜を用いて、後述する、押圧前後での可視光線透過率の変化の測定方法と同様の方法により測定することができる。
【００５５】
表面１１ａの変形前後の光量変化を効果的に発現させる観点から、第１の層１１と第２の層１２の屈折率差の絶対値は、０〜０．１であることが好ましい。同様の観点から、本実施形態のように第１の層と第２の層の間に空隙２が形成されている場合、第１の層１１及び第２の層１２の屈折率は１．３以上であることが好ましい。これらの屈折率は、プリズムカップリング法、分光エリプソメトリー法など公知の方法で測定される。
【００５６】
ゴム弾性を有する第１の層１１を構成する材料は、好ましくは各種のエラストマーである。好適なエラストマーの具体例としては、天然ゴム、合成ポリイソプレン、スチレンとブタジェンのコポリマー、ブタジェンとアクリロニトリルのコポリマー、ブタジェンとアルキルアクリレートのコポリマー、ブチルゴム、ブロモブチルゴム、クロロブチルゴム、ネオブレン（クロロプレン、２−クロロ−１，３−ブタジェン）、オレフィン系ゴム（例えばエチレンプロピレンゴム（ＥＰＲ）、およびエチレンプロピレンジェノモノマー（ＥＰＤＭ）ゴム）、ニトリルエラストマー、ポリアクリル系エラストマー、ポリスルフィドポリマー、シリコーンエラストマー、熱可塑性エラストマー、熱可塑性コポリエステル、工チレンアクリル系エラストマー、酢酸ビニルエチレンコポリマー、エピクロルヒドリン、塩素化ポリエチレン、化学的に架橋したポリエチレン、クロロスルホン化ポリエチレン、フルオロカーボンゴム、フルオロシリコーンゴムが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。これらゴム弾性を有する具体的材料の中で、シリコーンエラストマーは、前述した凹凸形状の成形性に優れるという観点から、特に好ましい。
【００５７】
シリコーンエラストマーとしては、例えば、過酸化物加硫型シリコーンゴム、付加反応型シリコーンゴム、光反応型シリコーンゴム及び光ラジカル重合反応型シリコーンゴムがある。過酸化物加硫型シリコーンゴムは、直鎖状の高重合ポリオルガノシロキサンからなるシリコーン生ゴムに有機過酸化物を配合し、加熱することによりシリコーン生ゴムを架橋してゴム弾性体を形成する方法により得られる。付加反応型シリコーンゴムは、脂肪族不飽和炭化水素基を有するポリオルガノシロキサンとポリオルガノハイドロジェンシロキサンの間の付加反応による架橋を白金触媒の存在下で行ってゴム弾性体を形成する方法により得られる。光反応型シリコーンゴムは、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを光酸発生剤の存在下で光照射することにより架橋してゴム弾性体を形成する方法により得られる。光ラジカル重合反応型シリコーンゴムは、アクリロイル基含有ポリオルガノシロキサンを光重合開始剤存在下で光照射することにより架橋してゴム弾性体を形成する方法により得られる。
【００５８】
付加反応型シリコーンゴムを形成するために用いられるポリオルガノシロキサンは、ケイ素原子に結合した１価の脂肪族不飽和炭化水素基を１分子中に２個以上有する。１価の脂肪族不飽和炭化水素基としては、ビニル基、アリル基、１−ブテニル基及び１−ヘキセニル基が例示される。合成が容易で、また硬化前の組成物の流動性や、硬化後の組成物の耐熱性が良好であるという観点から、ビニル基が最も好ましい。さらに、１価の脂肪族不飽和炭化水素基は、ポリオルガノシロキサン分子鎖の末端または途中のいずれに存在してもよく、その双方に存在してもよい。ただし、架橋後の組成物に優れた機械的性質を与えるためには、ポリオルガノシロキサンは、少なくとも分子鎖の両末端に１価の脂肪族不飽和炭化水素基を有していることが好ましい。
【００５９】
また、ポリオルガノシロキサンのケイ素原子に結合する他の有機基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル及びドデシルなどのアルキル基、フェニルなどのアリール基、ベンジル、２−フェニルエチル及び２−フェニルプロピルなどのアラルキル基、クロロメチル、クロロフェニル、２−シアノエチル及び３，３，３−トリフルオロプロピルなどの置換炭化水素基が挙げられる。これらのうち、合成が容易であって、架橋前の流動性や形成されるゴム弾性体の圧縮弾性率などの特性のバランスが優れているという観点から、メチル基が最も好ましい。
【００６０】
ポリオルガノシロキサンは、直鎖状でも分岐状であってもよい。また、ポリオルガノシロキサンの重合度はとくに限定されないが、架橋前の組成物が良好な流動性および作業性を有し、架橋後の組成物が適度の圧縮弾性率を有するには、２５℃における粘度が５００〜５０００００ＭＰａ・ｓであることが好ましく、１０００〜１０００００ＭＰａ・ｓであることが特に好ましい。
【００６１】
付加反応型シリコーンゴムを形成するために用いられるポリオルガノハイドロジェンシロキサンは、分子中に含まれるヒドロシリル基がポリオルガノシロキサン中の１価の脂肪族不飽和炭化水素基に付加することにより、ポリオルガノシロキサンの架橋剤として機能する。網目構造を効率的に形成するために、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンは、ケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも３個有していることが好ましい。シロキサン単位のケイ素原子に結合した有機基としては、上記ポリオルガノシロキサンにおける１価の不飽和脂肪族炭化水素基以外の有機基と同様のものが挙げられ、それらの中でも、合成が容易な点から、メチル基が最も好ましい。また、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンにおけるシロキサン骨格は、直鎖状、分岐状および環状のいずれであってもよく、またこれらの混合物を用いてもよい。ポリオルガノハイドロジェンシロキサンの重合度は特に限定されないが、同一のケイ素原子に２個以上の水素原子が結合したポリオルガノハイドロジェンシロキサンは合成が困難であることから、ポリオルガノハイドロジェンシロキサンは３個以上のシロキサン単位を有することが好ましい。
【００６２】
ポリオルガノハイドロジェンシロキサンの配合量は、ポリオルガノシロキサン中の１価の脂肪族不飽和炭化水素基１個に対して、ポリオルガノハイドロジェンシロキサン中のケイ素原子に結合した水素原子が０．５〜５個、好ましくは１〜３個となるような量であることが好ましい。この水素原子の存在比が０．５未満であると、架橋が不完全になる傾向があり、存在比が５を越えるような量の場合は、架橋の際に発泡が起こりやすく、表面状態が低下する傾向がある。
【００６３】
付加反応型シリコーンゴムには、ポリオルガノシロキサン中の１価の脂肪族不飽和炭化水素基とポリオルガノハイドロジェンシロキサンのヒドロシリル基との間の付加反応を促進させるための触媒として、白金系化合物を用いることが好ましい。白金系化合物としては、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコールの反応生成物、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯体、及び白金−ホスフィン錯体が例示される。ポリオルガノシロキサン及びポリオルガノハイドロジェンシロキサンへの溶解性や、触媒活性が良好な点から、塩化白金酸とアルコールの反応生成物および白金−ビニルシロキサン錯体が好ましい。白金系化合物の配合量は、ポリオルガノシロキサンに対し、白金原子換算で１〜２００重量ｐｐｍであることが好ましく、１〜１００重量ｐｐｍであることがさらに好ましく、２〜５０重量ｐｐｍであることが特に好ましい。１重量ｐｐｍ未満の場合には、硬化速度が不十分で、光学部材の製造効率が低下する傾向があり、２００重量ｐｐｍを越えると、架橋速度が過度に早まるために各成分を配合した後の作業性が損なわれる傾向がある。
【００６４】
第２の層１２は、第１の層１１の凹凸形状を力学的圧力によって効果的に変形させられるという観点から、ゴム弾性を実質的に示さない硬質な材料から構成されることが好ましい。具体的には、第２の層１２は、ガラス及びセラミックスから選ばれる無機材料、または、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルフォン、ポリエチレンテレフタレート及びポリエーテルナフタレートから選ばれる有機材料から構成されることが好ましい。
【００６５】
光学部材１が押圧されていないときの可視光線透過率と、光学部材１が押圧されたときの可視光線透過率との差（押圧前後での可視光線透過率の変化）は０．１〜５０％であることが好ましい。この差が０．１％未満では、力学的圧力が加えられたときの光学的変化を光センサーで検出することが困難になる傾向があり、５０％を超えると、力学的圧力を加えない状態での第１の層１１又は第２の層１２における反射または散乱を強くする必要がある。そうすると凹凸形状を設計しにくくなるとともに、表示装置としての表示品質が低下する傾向がある。同様の観点から、押圧前後での可視光線透過率の変化は０．５〜４５％であることが好ましく、１〜４０％であることがより好ましく、２〜３５％であることがさらに好ましく、３〜３０％であることが特に好ましい。
【００６６】
押圧前後での可視光線透過率の変化は、以下の１）〜７）の手順で測定することができる。なお、可視光線とは一般的に視認可能な波長領域３８０〜７８０ｎｍの光線を意味する。
１）光学部材をガラス基板上に載置し、その上に直径φ１０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍの円盤状ガラス板を載置した試料を準備する。
２）試料に対して可視領域の光線を試料に対して法線方向に照射し、色彩輝度計を使用して、測定視野角１°の範囲で試料を透過した光線の輝度ａを測定し、その状態から光学部材を取り除いて同様に輝度ｂを測定する。
３）押圧されていないときの可視光線透過率Ｔ１を式：Ｔ１＝（ａ／ｂ）×１００（％）により算出する。
４）上記と同様の試料を準備し、ガラス基板と円盤状ガラス板間に５×１０３Ｐａの荷重を加える。
５）試料に荷重を加えながら、可視領域の光線を試料に対して法線方向に照射し、色彩輝度計を使用して、測定視野角１°の範囲で試料を透過した光線の輝度ｃを測定する。この状態から光学部材を取り除き、同様の方法で輝度ｄを測定する。
６）押圧されたときの可視光線透過率Ｔ２を式：Ｔ２＝（ｃ／ｄ）×１００（％）により算出する。
７）可視光線透過率Ｔ１とＴ２の差の絶対値（ΔＴ）を、押圧前後での可視光線透過率の変化として求める。
【００６７】
光学部材１が押圧されていないときの可視光線反射率と、光学部材１が押圧されたときの可視光線反射率との差（押圧前後での可視光線反射率の変化）は０．１〜５０％であることが好ましい。この差が０．１％未満では、力学的圧力が加えられたときの光学的変化を光センサーで検出することが困難になる傾向があり、５０％を超えると、力学的圧力を加えない状態での第１の層１１又は第２の層１２における反射または散乱を強くする必要がある。そうすると凹凸形状を設計しにくくなるとともに、表示装置としての表示品質が低下する傾向がある。同様の観点から、押圧前後での可視光線反射率の変化は、０．５〜４８％であることが好ましく、１〜４５％であることがより好ましく、２〜４３％であることがさらに好ましく、３〜４０％であることが特に好ましい。
【００６８】
押圧前後での可視光線反射率の変化は、以下の手順で測定することができる。
１）酸化マグネシウムなどの白色板上に厚さ０．７ｍｍのガラス基板及び直径φ１０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍの円盤状ガラス板を載置し、可視領域の光線を白色板に対して法線方向に照射して、分光測色計などを使用して、白色板の法線方向に対して角度２５°に反射した光線の明度ａ’を測定する。次いで、ガラス基板と円盤状ガラス板との間に光学部材を載置して同様の方法で反射光線の明度ｂ’を測定する。
２）光学部材が押圧されていないときの可視光線反射率Ｒ１を式：Ｒ１＝（ｂ’／ａ’）×１００（％）により算出する。
３）ガラス基板と円盤状ガラス板との間に５×１０３Ｐａの荷重を加えながら１）と同様の方法で反射光線の明度をｃ’を測定する。
４）光学部材が押圧されたときの可視光線反射率Ｒ２を式：Ｒ２＝（ｃ’／ａ’）×１００（％）により算出する。
５）押圧前後での可視光線反射率Ｒ１とＲ２の差の絶対値（ΔＲ）を、押圧前後での可視光線反射率の変化として求める。
【００６９】
第１の層１１の膜厚（第１の層１１のうち、厚さ方向において凹凸形状を除いた部分の厚さ）は、１〜５００μｍであることが好ましい。第１の層１１の膜厚が１μｍ未満では、凹凸形状を有する第１の層１１を作製することが困難となる傾向があり、５００μｍを超えると、光学部材に圧力を加えた場合の圧力伝達が弱くなるために、第１の層１１の表面形状が変化しにくくなる傾向がある。同様の観点から、第１の層１１の膜厚は５〜４００μｍがより好ましく、１０〜３００μｍがさらに好ましい。
【００７０】
光学部材１は、タッチパネル１００の表示品質の観点から、一方の面に入射した可視光線と反対面に入射した可視光線の透過率差の絶対値が、１〜２０％であることが好ましい。この透過率差の絶対値が１％未満の場合にはタッチパネルが外光を反射しやすくなり、表示品質を低下させる傾向があり、２０％を超えるとこれを実現させる凹凸形状の光学設計が困難になる傾向がある。同様の観点から、透過率差の絶対値は１．５〜１７％であることがより好ましく、２〜１５％であることがさらに好ましく、２．５〜１２％であることが特に好ましく、３〜１０％であることが極めて好ましい。
【００７１】
可視光線の透過率は、上述の「押圧前後での可視光線透過率の変化」の測定と同様の方法により、光学部材１の両面からの可視光線透過率をそれぞれ測定し、それらの差の絶対値を算出することによって求めることができる。
【００７２】
第１の層１１と第２の層１２との間に、第１の層１１とは屈折率が異なり、中間層が設けられていてもよい。中間層を設けることにより、空隙２が形成される場合と比較して、使用環境の変化に対する耐久性が更に優れるタッチパネルを得ることができる。
【００７３】
凹凸形状を有する表面１１ａを有する第１の層１１の屈折率と、中間層の屈折率との差の絶対値（Δｎ）は、０．０１〜１．０であることが好ましい。この屈折率差の絶対値が、０．０１未満では、光学部材が押圧されていないときの光学部材１からの反射光を光センサーが効率的に検知できなくなるために、タッチした位置を正常に認識することが困難になる傾向がある。また、また屈折率差の絶対値が１．０を超えると、これを達成するために必要な屈折率を有する材料の選択が困難になる傾向がある。同様の観点から、屈折率差の絶対値は０．０３〜０．７であることがより好ましく、０．０５〜０．５であることがさらに好ましく、０．０７〜０．３であることが特に好ましく、０．１〜０．２であることが最も好ましい。屈折率は、プリズムカップリング法、分光エリプソメトリー法など公知の方法で測定される。
【００７４】
中間層は粘着性を有することが好ましい。粘着性を有する中間層を形成するために用いられる樹脂としては、第１の層または第２の層に対して粘着性を示すものであれば特に制限はなく、例えば、アクリル樹脂、架橋型アクリル樹脂、アクリル系単量体、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００７５】
アクリル樹脂としては、低いガラス転移温度を示す不飽和単量体を含む共重合体が好ましい。低いガラス転移温度を示す不飽和単量体としては、例えば、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシルが挙げられる。また、低いガラス転移温度を示す不飽和単量体を含む共重合体に用いられるその他の不飽和単量体としては、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉｓｏ−プロピル、メタクリル酸ｉｓｏ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉｓｏ−ブチル、メタアクリル酸ｉｓｏ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸ペンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイコシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタクリル酸２−フルオロエチル、スチレン、α−メチルスチレン、シクロヘキシルマレイミド、アクリル酸ジシクロペンタニル、メタクリル酸ジシクロペンタニル、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、ブタジエン、イソプレン、及びクロロプレンが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
【００７６】
架橋型アクリル樹脂は、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリルアミド、アクリロニトリルなどの、官能基を有する不飽和単量体を共重合成分として含む共重合体を架橋剤により架橋したものである。
【００７７】
上記架橋剤としては、イソシアネート系、メラミン系、エポキシ系等の公知の架橋剤を用いることができる。また、架橋剤としては、架橋型アクリル樹脂中に緩やかに広がった網目状構造を形成するために、３官能、４官能といった多官能架橋剤がより好ましく使用される。
【００７８】
アクリル樹脂、及び、架橋型アクリル樹脂を得るために使用される共重合体の重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定し、標準ポリスチレン換算した値）は、第１の層１１または第２の層１２に対する粘着性の観点から、１０００〜３０００００であることが好ましく、５０００〜１５００００であることがより好ましい。
【００７９】
粘着性を有する樹脂は、高い流動性を発現させ、第１の層または第２の層の表面形状を効果的に変形させるという観点から、単量体を使用することもできる。単量体としては、例えば、ポリエチレングリコールジアセテート、ポリプロピレングリコールジアセテート、ウレタンモノマー、ノニルフェニルジオキシレンアクリレート、ノニルフェニルジオキシレンメタクリレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β’−アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β’−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β’−アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β’−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルメタクリレート、あるいはアクリル樹脂に使用される不飽和単量体を使用することができる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
【００８０】
中間層のガラス転移温度（Ｔｇ）は、−２０℃以下であることが好ましい。中間層のガラス転移温度が−２０℃よりも高いと粘着性が低下し、第１の層１１及び第２の層１２に対する適度な粘着力が得られなくなる傾向がある。
【００８１】
中間層の厚さ（凹凸形状の凹部に充填された部分を除いた部分の厚さ）は、１〜５０μｍであることが好ましい。中間層の厚さが１μｍ未満であると、第１の層または第２の層を積層する際に、気泡を巻き込む傾向があり、５０μｍを超えると、タッチパネルがタッチされたときに圧力が伝達されにくくなるために、第１の層１１の表面形状が変形しにくくなる傾向がある。同様の観点から、中間層の厚さは２〜４０μｍであることがより好ましく、３〜３０μｍであることが更に好ましい。
【００８２】
支持体フィルムと、該支持体フィルム上に設けられた光学部材１とを具備する積層体の状態で光学部材１を用いてもよい。支持体フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、トリアセチルセルロースからなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。
【００８３】
支持体フィルムと第１の層１１または第２の層１２との間に、粘着性又は接着性を有する樹脂層が設けられていてもよい。
【００８４】
第１の層１１または第２の層１２の上に、さらにカバーフィルムが積層されていてもよい。カバーフィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース等からなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。カバーフィルムと第１の層１１または第２の層１２との間に、粘着性または接着性を有する樹脂層が設けられていてもよい。
【００８５】
次に、上述した光学部材における第１の層１１として好適な光学フィルムを作成するための、本発明に係る転写原型について説明する。
【００８６】
図３は、本発明に係る転写原型の一実施形態を模式的に示す図である。図３の（ａ）は、転写原型を斜め上方から見た模式図であり、（ｂ）は（ａ）のＩ−Ｉ線に沿った断面図である。図３に示す転写原型１０００は、基体１０１０と、該基体の表面にめっきにより固定された複数の粒子１０２０とから構成されている。転写原型１０００においては、めっき層１０３０が基体１０１０の表面及び粒子１０３０を被覆することにより粒子１０３０を固定している。転写原型１０００は、固定された粒子による凸部１０４０と粒子が固定されていないことによる凹部１０５０とから形成された凹凸表面を有し、該凹凸表面から所定の部材表面に凹凸形状を転写することができる。なお、本実施形態に係る転写原型は円筒状であるが、本発明の転写原型はこの形状に限られず、例えば、平板状とすることもできる。
【００８７】
基体の材質は、金属、樹脂等が挙げられ、特に制限されないが、寸法安定性に優れ、後述する電解めっきによる転写原型の製造を考慮した導電性に優れるステンレス等の鉄合金、さらに加工裕度のある銅が積層されたものが好ましい。
【００８８】
基体の形状は、板状、シート状、ロール状等が挙げられ、特に制限されないが、ロール状であると回転しながら加工が可能となるので好ましい。
【００８９】
基体の表面は、機械研磨、エッチング、めっき、洗浄する等して滑らかな状態に加工されていてもよく、粗面化されていてもよい。基体の表面を粗面化する方法としては、例えば、めっき、切削、レーザー描画、圧痕、エッチング等の方法が挙げられる。なお、めっきによる方法は、後述する粒子を含んだめっき液を用いて基体上に凹凸表面を形成する際に、凹凸表面の凸部を形成する粒子よりも粒径が小さい粒子を用いることにより、凸部間に粗面化された凹部を形成する方法である。
【００９０】
粒子の材質としては、金属、金属複合物、樹脂、又はそれらの複合物等が挙げられるが、特に制限されない。これらの中でも、寸法安定性に優れ、後述する電解めっきによる転写原型の製造を考慮した導電性に優れる金属、金属複合物、またはそれらが積層された樹脂粒子を用いるのが好ましい。金属としては、例えば、金、銀、銅、亜鉛、ニッケル、亜鉛、シリカ、ジルコニア、チタンや、それらの複合物が挙げられる。
【００９１】
また、粒子の比重をめっき液に近くして、粒子をめっき液中に分散させやすくする観点から、上記粒子が、上記の金属や金属複合物が積層された樹脂粒子などの、樹脂からなる中核と、該中核を被覆する金属層とからなるものであることが好ましい。樹脂粒子としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂などが挙げられる。金属層は、上記の金属や金属複合物の層が少なくとも１層積層されることで基体への付着性が良くなる。
【００９２】
粒子の形状は、球、楕円、円柱状、角柱などが挙げられるが、特に制限されない。転写原型の凸部の高さ及び最大幅をより均一にする観点から、粒子の形状は球であることが好ましい。粒子が球状である場合、その粒径は約０．１〜１００μｍであることが好ましい。粒子が球以外の形状である場合、最大径が１００μｍ以下であることが好ましく、最小径が０．１μｍ以上であることが好ましい。
【００９３】
粒子を基体表面に固定するめっき層としては、銅、ニッケル、亜鉛、すず、クロム、金、銀、白金等からなる層が挙げられる。このようなめっき層は、例えば、粒子を含むめっき液を用いて電解めっき又は無電解めっきにより形成することができる。
【００９４】
めっき層の厚みは、粒子の形状を大きく変化させずに粒子を固定できる点で、０．０１〜５μｍであることが好ましい。
【００９５】
本実施形態の転写原型は、後述するフィルム成型用型を介してタッチパネル用光学フィルムを作成するために用いることできる。本実施形態の転写原型の凹凸表面について、前述の本発明に係るタッチパネル用光学部材を作成する場合の好適な条件を説明する。
【００９６】
基体の表面に形成された凸部の高さは、１〜８０μｍであることが好ましい。ここで、「凸部の高さ」とは、所定の幅内の断面における凸部の頂部と凹部の底部との高低差を意味する。なお、粒子の大きさに比べてめっき層の厚みが非常に小さい場合には、基体の表面から粒子頂部までの距離を代用することができる。かかる凸部を有することにより、後述するフィルム成型用型を介してタッチパネル用光学フィルムを作成した場合、上記凸部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に高さが１〜８０μｍの凸部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、外光が弱い環境下でも誤動作が生じにくいものになり得る。すなわち、本発明に係る光学部材が一方の主面側から押圧されたときに、そこで反射する反射光の状態が効率的に変化し、より高い感度及び精度で位置の認識が可能になる。凸部の高さが１μｍ未満であると、本発明に係るタッチパネル用光学部材において、力学的圧力を加えない状態でも第１の層の表面と第２の層の表面が接触しやすくなり、誤動作を生じやすくなる傾向がある。凸部の高さが８０μｍを越えると、弱い圧力で押圧されたときに第１の層の表面と第２の層の表面が押圧されたところで互いに接触しにくくなり、押圧した位置を認識しにくくなる傾向がある。同様の観点から、凸部の高さは５〜７５μｍであることがより好ましく、１０〜７０μｍであることがさらに好ましく、１３〜６５μｍであることが特に好ましく、１５〜６０μｍであることが極めて好ましく、１７〜５５μｍであることがさらに極めて好ましく、２０〜５０μｍであることが最も好ましい。
【００９７】
また、凸部の最大幅は、１〜３００μｍであることが好ましい。ここで、「凸部の最大幅」とは、凸部の高さ方向と直交する方向の幅のうちの最大の値を意味する。なお、粒子の大きさに比べてめっき層の厚みが非常に小さく、粒子が球形である場合には、粒子径を代用することができる。かかる凸部を有することにより、後述するフィルム成型用型を介してタッチパネル用光学フィルムを作成した場合、上記凸部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に最大幅が１〜３００μｍの凸部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、タッチパネルにおける表示品質を十分維持しながら、外光が弱い環境下でも誤動作が生じにくいものになり得る。凸部の最大幅が１μｍ未満であると、本発明に係るタッチパネル用光学部材において、力学的圧力を加えない状態でも第１の層の表面と第２の層の表面が接触しやすくなり、タッチパネルの操作時に誤動作を生じやすくなる傾向がある。凸部の最大幅が３００μｍを越えると、弱い圧力で押圧されたときに第１の層の表面と第２の層の表面が押圧されたところで互いに接触しにくくなり、押圧した位置を認識しにくくなる傾向があり、またタッチパネルとして視認した場合に、その表示品質が低下する傾向がある。同様の観点から、凸部の最大幅は５〜２５０μｍであることがより好ましく、７〜２００μｍであることがさらに好ましく、１０〜１５０μｍであることが特に好ましく、１５〜１００μｍであることが極めて好ましく、１７〜７０μｍであることがさらにきわめて好ましく、２０〜５０μｍであることが最も好ましい。
【００９８】
本実施形態において、凸部の密度は、良好なタッチパネル特性を得るという観点から、５〜２００個／ｍｍ２であることが好ましく、１０〜１５０個／ｍｍ２であることがより好ましく、２０〜１２０個／ｍｍ２であることが特に好ましい。
【００９９】
転写原型の凹部は、粗面化されていることが好ましい。かかる凹部を有することにより、後述するフィルム成型用型を介してタッチパネル用光学フィルムを作成した場合、上記粗面化されている凹部が、タッチパネル用光学フィルムの表面に粗面化されている凹部として転写される。こうして得られるタッチパネル用光学フィルムは、モアレやギラツキが発生しにくいものになり得る。粗面化された凹部における粗さとしては、最大高さが０．１〜５μｍであることが好ましく、０．３〜３μｍであることがより好ましく、０．５〜１．５μｍであることが特に好ましく、０．７〜１．３μｍであることが最も好ましい。
【０１００】
このような粗面化された凹部は、上述したように、基体の表面を切削、レーザー描画、圧痕、エッチング等の方法により粗面化する方法や、凹凸表面の凸部を形成する粒子よりも粒径が小さい粒子を用いてめっきを行うことにより、凸部間に粗面化された凹部を形成する方法などが挙げられる。図４の（ａ）は、前者の方法により作成された転写原型の実施形態を示す図であり、図４の（ｂ）は、後者の方法により作成された転写原型の実施形態を示す図である。図４（ａ）の転写原型１１００は、粗面化された基体１０１２上に、めっき層１０３０によって固定された粒子１０２０を有しており、粒子によって形成された凸部１０４０の間に粗面化された凹部１０５２が設けられている。また、図４（ｂ）の転写原型１２００は、基体１０１０上に、第１の粒子１０２１と第１の粒子よりも粒径が小さい第２の粒子１０２２とがめっき層１０３０によって固定されており、第１の粒子によって形成された凸部１０４０の間に第２の粒子によって形成された粗面化された凹部１０５４が設けられている。
【０１０１】
また、転写原型の凹凸表面は、ランダムな形状であることが好ましい。凹凸表面が規則的な形状の場合、パネルの規則性と重なってモアレ等が発生しやすくなり、表示品位が低下する傾向にある。
【０１０２】
転写原型の凹凸表面における凸部の密度は、１〜３００個／ｍｍ２が好ましい。凸部がかかる密度で設けられていると、本発明に係るタッチパネル用光学部材において、フィルムの凸部がスペーサーとして機能し、第１の層の表面と第２の層の表面とをフィルムの凸部を介して、互いに部分的に又は完全に、より安定して乖離させることができ、タッチパネルの操作時に、さらに誤動作を生じにくくすることができる。
【０１０３】
次に、本発明に係る転写原型の製造方法について図面を参照しながら説明する。
【０１０４】
図５は、本実施形態に係る転写原型の製造方法を説明するための模式図である。図５に示される本実施形態の転写原型の製造方法は、基体として円柱状の導電性基体１０１０と、粒子を含む電解めっき液２０１０が収容されためっき槽２０００とを用意し、これらを導電性基体の周面の一部が電解めっき液に浸漬するように配置し、導電性基体を軸周りに回転駆動させながら電解めっき処理を行うことにより導電性基体の表面に粒子を固定することを特徴とする。図５に示すめっき槽２０００の内側にはＮｉ電極２０２０が設けられており、このＮｉ電極と導電性基体には電源が接続されている。また、めっき槽内にはエアー管２０３０が導入され、電解めっき液２０１０中に気泡２０３２を発生させることができるようになっている。
【０１０５】
導電性基体としては、例えば、円筒形のＳＵＳ製基体、鉄製基体、銅製基体などを用いることができる。これらの基体表面は、滑らかな状態に加工し、粒子が均一に付くようにするため、銅めっきによって銅層が設けられていることが好ましい。この場合の銅層の厚みは、０．１〜１５００μｍとすることができる。
【０１０６】
電解めっき液に含有させる粒子としては、粒子の比重をめっき液に近くして、粒子をめっき液中に分散させやすくする観点から、樹脂からなる中核と、該中核を被覆する金属層とからなるものが好ましい。具体的には、金めっき、銀めっき、銅めっき、白金めっき、Ｎｉめっき、クロムめっきなどが施された樹脂粒子を好適に用いることができる。樹脂粒子としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂などが挙げられる。粒子の粒径については、上述した好ましい高さ及び最大幅の凸部が形成されるように選択することが好ましい。
【０１０７】
電解めっき液としては、電解銅めっき液の場合、硫酸銅、硫酸、サッカリンナトリウム、界面活性剤などを含むものが挙げられる。電解ニッケルめっき液の場合、硫酸ニッケル六水和物、塩化ニッケル六水和物、硼酸、サッカリンナトリウムなどを含むものが挙げられる。電解銅めっき液や電解ニッケルめっき液において、サッカリンナトリウムは光沢剤として用いられるが、これを除いてめっきしてもよい。この場合、めっき液に分散された粒子が効率的に基体に付くため、分散する粒子の量を低減することができる。その他の電解めっき液としては、例えば、亜鉛めっきの場合、無水クロム酸、スルファミン酸、硼酸を含むものが挙げられる。
【０１０８】
電解めっき液中に含有させる粒子は、電解めっき液１００体積部に対して０．０１〜３０体積部とすることが好ましい。
【０１０９】
図５に示すように、本実施形態においては、回転駆動する導電性基体の電解めっき液に浸漬していない周面にブレード状の部材又はフィルム状の部材２０４０を当接させて導電性基体の表面に付着する電解めっき液を均しながら電解めっき処理を行うことが好ましい。これにより、基体に付いた粒子の上にさらに粒子が重なって付くことを防ぐことができる。ブレード状の部材又はフィルム状の部材２０４０としては、例えば、ＰＥＴフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリエチレンフィルムなどが挙げられる。フィルム状の部材の厚さは、１〜１００μｍとすることが好ましい。
【０１１０】
また、上記電解めっき処理が、めっき槽に収容された電解めっき液中に気泡を注入しながら行われることが好ましい。これにより、めっき液中の粒子が攪拌されるため、均一にムラなく基体に粒子をつけることが容易となる。
【０１１１】
電解めっき処理における電流密度（めっき面積１０平方センチメートル当たりの電流値）は、０．１〜１００Ａ／ｄｍ２とすることが好ましい。めっきの時間は、０．１〜６０分とすることが好ましい。また、基体を３〜３０ｒｐｍで回転させながら、めっき処理を行うことが好ましい。
【０１１２】
本実施形態においては、上記の電解めっき処理によって基体上に粒子を固定した後、さらに平坦化若しくは粗化のためのめっきを施してもよい。このめっきによって、所望の特性を発現するように粒子と基体との接点付近における粒子接線及び基体のなす角θなど、転写原型の凹凸表面の形状を調整することができる。
【０１１３】
上記のめっきとしては、特に限定されないが、金、銀、銅、ニッケル、亜鉛、ロジウム、錫、クロム、チタン、プラチナ、パラジウム、各種合金等によるめっきが挙げられる。これらの中でも、汎用性があり、簡便に粗化若しくは平坦化ができる銅、ニッケル等のめっきが好ましい。めっき方法としては、湿式めっきとして、電解めっき、無電解めっき、銀鏡反応等を用いることができる。平坦化をするためのめっきとしては、湿式めっきの他に、乾式めっきとして熔融めっきイオンプレーティング、真空蒸着、スパッタ等を用いることができる。
【０１１４】
次に、本発明に係るフィルム成型用型について説明する。本発明に係るフィルム成型用型は、上記本発明に係る転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を有する凹凸表面を有するものである。このフィルム成型用型によれば、主面上に凹凸形状を有するフィルムを成型することができ、特には、タッチパネル用光学フィルムとして好適なフィルムを得ることができる。
【０１１５】
図６は、フィルム成型用型を製造する方法の一実施形態を示す模式断面図である。本実施形態では、凹凸表面を有する転写原型を、変形可能な被転写フィルムに押し当て、その状態で固体状に変化させた後、転写原型から剥離してフィルム成型用型を作製している。
【０１１６】
本実施形態においては、被転写フィルムとして、支持フィルム５と、支持フィルム５上に設けられた硬化性樹脂組成物層６とを有する積層体が用いられる（図６（ａ））。この積層体の硬化性樹脂組成物層６に転写原型１１００の凹凸表面１１００ａを押し当てた状態で硬化が行われ、硬化した樹脂層を備える積層体は転写原型から剥離される（図６（ｂ））。こうして、転写原型１１００の凹凸表面１１００ａから転写された凹凸形状（凸部７ａ及び凹部７ｂ）を有する凹凸表面を有するフィルム成型用型７が得られる（図６（ｃ））。なお、本実施形態において感光性樹脂組成物の硬化は、転写原型１１００に対向して配置された活性光線照射装置Ｌ１から照射された活性光線Ｌ２によって行われる。
【０１１７】
支持フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、トリアセチルセルロースからなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。
【０１１８】
硬化性樹脂組成物層６は、例えば、光によって硬化が可能な感光性樹脂組成物を支持フィルム上に塗布することにより形成することができる。感光性樹脂組成物としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体のようなエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル・ビニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体のようなスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体のようなビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチル・酢酸ビニル共重合体のような（メタ）アクリル酸エステル共重合体、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステル、合成ゴム、セルロース誘導体等の樹脂成分と、モノマーとしてアクリル酸、メタクリル酸、ブチルアセテート、ビニルアセテート、アクリル酸メチル等のアクリル酸エステル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、スチレン、α-メチルスチレン等のスチレン又はその誘導体、ブタジエン、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジオールアクリレート、ペンタエリスリトールメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能性（メタ）アクリレートなどと、光重合開始剤としてベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４,４’-ジアミノベンゾフェノン、メチルベンゾイン、ベンゾフェノン、アクリジン誘導体などと、を含むものが挙げられるが、特に制限はされない。また、市販の各種感光性樹脂組成物（日立化成工業株式会社製、アクリル系共重合体を含むヒタロイドシリーズなど）を使用しても良いし、並びに、前述した第１の層１１及び／又は第２の層１２を構成する材料と同様のものを使用しても良い。
【０１１９】
感光性樹脂組成物を塗布する方法としては、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法が挙げられる。
【０１２０】
感光性樹脂組成物の硬化は、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプなどの活性光線照射装置による活性光線の照射によって行うことができ、必要に応じて加熱してもよい。
【０１２１】
フィルム成型用型を製造する別の方法として、例えば、図７（ａ）に示されるような、平坦な支持フィルム５上に形成された硬化性樹脂組成物層６に、転写原型１１００の凹凸表面１１００ａを押し当て、その後、硬化性樹脂組成物層を硬化させる方法が挙げられる。この方法によっても、転写原型１１００の凹凸表面１１００ａから転写された凹凸形状（凸部７ａ及び凹部７ｂ）を有する凹凸表面を有するフィルム成型用型７が得られる（図７（ｂ））。
【０１２２】
この方法の場合、支持フィルム５に代えて、例えば、ガラス及びセラミックスから選ばれる無機材料、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルフォン、ポリエチレンテレフタレート及びポリエーテルナフタレート、硬質シリコーン樹脂、並びにアクリル樹脂から選ばれる有機材料から構成される、厚さ５μｍ〜１０ｍｍ程度の支持基板を用いることができる。
【０１２３】
この方法においても、転写原型を押し当てながら熱や光等を与えて、硬化性樹脂組成物層を硬化されることができる。
【０１２４】
次に、本発明に係るフィルム成型用型を用いて本発明に係るタッチパネル用光学フィルム及び本発明に係るタッチパネル用光学部材を製造する方法について説明する。
【０１２５】
図８は、本発明に係るタッチパネル用光学フィルム及びタッチパネル用光学部材の製造方法の一実施形態を示す模式断面図である。本実施形態の方法は、フィルム成型用型７の凹凸表面７ａ上に、該凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程（図８（ａ）及び（ｂ））と、凹凸形状を主面上に有するフィルムをフィルム成型用型から剥離する工程（図８（ｃ））と、剥離した凹凸形状を主面上に有するフィルムを第１の層１１とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層１２を積層する工程（図８（ｄ））とを備える。これらの工程を経て、本発明に係るタッチパネル用光学部材１が得られる。
【０１２６】
上記フィルムは、上述した第１の層１１を構成する成分を含む液状物を、ロール８を用いてフィルム成型用型７の凹凸表面７ａ上に塗布し、塗布された液状物を熱又は光などにより固体状に変化させることにより形成できる。
【０１２７】
本実施形態においては、フィルム成型用型７上に塗布された液状物上に、凹凸表面を有する別の型を積層し、その状態で液状物を固体状に変化させる方法により、両面が凹凸形状を有するフィルムを形成し、これを第１の層とすることもできる。
【０１２８】
本発明においては、本発明に係る転写原型からタッチパネル用光学フィルムを作製することができる。この場合のタッチパネル用光学部材の製造方法としては、転写原型の凹凸表面上に、該凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、凹凸形状を主面上に有するフィルムを転写原型から剥離する工程と、剥離した凹凸形状を主面上に有するフィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程とを備える方法が挙げられる。また、別の方法として、支持フィルム上に設けられた硬化性樹脂組成物層の表面に転写原型の凹凸表面を押し当てた後、硬化性樹脂組成物層を硬化して、凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程（図９を参照）と、凹凸形状を主面上に有するフィルムを支持フィルムから剥離する工程と、剥離した凹凸形状を主面上に有するフィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程とを備えるタッチパネル用光学部材の製造方法が挙げられる。
【実施例】
【０１２９】
以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１３０】
（実施例１）
＜転写原型の作製＞
直径１３０ｍｍの円筒形のＳＵＳ製基材を回転させながら、銅めっきを行って、ＳＵＳ製基材上に銅が２００μｍ積層された原型基材を得た。そして、これを研磨して表面が鏡面となるように加工した。次に、これを回転させながら以下に示す銅光沢めっき液に浸漬し、電流密度（めっき面積１０平方センチメートルあたりの電流値）が８．３Ａ／ｄｍ２となるように電流を調節し、４分３０秒間光沢めっきを行い、基体とした。
（銅光沢めっき液）：
硫酸銅（和光純薬製） １５０ｇ／リットル
硫酸（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
光沢剤Ｈ−１（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
光沢維持剤Ｈ−２（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
メイクアップ剤Ｈ−ＭＵ（大和特殊（株）製） １０ｇ／リットル
【０１３１】
次に、上記基体を回転させながら以下に示す銅めっき液に浸漬し、電流密度が１Ａ／ｄｍ２となるように電流を調節し、５分間めっきを行った。その後、めっき液を除去する目的で、純水による洗浄を行った。
（銅めっき液）：
金めっきアクリル樹脂粒子（３０μｍΦ） １０ｇ／リットル
硫酸銅（和光純薬製） １５０ｇ／リットル
硫酸（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
光沢剤Ｈ−１（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
光沢維持剤Ｈ−２（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
メイクアップ剤Ｈ−ＭＵ（大和特殊（株）製） １０ｇ／リットル
【０１３２】
次に、基体上に固定された金めっきアクリル樹脂粒子による凹凸形状を整えるために、以下に示すニッケルめっき液に浸漬し、電流密度２．１Ａ／ｄｍ２となるように電流を調整し、光沢ニッケルめっきを２０分間行った。その後、めっき液を除去する目的で、純水による洗浄を行い、転写原型を得た。
（光沢ニッケルめっき液）：
硫酸ニッケル六水和物（和光純薬製） ２００ｇ／リットル
塩化ニッケル六水和物（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
硼酸（和光純薬製） ２０ｇ／リットル
サッカリンナトリウム（和光純薬製） ３ｇ／リットル
【０１３３】
＜第１の層（Ｌ−１）の作製＞
支持フィルムとして厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用意し、この支持フィルム上に、下記に示す光硬化性樹脂溶液をコンマコーターで塗布し乾燥して、５０μｍの膜厚の光硬化性樹脂層を形成し、積層体を得た。次いで、この積層体の光硬化性樹脂層に上記で作製した転写原型を押しあて、この状態で紫外線を照射して光硬化性樹脂を硬化した。その後、積層体を転写原型から分離し、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、凹凸表面を有する硬化樹脂層が設けられたフィルム成型用型を得た。
（光硬化性樹脂溶液）
アクリル酸−ブチルアクリレート−ビニルアセテート共重合体 ３１．５質量％
ブチルアセテート（モノマー） ５０．０質量％
ビニルアセテート（モノマー） １３．０質量％
アクリル酸（モノマー） １．８質量％
ヘキサンジオールアクリレート（モノマー） １．２質量％
ベンゾインイソブチルエーテル（開始剤） ２．５質量％
【０１３４】
上記フィルム成型用型の凹凸表面上に、付加反応型シリコーン樹脂溶液（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、商品名「ＴＳＥ−３４５０」）を、コンマコーターを用いて均一に塗布した。その後、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた１０分間の加熱により、片面が平坦でその反対側の表面が凹凸形状を有する、第１の層（Ｌ−１）としての固体状のシリコーンゴム層を形成させた。
【０１３５】
次いで、この第１の層（Ｌ−１）となる固体状のシリコーンゴム層と、膜厚５０μｍのトリアセチルセルロースにシリコーン粘着材が積層されたフィルムとを、シリコーンゴム層とシリコーン粘着材が接するようにラミネータを用いて貼り合わせた。ラミネータは、日立化成工業（株）製の商品名「ＨＬＭ−３０００型を使用し、ラミネート条件は、ロール温度２５℃、送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａであった。
【０１３６】
その後、第１の層（Ｌ−１）となる固体状のシリコーンゴム層、シリコーン粘着材層及びトリアセチルセルロースの積層体を、フィルム成型用型から剥離し、片面に凹凸形状を有し、その反対側の表面が平坦である第１の層（Ｌ−１）を、トリアセチルセルロースに積層されたシリコーン粘着材層上に形成した。
【０１３７】
こうして得られた第１の層（Ｌ−１）の膜厚（転写原型の粒子によって形成された凸部を除いた部分の厚さ）を（株）小坂研究所製の表面形状測定装置（サーフコーダー ＳＥ-３０Ｄ型）を用いて測定した結果、膜厚は６０μｍであった。また、形成された凸部の高さと最大幅を、Ｐｈｉｌｉｐｓ製、操作型電子顕微鏡（ＸＬ３０）を使用して測定した結果、高さは２５μｍであり、最大幅は３３μｍであった。また、凸部以外の場所は、最大高さが０．０１〜１μｍのランダムな凹凸形状を有する粗面化された平坦部が形成されていた。さらに、第１の層上における単位面積あたり凸部の数を光学顕微鏡で観察して測定した結果、凸部の密度は７０個／ｍｍ２であった。
【０１３８】
＜第２の層（Ｌ−２）の作製＞
支持体フィルムとして表面が平滑なトリアセチルセルロースフィルムを準備し、その平滑な表面上に付加反応型シリコーン樹脂溶液（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、商品名ＴＳＥ-３４５０）を、コンマコーターを用いて均一に塗布した。その後、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた１０分間の加熱により、両面が平坦な固体状のシリコーンゴム層（第２の層（Ｌ−２））を形成させた。
【０１３９】
得られた第２の層（Ｌ−２）である固体状シリコーンゴム層の厚さを（株）小坂研究所製表面形状測定装置（サーフコーダー ＳＥ-３０Ｄ型）を用いて測定したところ、６０μｍであった。
【０１４０】
＜光学部材（ｉ）の作製＞
上記で得た第１の層（Ｌ−１）の凸部を有する面上に、上記で得た第２の層（Ｌ−２）を積層し、圧着圧力３×１０２Ｐａで均一に加圧しながら、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた６０分間の加熱により、支持体フィルムに挟まれた光学部材（ｉ）を形成させた。
【０１４１】
［凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）の圧縮弾性率］
光学部材（ｉ）を構成する、凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を形成するために使用した付加反応型シリコーン樹脂溶液を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの平滑面上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、７５℃の熱風対流式乾燥機で６０分間加熱して、固体状のシリコーンゴム層を形成させた。
【０１４２】
次いで、得られたシリコーンゴム層をポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離して、両面が平坦なシリコーンゴム層単体を得た。得られたシリコーンゴム層単体の厚さは、６０μｍであった。得られたシリコーンゴム層単体を、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に積層して、圧縮弾性率評価用の試料を得た。
【０１４３】
（株）島津製作所製超微小硬度計（ＤＵＨ−２０１型）を使用して、試料の厚さ方向に、温度２５℃において、最大加圧０．１ｍＮ／μｍ２、時間２０秒で、直径φ５０μｍの円形平面圧子により加圧し、そのときの荷重−変位を連続的に測定した。得られた荷重−変位の傾きから圧縮弾性率を算出したところ、３ＭＰａであった。この結果から、光学部材（ｉ）を構成する、凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）は、表面形状の可逆的な変形及び復元が可能なゴム弾性を有することが確認できた。
【０１４４】
［光学部材（ｉ）の可視光線透過率変化］
光学部材（ｉ）に積層されている第２の層側の支持体フィルム（トリアセチルセルロース）を剥離し、光学部材（ｉ）を含む積層体を、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上にラミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて積層した。積層条件は、ロール温度２５℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａであった。以下の実施例及び比較例では、光学部材のガラス基板上への積層等は原則として同様の条件で行った。このとき、第２の層（Ｌ−２）がガラス基板に接する向きで光学部材を積層して、可視光線透過率変化評価用の試料を得た。
【０１４５】
得られた試料の第１の層（Ｌ−１）側のトリアセチルセルロース（支持体フィルム）上に直径φ１０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍの円盤状ガラス板を載置した。そして、液晶表示装置に用いられるＬＥＤバックライトを光源とする可視領域の光線を試料に対して法線方向に照射し、（株）トプコン製色彩輝度計（ＢＭ−５Ａ）を使用して、測定視野角１°の範囲で試料を透過した光線の輝度ａを測定した。また、試料から光学部材（ｉ）を含む積層体のみを取り除き、その状態でガラス基板及び円盤状のガラス板を透過した光線の輝度ｂを同様に測定した。測定した輝度ａ及び輝度ｂから、光学部材（ｉ）に対して力学的圧力を加えていない状態の可視光線透過率Ｔ１（＝ａ／ｂ×１００（％））を求めた。
【０１４６】
さらに、上記と同様に試料の第１の層（Ｌ−１）側のトリアセチルセルロース（支持体フィルム）上に円盤状ガラス板を載置し、ガラス基板と円盤状ガラス板間に５×１０３Ｐａの圧縮荷重を加えた。その状態で、上記と同様に、測定視野角１°の範囲で試料を透過した光線の輝度ｃを測定した。また、試料から光学部材（ｉ）を含む積層体のみを取り除き、その状態でガラス基板及びガラス板を透過した光線の輝度ｄを測定した。測定した輝度ｃ及び輝度ｄから、光学部材に力学的圧力を加えたときの可視光線透過率Ｔ２（＝（ｃ／ｄ）×１００（％））を求めた。求めた可視光線透過率Ｔ１とＴ２の差の絶対値（ΔＴ）は１５％であった。この結果から、得られた光学部材（ｉ）の可視光線透過率は、力学的圧力を加えることによって十分に変化することを確認できた。
【０１４７】
［光学部材（ｉ）の可視光線反射率変化］
酸化マグネシウム製の白色板に厚さ０．７ｍｍのガラス基板及び直径φ１０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍの円盤状ガラス板を載置した。そして、コニカミノルタホールディングス（株）製ｃｍ５１２ｍ３型分光測色計を使用して、白色板に対して法線方向に可視光線を照射し、白色板の法線方向に対して角度２５°の方向に反射した反射光の明度ａ’を測定した。
【０１４８】
次いで、光学部材（ｉ）に積層されている第２の層側の支持体フィルム（トリアセチルセルロース）を剥離し、光学部材（ｉ）を含む積層体を、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に積層した。このとき、第２の層（Ｌ−２）がガラス基板に接する向きで光学部材（ｉ）を積層した。さらに、第１の層（Ｌ−１）側のトリアセチルセルロース（支持体フィルム）上に直径φ１０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍの円盤状ガラス板を載置した。その状態で、前記と同様の方法により、試料に対して法線方向に可視光線を照射して、試料の法線方向に対して角度２５°の方向に反射した反射光の明度ｂ’を測定した。
【０１４９】
測定した明度ａ’及び明度ｂ’から、光学部材（ｉ）に力学的圧力を加えていない状態での光学部材の可視光線反射率Ｒ１（＝ｂ’／ａ’×１００（％））を求めた。
【０１５０】
さらに、ガラス基板と円盤状ガラス板との間に５×１０３Ｐａの荷重を加えながら、上記と同様の方法により、試料に対して法線方向に可視光線を照射して、試料の法線方向に対して角度２５°の方向に反射した反射光の明度ｃ’を測定した。測定した明度ｃ’及び明度ａ’から、光学部材（ｉ）に力学的圧力を加えた状態での光学部材（ｉ）の可視光線反射率Ｒ２（＝（ｃ’／ａ’）×１００（％））を求めた。求めた可視光線反射率Ｒ１とＲ２の差の絶対値（ΔＲ）は３０％であった。この結果から、得られた光学部材（ｉ）の可視光線反射率は、力学的圧力を加えることによって十分に変化することを確認できた。
【０１５１】
［凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を構成する材料から構成された両面平坦膜の可視光線透過率］
光学部材（ｉ）を構成する、凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を形成するために使用した付加反応型シリコーン樹脂溶液を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの平坦面上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、７５℃の熱風対流式乾燥機で６０分間加熱して、固体状のシリコーンゴム層を形成させた。
【０１５２】
得られたシリコーンゴム層をポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離して、両面が平坦な可視光線透過率評価用のシリコーンゴム層単体（厚さ２０μｍ）を得た。このシリコーンゴム層単体を、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に積層して、可視光線透過率評価用の試料を作製した。ＬＥＤバックライトを光源とする可視領域の光線を試料に対して法線方向に照射し、（株）トプコン製色彩輝度計（ＢＭ−５Ａ）を使用して、測定視野角１°の範囲で試料を透過した光線の輝度Ａを測定した。この状態から、シリコーンゴム層単体のみを取り除いて、同様に輝度Ｂを測定した。測定した輝度Ａ及び輝度Ｂから、凸部（スペーサー）を有する第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を構成する材料から形成された両面平坦膜の可視光線透過率Ｔ（＝Ａ／Ｂ×１００（％））を求めところ、Ｔ＝９９％であり、高透明であることを確認できた。
【０１５３】
（実施例２）
＜転写原型の作製＞
直径１３０ｍｍの円筒形のＳＵＳ製基材を回転させながら、銅めっきを行って、ＳＵＳ製基材上に銅が２００μｍ積層された原型基材を得た。そして、これを研磨して表面が鏡面となるように加工した。次に、これを回転させながら以下に示す銅光沢めっき液に浸漬し、電流密度（めっき面積１０平方センチメートルあたりの電流値）が８．３Ａ／ｄｍ２となるように電流を調節し、４分３０秒間光沢めっきを行った。その後、めっき液を除去する目的で、純水による洗浄を行い、基体とした。
（銅光沢めっき液）：
硫酸銅（和光純薬製） １５０ｇ／リットル
硫酸（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
光沢剤Ｈ−１（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
光沢維持剤Ｈ−２（大和特殊（株）製） ４ｇ／リットル
メイクアップ剤Ｈ−ＭＵ（大和特殊（株）製） １０ｇ／リットル
【０１５４】
次に、上記基体を回転させながら以下に示すニッケルめっき液に浸漬し、電流密度が２０Ａとなるように電流を調節し、５分間めっきを行った。
（ニッケルめっき液）：
金めっきアクリル樹脂粒子（３０μｍΦ）
２００ｇ／リットル
硫酸ニッケル六水和物（和光純薬製） ２００ｇ／リットル
塩化ニッケル六水和物（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
硼酸（和光純薬製） ２０ｇ／リットル
サッカリンナトリウム（和光純薬製） ３ｇ／リットル
【０１５５】
次に、基体上に固定された金めっき粒子による凹凸形状を整えるために、以下に示すニッケルめっき液に浸漬し、電流密度２．１Ａ／ｄｍ２となるように電流を調整し、光沢ニッケルめっきを２０分間行った。その後、めっき液を除去する目的で、純水による洗浄を行い、転写原型を得た。
（光沢ニッケルめっき液）：
硫酸ニッケル六水和物（和光純薬製） ２００ｇ／リットル
塩化ニッケル六水和物（和光純薬製） ４０ｇ／リットル
硼酸（和光純薬製） ２０ｇ／リットル
サッカリンナトリウム（和光純薬製） ３ｇ／リットル
【０１５６】
＜第１の層（Ｌ−１）の作製＞
支持フィルムとして厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用意し、この支持フィルム上に、光硬化性樹脂（日立化成工業性（株）製ヒタロイドＨＡ−７９８１Ｆ４７；アクリル系共重合体、アクリレートモノマ及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物）をコンマコーターで塗布し乾燥して、５０μｍの膜厚の光硬化性樹脂層を形成し、積層体を得た。次いで、この積層体の光硬化性樹脂層に上記で作製した転写原型を押しあて、この状態で紫外線を照射して光硬化性樹脂を硬化した。その後、積層体を転写原型から分離し、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、凹凸表面を有する硬化樹脂層が設けられたフィルム成型用型を得た。
【０１５７】
上記フィルム成型用型の凹凸表面上に、付加反応型シリコーン樹脂溶液（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、商品名「ＴＳＥ−３４５０」）を、コンマコーターを用いて均一に塗布した。その後、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた１０分間の加熱により、片面が平坦でその反対側の表面が凹凸形状を有する、第１の層（Ｌ−１）としての固体状のシリコーンゴム層を形成させた。
【０１５８】
次いで、この第１の層（Ｌ−１）となる固体状のシリコーンゴム層と、膜厚５０μｍのトリアセチルセルロースにシリコーン粘着材が積層されたフィルムとを、シリコーンゴム層とシリコーン粘着材が接するようにラミネータを用いて貼り合わせた。ラミネータは、日立化成工業（株）製の商品名「ＨＬＭ−３０００型を使用し、ラミネート条件は、ロール温度２５℃、送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａであった。
【０１５９】
その後、第１の層（Ｌ−１）となる固体状のシリコーンゴム層、シリコーン粘着材層及びトリアセチルセルロースの積層体を、フィルム成型用型から剥離し、片面に凹凸形状を有し、その反対側の表面が平坦である第１の層（Ｌ−１）を、トリアセチルセルロースに積層されたシリコーン粘着材層上に形成した。
【０１６０】
こうして得られた第１の層（Ｌ−１）の膜厚（転写原型の粒子によって形成された凸部を除いた部分の厚さ）を（株）小坂研究所製の表面形状測定装置（サーフコーダー ＳＥ-３０Ｄ型）を用いて測定した結果、膜厚は６０μｍであった。また、形成された凸部の高さと最大幅を、Ｐｈｉｌｉｐｓ製、操作型電子顕微鏡（ＸＬ３０）を使用して測定した結果、高さは２５μｍであり、最大幅は３３μｍであった。さらに、第１の層上における単位面積あたり凸部の数を光学顕微鏡で観察して測定した結果、凸部の密度は７０個／ｍｍ２であった。
【０１６１】
＜第２の層（Ｌ−２）の作製＞
支持体フィルムとして表面が平滑なトリアセチルセルロースフィルムを準備し、その平滑な表面上に付加反応型シリコーン樹脂溶液（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、商品名ＴＳＥ−３４５０）を、コンマコーターを用いて均一に塗布した。その後、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた１０分間の加熱により、両面が平坦な固体状のシリコーンゴム層（第２の層（Ｌ−２））を形成させた。
【０１６２】
得られた第２の層（Ｌ−２）である固体状シリコーンゴム層の厚さを（株）小坂研究所製表面形状測定装置（サーフコーダー ＳＥ-３０Ｄ型）を用いて測定したところ、６０μｍであった。
【０１６３】
＜光学部材（ｉｉ）の作製＞
上記で得た第１の層（Ｌ−１）の凸部を有する面上に、上記で得た第２の層（Ｌ−２）を積層し、圧着圧力３×１０２Ｐａで均一に加圧しながら、７５℃の熱風対流式乾燥機を用いた６０分間の加熱により、支持体フィルムに挟まれた光学部材（ｉｉ）を形成させた。
【０１６４】
第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）の圧縮弾性率について実施例１と同様にして評価した。圧縮弾性率を算出したところ、３ＭＰａであり、光学部材（ｉｉ）を構成する、第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）は、表面形状の可逆的な変形及び復元が可能なゴム弾性を有することが確認できた。
【０１６５】
光学部材（ｉｉ）の可視光線透過率変化及び可視光線反射率変化について、実施例１と同様にして評価した。可視光線透過率Ｔ１とＴ２の差の絶対値（ΔＴ）は１５％であった。この結果から、得られた光学部材（ｉｉ）の可視光線透過率は、力学的圧力を加えることによって十分に変化することを確認できた。求めた可視光線反射率Ｒ１とＲ２の差の絶対値（ΔＲ）は３０％であった。この結果から、得られた光学部材（ｉｉ）の可視光線反射率は、力学的圧力を加えることによって十分に変化することを確認できた。
【０１６６】
第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を構成する材料から構成された両面平坦膜の可視光線透過率を、実施例１と同様にして求めた。第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）を構成する材料から形成された両面平坦膜の可視光線透過率Ｔ（＝Ａ／Ｂ×１００（％））を求めところ、Ｔ＝９９％であり、高透明であることを確認できた。
【０１６７】
（比較例１）
実施例１における金めっき粒子を含む銅めっき液に代えて、金めっき粒子を含まない銅めっき液を用いたこと以外は実施例１と同様にして転写原型を作製した。この転写原型を用いて、実施例１と同様にして光学部材（Ｃ−ｉ）を作製した。光学部材（Ｃ−ｉ）の第１の層（Ｌ−１）及び第２の層（Ｌ−２）の間には空隙ができなかった。
【０１６８】
光学部材（Ｃ−ｉ）の可視光線反射率変化について、実施例１と同様にして評価したところ、可視光線反射率Ｒ１とＲ２に差は見られず、得られた光学部材（Ｃ−ｉ）の可視光線反射率は、力学的圧力を加えても変化しないことが確認された。
【符号の説明】
【０１６９】
１…光学部材、２…空隙、４…液晶セル、７…フィルム成型用型、１０…タッチパネル用光学フィルム、１１…第１の層（タッチパネル用光学フィルム）、１２…第２の層、１３…接着剤、１４…凸部、１５…凹部、２０，２１…偏光板、２２…位相差板、２３…ガラス基板、２４…ガラス基板、２５…カラーフィルター、３０，３１…粘着層、４０，４１…透明電極、４２，４３…配向膜、４５…液晶層、４７…スペーサー、５０…遮光膜、５１…薄膜トランジスター、５２…光センサー、５４…絶縁膜、６０…バックライト、１００…タッチパネル、Ｓ１，Ｓ２…光学部材の主面、Ｓ１００…画面、１０００…転写原型、１０１０…基体、１０２０…粒子、１０３０…めっき層、１０４０…凸部、１０５０…凹部。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸表面を有し、該凹凸表面から所定の部材表面に凹凸形状を転写するための転写原型であって、
基体と、該基体の表面にめっきにより固定された複数の粒子と、を備える、転写原型。
【請求項２】
前記転写原型は、主面上に凹凸形状を有するフィルムを成型するための、前記転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を有する凹凸表面を有するフィルム成型用型、の作成に用いられるものである、請求項１に記載の転写原型。
【請求項３】
前記フィルムが、タッチパネル用光学フィルムとして用いられるものである、請求項２に記載の転写原型。
【請求項４】
粗面化されている凹部を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写原型。
【請求項５】
前記粒子によって形成され、高さが１〜８０μｍである凸部を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の転写原型。
【請求項６】
前記粒子によって形成され、最大幅が１〜３００μｍである凸部を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の転写原型。
【請求項７】
前記転写原型が、前記転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを製造するために用いられるものである、請求項１に記載の転写原型。
【請求項８】
前記フィルムが、タッチパネル用光学フィルムとして用いられるものである、請求項７に記載の転写原型。
【請求項９】
請求項２〜６のいずれか一項に記載の転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を有する凹凸表面を有する、フィルム成型用型。
【請求項１０】
請求項９に記載のフィルム成型用型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムからなる、タッチパネル用光学フィルム。
【請求項１１】
スペーサーとして機能する凸部と、該凸部間に設けられた平坦部と、を主面上に有する、請求項１０に記載のタッチパネル用光学フィルム。
【請求項１２】
請求項８に記載の転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムからなる、タッチパネル用光学フィルム。
【請求項１３】
第１の層と、該第１の層に部分的に又は完全に離れるように設けられた第２の層と、を備え、
前記第１の層及び前記第２の層の少なくとも一方の層は、請求項１０又は１１のいずれか一項に記載のタッチパネル用光学フィルムからなり、他方の層と対向する表面に凹凸形状を有する層であり、且つ、前記第１の層及び前記第２の層の少なくとも一方の層は、力学的な圧力を加えることによる変形と前記力学的な圧力を除くことによる形状の復元とが可逆的に可能である、
ことを特徴とするタッチパネル用光学部材。
【請求項１４】
第１の層と、該第１の層に部分的に又は完全に離れるように設けられた第２の層と、を備え、
前記第１の層及び前記第２の層の少なくとも一方の層は、請求項１２のいずれか一項に記載のタッチパネル用光学フィルムからなり、他方の層と対向する表面に凹凸形状を有する層であり、且つ、前記第１の層及び前記第２の層の少なくとも一方の層は、力学的な圧力を加えることによる変形と前記力学的な圧力を除くことによる形状の復元とが可逆的に可能である、
ことを特徴とするタッチパネル用光学部材。
【請求項１５】
請求項１３に記載のタッチパネル用光学部材の製造方法であって、
前記フィルム成型用型の凹凸表面上に、該凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、
凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを前記フィルム成型用型から剥離する工程と、
剥離した凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程と、
を備える、タッチパネル用光学部材の製造方法。
【請求項１６】
請求項１４に記載のタッチパネル用光学部材の製造方法であって、
前記転写原型の凹凸表面上に、該凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、
凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを前記転写原型から剥離する工程と、
剥離した凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程と、
を備える、タッチパネル用光学部材の製造方法。
【請求項１７】
請求項１４に記載のタッチパネル用光学部材の製造方法であって、
支持フィルム上に設けられた硬化性樹脂組成物層の表面に前記転写原型の凹凸表面を押し当てた後、前記硬化性樹脂組成物層を硬化して、前記凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、
凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを前記支持フィルムから剥離する工程と、
剥離した凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程と、
を備える、タッチパネル用光学部材の製造方法。
【請求項１８】
請求項１又は２に記載の転写原型を製造する方法であって、
前記基体として円柱状の導電性基体と、前記粒子を含む電解めっき液が収容されためっき槽とを用意し、これらを前記導電性基体の周面の一部が前記電解めっき液に浸漬するように配置し、前記導電性基体を軸周りに回転駆動させながら電解めっき処理を行うことにより前記導電性基体の表面に前記粒子を固定することを特徴とする、転写原型の製造方法。
【請求項１９】
前記電解めっき処理が、回転駆動する前記導電性基体の前記電解めっき液に浸漬していない周面にブレード状の部材又はフィルム状の部材を当接させて前記導電性基体の表面に付着する前記電解めっき液を均しながら行われる、請求項１８に記載の転写原型の製造方法。
【請求項２０】
前記粒子が、樹脂からなる中核と、該中核を被覆する金属層とからなるものである、請求項１８又は１９に記載の転写原型の製造方法。
【請求項２１】
電解めっき処理が、前記めっき槽に収容された前記電解めっき液中に気泡を注入しながら行われる、請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の転写原型の製造方法。
【請求項１】
凹凸表面を有し、該凹凸表面から所定の部材表面に凹凸形状を転写するための転写原型であって、
基体と、該基体の表面にめっきにより固定された複数の粒子と、を備える、転写原型。
【請求項２】
前記転写原型は、主面上に凹凸形状を有するフィルムを成型するための、前記転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を有する凹凸表面を有するフィルム成型用型、の作成に用いられるものである、請求項１に記載の転写原型。
【請求項３】
前記フィルムが、タッチパネル用光学フィルムとして用いられるものである、請求項２に記載の転写原型。
【請求項４】
粗面化されている凹部を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写原型。
【請求項５】
前記粒子によって形成され、高さが１〜８０μｍである凸部を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の転写原型。
【請求項６】
前記粒子によって形成され、最大幅が１〜３００μｍである凸部を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の転写原型。
【請求項７】
前記転写原型が、前記転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを製造するために用いられるものである、請求項１に記載の転写原型。
【請求項８】
前記フィルムが、タッチパネル用光学フィルムとして用いられるものである、請求項７に記載の転写原型。
【請求項９】
請求項２〜６のいずれか一項に記載の転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を有する凹凸表面を有する、フィルム成型用型。
【請求項１０】
請求項９に記載のフィルム成型用型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムからなる、タッチパネル用光学フィルム。
【請求項１１】
スペーサーとして機能する凸部と、該凸部間に設けられた平坦部と、を主面上に有する、請求項１０に記載のタッチパネル用光学フィルム。
【請求項１２】
請求項８に記載の転写原型の凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムからなる、タッチパネル用光学フィルム。
【請求項１３】
第１の層と、該第１の層に部分的に又は完全に離れるように設けられた第２の層と、を備え、
前記第１の層及び前記第２の層の少なくとも一方の層は、請求項１０又は１１のいずれか一項に記載のタッチパネル用光学フィルムからなり、他方の層と対向する表面に凹凸形状を有する層であり、且つ、前記第１の層及び前記第２の層の少なくとも一方の層は、力学的な圧力を加えることによる変形と前記力学的な圧力を除くことによる形状の復元とが可逆的に可能である、
ことを特徴とするタッチパネル用光学部材。
【請求項１４】
第１の層と、該第１の層に部分的に又は完全に離れるように設けられた第２の層と、を備え、
前記第１の層及び前記第２の層の少なくとも一方の層は、請求項１２のいずれか一項に記載のタッチパネル用光学フィルムからなり、他方の層と対向する表面に凹凸形状を有する層であり、且つ、前記第１の層及び前記第２の層の少なくとも一方の層は、力学的な圧力を加えることによる変形と前記力学的な圧力を除くことによる形状の復元とが可逆的に可能である、
ことを特徴とするタッチパネル用光学部材。
【請求項１５】
請求項１３に記載のタッチパネル用光学部材の製造方法であって、
前記フィルム成型用型の凹凸表面上に、該凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、
凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを前記フィルム成型用型から剥離する工程と、
剥離した凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程と、
を備える、タッチパネル用光学部材の製造方法。
【請求項１６】
請求項１４に記載のタッチパネル用光学部材の製造方法であって、
前記転写原型の凹凸表面上に、該凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、
凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを前記転写原型から剥離する工程と、
剥離した凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程と、
を備える、タッチパネル用光学部材の製造方法。
【請求項１７】
請求項１４に記載のタッチパネル用光学部材の製造方法であって、
支持フィルム上に設けられた硬化性樹脂組成物層の表面に前記転写原型の凹凸表面を押し当てた後、前記硬化性樹脂組成物層を硬化して、前記凹凸表面から転写された凹凸形状を主面上に有するフィルムを形成する工程と、
凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを前記支持フィルムから剥離する工程と、
剥離した凹凸形状を主面上に有する前記フィルムを第１の層とし、該第１の層の凹凸形状を有する表面上に第２の層を積層する工程と、
を備える、タッチパネル用光学部材の製造方法。
【請求項１８】
請求項１又は２に記載の転写原型を製造する方法であって、
前記基体として円柱状の導電性基体と、前記粒子を含む電解めっき液が収容されためっき槽とを用意し、これらを前記導電性基体の周面の一部が前記電解めっき液に浸漬するように配置し、前記導電性基体を軸周りに回転駆動させながら電解めっき処理を行うことにより前記導電性基体の表面に前記粒子を固定することを特徴とする、転写原型の製造方法。
【請求項１９】
前記電解めっき処理が、回転駆動する前記導電性基体の前記電解めっき液に浸漬していない周面にブレード状の部材又はフィルム状の部材を当接させて前記導電性基体の表面に付着する前記電解めっき液を均しながら行われる、請求項１８に記載の転写原型の製造方法。
【請求項２０】
前記粒子が、樹脂からなる中核と、該中核を被覆する金属層とからなるものである、請求項１８又は１９に記載の転写原型の製造方法。
【請求項２１】
電解めっき処理が、前記めっき槽に収容された前記電解めっき液中に気泡を注入しながら行われる、請求項１８〜２０のいずれか一項に記載の転写原型の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−３７０７４（Ｐ２０１１−３７０７４Ａ）
【公開日】平成２３年２月２４日（２０１１．２．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１８４９２５（Ｐ２００９−１８４９２５）
【出願日】平成２１年８月７日（２００９．８．７）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年２月２４日（２０１１．２．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年８月７日（２００９．８．７）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]