透明導電膜、ポインティングデバイス及び透明導電膜の製造方法
【課題】２種の導電体層が対向し、２種の導電体層が間隔をもって接着剤などで固定されている入力装置において、透過率を向上させること、及びニュートンリングの発生を抑えることが可能な、透明導電膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】２種の導電体層４が間隔をもって対向し、それらが接着層５で固定されている入力装置１において、導電体層４と接着層５によって密閉される空間に絶縁性の液体８が注入され、その液体には、絶縁性の樹脂粒子９が含まれている。
【解決手段】２種の導電体層４が間隔をもって対向し、それらが接着層５で固定されている入力装置１において、導電体層４と接着層５によって密閉される空間に絶縁性の液体８が注入され、その液体には、絶縁性の樹脂粒子９が含まれている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明電極、ポインティングデバイス、電磁波遮蔽膜等として有用な透明導電膜及びその製造方法と、この透明導電膜を用いたポインティングデバイスとに関する。
【背景技術】
【０００２】
透明導電性積層体の一つである透明導電膜は、導電性と光学的な透明性とを合わせ持つという特性を有しているため、産業的には、透明電極、電磁波遮蔽膜、面状発熱膜、反射防止膜等として使用されている。特に、近年では、タッチパネル向けに用いるポインティングデバイス（位置入力装置）として多用されている。
ところで、ポインティングデバイスには、静電容量結合式や光学式等、多様な方式が存在する。これらの方式の中で、透明導電膜が使用されるのは、例えば、上下の電極が接触することで入力位置を特定する抵抗膜式や、静電容量の変化から入力位置を特定する静電容量結合方式である。
【０００３】
ポインティングデバイスは、入力装置として、例えば、携帯用端末、携帯ゲーム機等のディスプレイ前面にも使用され、ディスプレイと共にタッチパネルを構成している。このため、これらの用途で使用されるポインティングデバイスには、特に、ディスプレイの表示を損なわないだけの、透過・反射特性が必要である。また、ポインティングデバイス内の電極同士が近づくと干渉模様（ニュートンリング）が生じることがあるが、この干渉模様を生じない対策も必要になっている。
【０００４】
透過率を向上させる為に、例えば、２種の導電体層が対向する構成の透明導電膜において、導電体層間に絶縁性の液体を封入したり、樹脂層を挿入する事が考案されている。（特許文献１、２）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２９６１１号公報
【特許文献２】特開２００４−１３４５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１や特許文献２に記載されている技術は、専ら透過率や応答特性の向上を図るものであり、パネル部にニュートンリングを生じない対策を提供するものではない。
本発明は上述の課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、２種の導電体層が対向し、２種の導電体層が間隔をもって接着剤などで固定されている透明導電膜において、透過率を向上させること、及びニュートンリングの発生を抑えること、及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明のうち、請求項１に記載した発明は、次の特徴を持つ。２種の導電体層が間隔をもって対向し、それらが接着剤などで固定されている透明導電膜において、２種の導電体層間の密閉空間に絶縁性の液体が注入され、その液体には、絶縁性の樹脂粒子が含まれている。
本発明によると、上記の密閉される空間に何も注入していない（空気だけ）ものと比較して、導電体層と密閉空間との屈折率差が減少するので、透過率を向上させること、及びニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。
【０００８】
次に、本発明のうち、請求項２に記載した発明は、請求項１に記載した発明であって、樹脂粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上、１５μｍ以下であることを特徴とするものである。
本発明によると、樹脂粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上、１５μｍ以下である。
このため、樹脂粒子の平均粒子径が０．５μｍ未満のものと比較して、導電体層間の密閉空間を透過する光を有効に乱反射させて、ニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。また、樹脂粒子の平均粒子径が１５μｍ以上になると、樹脂粒子の存在が目視で目立ってしまうので好ましくない。
【０００９】
次に、本発明のうち、請求項３に記載した発明は、請求項１又は２に記載した発明であって、絶縁性の液体の屈折率が１．２以上、２．５以下であることを特徴とするものである。
【００１０】
本発明によると、絶縁性の液体の屈折率が１．２以上、２．５以下である。
このため、絶縁性の液体の屈折率が１．２以下、または２．５以上のものと比較して、導電体層と密閉空間との屈折率差を小さくすることができるので、透過率を向上させることが可能となる。
【００１１】
次に、本発明のうち、請求項４に記載した発明は、透明導電膜を用いて構成されたポインティングデバイスであって、前記透明導電膜として、請求項１から３のいずれかに記載の透明導電膜を用いたことを特徴とするポインティングデバイスである。
本発明によると、２種の導電体層が対向し、２種の導電体層が接着剤などで固定されている。そして、それらによって密閉される空間に絶縁性の液体が注入され、その液体には、絶縁性の樹脂粒子を含まれる。これらによって、ポインティングデバイスの透明導電膜を形成する。
このため、請求項１から３のいずれかに記載の発明に基づかずに形成した透明導電膜を用いたポインティングデバイスと比較して、透過率を向上させ、かつニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。
【００１２】
次に、本発明のうち、請求項５に記載した発明は、請求項４に記載した発明であって、前記透明導電膜の、間隔をもって対向し接着剤などで固定された２種の導電体層のうち少なくとも片方の導電体層に、前記２種の導電体層間の密閉空間に配置されるドットスペーサーが形成されており、そのドットスペーサーの平均高さをＨ、前記密閉空間内に注入される絶縁性の液体に含まれる絶縁性の樹脂粒子の平均粒子径をＲとすると、０．２≦Ｒ／Ｈであることを特徴とするものである。
本発明によると、導電体層に形成されたドットスペーサーの平均高さをＨ、樹脂粒子の平均粒子径をＲとすると、０．２≦Ｒ／Ｈである。
このため、ドットスペーサーの平均高さＨに対して０．２≦Ｒ／Ｈの関係を満たす平均粒子径Ｒの樹脂粒子を絶縁性の液体に含めて使用する限り、樹脂粒子を絶縁性の液体に含めない場合と比較して、ニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。
【００１３】
次に、本発明のうち、請求項６に記載した発明は、２種の導電体層を間隔をもって対向させ、接着剤などで固定させる工程を含む入力装置の製造方法であって、前記工程中において、前記２種の導電体層間の密閉空間に、絶縁性の樹脂粒子を含ませた絶縁性の液体を注入する工程を実行することを特徴とする。
このため、この発明に基づかずに製造した透明導電膜と比較して、透過率を向上させ、かつニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、２種の導電体層が対向し、２種の導電体層が間隔をもって接着剤などで固定されている透明導電膜において、透過率を向上させること、及びニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。これにより、視認性を向上させたタッチパッドやタッチパネルなどのポインティングデバイスを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態の透明導電膜を用いたポインティングデバイスの概略構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態（以下、「本実施形態」と記載する）について、図面を参照しつつ説明する。
（構成）
まず、図１を用いて、本実施形態の透明導電膜を用いたポインティングデバイス１の構成を説明する。
【００１７】
図１は、ポインティングデバイス１の概略構成を示す断面図である。
図１中に示すように、ポインティングデバイス１は、透明基材２ａ、透明基材２ｂ（以後、必要に応じて透明基材２と表記する）と、導電体層４と、接着層５と、絶縁性の液体８と、絶縁性の樹脂粒子９と、必要に応じてスペーサー６、配線電極７を備えている。配線電極７を除く部分は透明導電膜Ａを構成しており、透明電極、タッチパネル、電磁波遮蔽膜等の構成部品として用いることができる。
なお、本実施形態では、一例として、配線電極７と後述するドットスペーサー１０とを設けて、透明導電膜Ａを、ポインティングデバイス１として用いる場合について説明する。
【００１８】
透明基材２は、透明なガラスやフィルムであり、ポインティングデバイス１の入力部分として用いる面は、その厚さは、可撓性を考慮して、１０〜２００［μｍ］程度とする。
なお、透明基材２は、一方または両方の面に、ハードコート等のプライマー層が積層されているものが好適である。しかしながら、透明基材２の構成は、これに限定するものではない。
また、透明基材２は、一方または両方の面に、易接着処理、プラズマ処理、コロナ処理等の表面処理が施されていてもよい。その他、透過率向上や色調調整の目的で、無機膜や有機膜を適宜積層してもよい。
透明基材２の材料としては、ガラス、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）を用いることが可能である。
また、透明基材２の材料としては、ポリアミド（ナイロン６、ナイロン６６等）、ポリイミド、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォンを用いることも可能である。
さらに、透明基材２の材料としては、上述した材料の共重合体を無延伸、または延伸させたプラスチックフィルムを用いることも可能である。
また、透明基材２の材料としては、上述した材料以外にも。透明性の高い他のプラスチックフィルムを用いることも可能である。
なお、本実施形態では、一例として、透明基材２の材料を、コスト面で有利な、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）とした場合を説明する。
【００１９】
導電体層４は、各透明基材２ａ、２ｂの一方の面（互いの対向面）に形成されており、導電性を有している。なお、導電体層４を形成する方法は、導電性ポリマーの塗布や、ＩＴＯ（酸化インジウム錫：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）のターゲットを使用したスパッタリングなどが用いられる。ポインティングデバイス１として用いる場合、導電体層４に、ドットスペーサー１０を形成することが良く行なわれる。ドットスペーサー１０は、透明基材２ａ側と透明基材２ｂ側のどちらかの導電体層４がたわんでもう一方の導電体層４と接触して誤動作をすることを防止する目的で印刷などにより形成される。大きさは、導電体層４が形成されている面に対し垂直方向から見た場合、ほぼ円状で、直径が数〜数百μｍ程度であり、目立たない程度の大きさに設定されている。導電体層４の面に対しての垂直方向の高さは数μｍ程度である。下側の導電体層４（図１では透明基材２ｂ側の導電体層４）に設けられることが多い。なお、導電体層４の屈折率は、好ましくは１．８以上２．５以下である。
【００２０】
接着層５は、導電体層４の上、具体的には、導電体層４の透明基材２と反対側の面に形成されており、例えば、アクリル系、ウレタン系等の接着剤を用いて形成されている。なお、接着層５を形成する方法は、この方法に限定するものではなく、例えば、アクリル系、ウレタン系等の接着剤が塗布された両面テープを用いて形成してもよい。
【００２１】
スペーサー６は、透明基材２ａ側と透明基材２ｂ側の両導電体層４同士に間隔を明けて、両導電体層４間の接着層５よりも内側の部分に密閉空間を形成する為に必要に応じて用い、両導電体層４に密接させる。スペーサー６と両導電体層４とは接着剤等で固定しても良い。図１では、スペーサー６が接着層５よりも両導電体層４間の密閉空間の内側寄りにあるが、スペーサー６と接着層５の位置関係は反対でも良い。スペーサー６の厚さは、数から数百μｍ程度である。
【００２２】
配線電極７は、本実施形態のように、透明導電膜Ａをポインティングデバイス１として用いる場合に、必要に応じて、透明導電膜Ａ（ポインティングデバイス１）と外部の電気回路とを電気的に接続する目的で、導電体層４の上、具体的には、導電体層４の透明基材２と反対側の面に印刷などの手段で形成しても良い。
【００２３】
絶縁性の液体８は、透明性が高いものが好ましく、シリコンオイルやフッ素系液体などが挙げられる。屈折率が２．０程度のＩＴＯ膜を透明基材２として用い、数〜数十μｍ程度の間隔をもたせて配置した抵抗膜式タッチパッドを例にとると、ＩＴＯ膜間を屈折率１．４程度のシリコンオイルで満たせば、数％の透過率向上が見られる。これは、ＩＴＯ膜とＩＴＯ膜間の領域の境界での反射が、ＩＴＯ膜間が空気で満たされている場合に比べて減少するからであり、屈折率が１．３から２．３程度であれば、同等以上の効果が得られる。屈折率が１．２程度以上かつ２．５程度以下であればそれに準じる効果が得られる。屈折率が１．２程度以下、もしくは２．５程度以上になると、効果が薄い、もしくは逆効果になってしまう。
【００２４】
樹脂粒子９は樹脂から構成される略球状の粒子である。樹脂粒子９を構成する樹脂の好適な具体例としては、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリウレタン、シリコーン樹脂及びフッ素樹脂が挙げられる。これらは２種類以上のモノマーが共重合した共重合体であってもよい。絶縁性の液体８の屈折率に近いものを用いた方が絶縁性の液体８中で樹脂粒子９の存在が目視で目立たないので好ましい。
なお、樹脂粒子９の平均粒子径は、０．５μｍ以上、１５μｍ以下が好ましい。
樹脂粒子の平均粒子径が０．５μｍ未満であると、導電体層間の密閉空間を透過する光を樹脂粒子９により有効に乱反射させることができず、ニュートンリングの発生を好適に抑えることができない。また、樹脂粒子の平均粒子径が１５μｍ以上になると、樹脂粒子の存在が目視で目立ってしまうので好ましくない。
【００２５】
（入力装置の製造方法）
以下、図１を参照して、本実施形態のポインティングデバイス１に用いる透明導電膜Ａを製造する方法である、透明導電膜の製造方法を説明する。
本実施形態の透明導電膜の製造方法は、導電体層が形成された２種類の透明基材を貼り合わせる工程と、絶縁性の樹脂粒子を含んだ液体を導電体層上に流し込む工程を含む方法である。
【００２６】
導電体層が形成された２種類の透明基材を貼り合わせる工程に用いる透明基材２は、上述した方法を用いて導電体層４が形成されている。必要に応じて、少なくとも一方の透明基材２にドットスペーサー１０、配線電極７、が上述した方法により形成されている。スペーサー６を形成しても良い。
少なくとも一方の透明基材２に接着層を上述した方法で形成し、貼り合わせを行なう。
【００２７】
絶縁性の樹脂粒子を含んだ液体を導電体層間に流し込む工程は、透明基材２同士の貼り合わせを行なう前でも後でも構わない。貼り合わせる工程の後に行なう場合、貼り合わされた透明基材２の一部に穴を開け、絶縁性の樹脂粒子を含んだ液体を流し込むことを行なう。その後、穴は適当な手段を用いて封止する。
【００２８】
（実施例）
以下、図１を用いて、構成の異なる四種類の透明導電膜を用いたポインティングデバイスに対し、各評価試験を行った結果を比較する。
【００２９】
ここで、図１を用いて、四種類の透明導電膜Ａを用いたポインティングデバイス１に共通の構成を説明する。
【００３０】
図１中に示すように、ポインティングデバイス１は、透明基材２ａ、透明基材２ｂと、導電体層４と、接着層５と、配線電極７と、絶縁性の液体８と、絶縁性の樹脂粒子９と、ドットスペーサー１０を備えており、抵抗膜式のタッチパッドに用いる。
【００３１】
透明基材２ａは、両方の面に、ハードコートを塗布した透明なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムであり、その厚さは、１８８μｍである。
導電体層４は、透明基材２ａの一方の面に形成されており、ＤＣマグネトロンスパッタリング法にて成膜した、厚さ２０μｍのＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜である。導電体層４の上に、配線電極７を形成した。
また、導電機能層４を形成した透明基材２ａは、縦７ｃｍ、横１０ｃｍの幅に断裁した。
透明基材２ｂは、透明基材２ａと同様のＩＴＯ膜が形成されており、この導電体層４上にはドットスペーサー１０が２ｍｍ間隔の格子上に形成されている。また、導電体層４上に配線電極７も形成した。さらに導電体層４を形成した透明基材２ａと同様、導電機能層４を形成した透明基材２ｂも、縦７ｃｍ、横１０ｃｍの幅に形成されている。
なお、透明基材２ａ、透明基材２ｂは、導電体層４同士を対向させ、互いに短辺同士、長辺同士を重ね合わせ、両者の間に間隔を空けて配置する。
ここで、評価試験で使用するタッチパッドを構成するポインティングデバイス１は、図１中に示すように、導電体層４を形成した透明基材２ｂを、導電体層４を形成した透明基材２ａの下方に配置している。このため、導電体層４を形成した透明基材２ａは、上部電極の役割、導電体層４を形成した透明基材２ｂは、下部電極の役割を果たす。
【００３２】
使用したドットスペーサー１０は、高さ１０μｍ程度の断面が半円状の突起物であり、その平面を、導電体層４を形成した透明基材２ｂの導電体層４の上、すなわち透明基材２ｂに形成した導電体層４の透明基材２ａと対向する面に形成されている。
また、ドットスペーサー１０は、格子状に複数個配置されており、隣り合うドットスペーサー１０間の間隔は、２ｍｍである。
これにより、ドットスペーサー１０は、例えば上部電極となる透明基材２ａの図１中上面に対するタッチペンの接触操作によるペン入力が無い状態で電極同士が触れないようにする役割を果たしている。なお、図１中では、ドットスペーサー１０を、透明基材２ｂ（下部電極）側のみ、すなわち、一方の電極のみに取り付けているが、これに限定するものではなく、ドットスペーサー１０を、両方の透明基材、すなわち、上部電極、下部電極の両方に取り付けてもよい。
ドットスペーサー１０の平均高さは、無作為に３点選び、膜厚計を使用して測定したドットスペーサー１０の厚みの平均値とする。
【００３３】
配線電極７は、透明基材２ａの導電体層４の上、具体的には、導電体層４の透明基材２ａと反対側の面（図１中では、下面）と、透明基材２ｂの導電体層４の上、具体的には、導電体層４の透明基材２ｂと反対側の面に、それぞれ、形成されている。
なお、以降の説明では、透明基材２ａの導電体層４の上に形成されている配線電極７を、「配線電極７ａ」と記載して示し、透明基材２ｂの導電体層４上に形成されている配線電極７を、「配線電極７ｂ」と記載して示す。図１中でもそのように示すものとする。
配線電極７ａは、透明基材２ａの導電体層４の上において、辺の長さが７ｃｍである短辺の端部に形成されている。
一方、配線電極７ｂは、透明基材２ｂの導電体層４の上において、辺の長さが１０ｃｍである長辺の端部に形成されている。
【００３４】
接着層５は、アクリル系の接着剤が塗布された両面テープ（商品名：キクダブルテープＮｏ．１９２Ｔ：菊水テープ株式会社製 厚さ３５μｍ）を使用して形成されている。
また、接着層５は、透明基材２ａの配線電極７ａの上、具体的には、導電体層４の透明基材２ａと反対側の面（図１中では、下面）と、透明基材２ｂの導電体層４の上、具体的には、導電体層４の透明基材２ｂと反対側の面（図１中では、上面）に、それぞれ、配線電極を覆うように形成されている。
【００３５】
接着層５により、導電体層４が形成された透明基材２ａと透明基材２ｂは、導電体層４同士が対向するように貼り合わされている。貼り合わせる際に、絶縁性の液体を注入した。
このようにして、タッチパッドを構成するポインティングデバイス１が作成されている。
【００３６】
次に、四種類（Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶ）のポインティングデバイス１としてのタッチパッドについて、上述していないそれぞれの構成を示す。
Ｉ．第一発明例
絶縁性の液体：ＫＦ−５０−１００ｃｓ（信越化学工業）、屈折率１．４３
絶縁性の樹脂粒子：トスパール１２０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社）、平均粒径２．０μｍ、屈折率１．４２
ドットスペーサーの平均的高さ：１２μｍ
【００３７】
ＩＩ．第二発明例
絶縁性の液体：ＫＦ−５０−１００ｃｓ（信越化学工業）、屈折率１．４３
絶縁性の樹脂粒子：トスパール１１１０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社）、平均粒径１１．０μｍ、屈折率１．４２
ドットスペーサーの平均的高さ：１２μｍ
【００３８】
ＩＩＩ．第一比較例（タッチパッド全体での透過率ＴＴ＝８６．７％）
絶縁性の液体：なし
絶縁性の樹脂粒子：なし
ドットスペーサーの平均的高さ：１２μｍ
【００３９】
ＩＶ．第二比較例（タッチパッド全体での透過率ＴＴ＝８６．７％）
絶縁性の液体：ＫＦ−５０−１００ｃｓ（信越化学工業）、屈折率１．４３。
絶縁性の樹脂粒子：なし
ドットスペーサーの平均的高さ：１２μｍ
また、タッチパッドに対し、各評価試験を行う際の方法を、以下に示す。
【００４０】
Ａ．全光線透過率
ＮＤＨ−２０００（村上色彩技術研究所）、Ｃ光源を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に基づいて全光線透過率を測定した。
【００４１】
Ｂ．ニュートンリングの目立たなさ
目視により判断した。
○：静置した場合、指で軽く押した場合、ともにニュートンリングが目立たない。
×：静置した場合、もしくは指で軽く押した場合に、ニュートンリングが目立つ。
【００４２】
Ｃ．リニアリティ値
まず、一組の配線電極間に電圧（印加電圧）を加え、タッチパネルの入力部分をペンで押し、印加電圧を加えたものとは異なる、もう一組の配線用電極で電圧を検出する。
このとき、理想的な電圧Ｖｎは、配線用電極間の距離Ｘ０と、アース側の電極と入力部分の距離Ｘｎを用いると、以下の式（１）で求められる。
Ｖｎ＝印加電圧×Ｘｎ÷Ｘ０ … （１）
そして、検出された電圧をｖｎとし、リニアリティを、以下の式（２）で定義する。
（Ｖｎ−ｖｎ）÷Ｖｎ×１００［％］ … （２）
【００４３】
タッチパッド（ポインティングデバイス１）では、ｖｎから算出された値を入力位置と見なすため、リニアリティの値が大きくなると、誤作動の可能性が大きくなる。したがって、本評価試験では、上記の式（１）及び（２）を参照して、試験を行う。実用的には、概ね数％以下、特に１％以下が好ましい。
【００４４】
上述した三種類のポインティングデバイス１としてのタッチパッドに対し、各評価試験を行った結果を、表１に示す。
この評価試験の結果、ドットスペーサーの平均高さをＨ、絶縁性の樹脂粒子の平均粒径をＲとした場合、これらの間に０．１６≦Ｒ／Ｈの関係が成立することが好ましく、特に、０．２≦Ｒ／Ｈであることが好ましいことが分かった。０．１６＞Ｒ／Ｈであると、ニュートンリングが目立つという点で不利である。
【００４５】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明の導電機能層及び導電機能層の製造方法は、ポインティングデバイス、特に、抵抗膜式タッチパッド、及び抵抗膜式タッチパッドの製造方法として用いる事が可能である。
【符号の説明】
【００４７】
１ ポインティングデバイス
２ 透明基材
４ 導電体層
５ 接着層
６ スペーサー
７ 配線電極
８ 絶縁性の液体
９ 絶縁性の樹脂粒子
１０ ドットスペーサー
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明電極、ポインティングデバイス、電磁波遮蔽膜等として有用な透明導電膜及びその製造方法と、この透明導電膜を用いたポインティングデバイスとに関する。
【背景技術】
【０００２】
透明導電性積層体の一つである透明導電膜は、導電性と光学的な透明性とを合わせ持つという特性を有しているため、産業的には、透明電極、電磁波遮蔽膜、面状発熱膜、反射防止膜等として使用されている。特に、近年では、タッチパネル向けに用いるポインティングデバイス（位置入力装置）として多用されている。
ところで、ポインティングデバイスには、静電容量結合式や光学式等、多様な方式が存在する。これらの方式の中で、透明導電膜が使用されるのは、例えば、上下の電極が接触することで入力位置を特定する抵抗膜式や、静電容量の変化から入力位置を特定する静電容量結合方式である。
【０００３】
ポインティングデバイスは、入力装置として、例えば、携帯用端末、携帯ゲーム機等のディスプレイ前面にも使用され、ディスプレイと共にタッチパネルを構成している。このため、これらの用途で使用されるポインティングデバイスには、特に、ディスプレイの表示を損なわないだけの、透過・反射特性が必要である。また、ポインティングデバイス内の電極同士が近づくと干渉模様（ニュートンリング）が生じることがあるが、この干渉模様を生じない対策も必要になっている。
【０００４】
透過率を向上させる為に、例えば、２種の導電体層が対向する構成の透明導電膜において、導電体層間に絶縁性の液体を封入したり、樹脂層を挿入する事が考案されている。（特許文献１、２）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２９６１１号公報
【特許文献２】特開２００４−１３４５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１や特許文献２に記載されている技術は、専ら透過率や応答特性の向上を図るものであり、パネル部にニュートンリングを生じない対策を提供するものではない。
本発明は上述の課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、２種の導電体層が対向し、２種の導電体層が間隔をもって接着剤などで固定されている透明導電膜において、透過率を向上させること、及びニュートンリングの発生を抑えること、及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明のうち、請求項１に記載した発明は、次の特徴を持つ。２種の導電体層が間隔をもって対向し、それらが接着剤などで固定されている透明導電膜において、２種の導電体層間の密閉空間に絶縁性の液体が注入され、その液体には、絶縁性の樹脂粒子が含まれている。
本発明によると、上記の密閉される空間に何も注入していない（空気だけ）ものと比較して、導電体層と密閉空間との屈折率差が減少するので、透過率を向上させること、及びニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。
【０００８】
次に、本発明のうち、請求項２に記載した発明は、請求項１に記載した発明であって、樹脂粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上、１５μｍ以下であることを特徴とするものである。
本発明によると、樹脂粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上、１５μｍ以下である。
このため、樹脂粒子の平均粒子径が０．５μｍ未満のものと比較して、導電体層間の密閉空間を透過する光を有効に乱反射させて、ニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。また、樹脂粒子の平均粒子径が１５μｍ以上になると、樹脂粒子の存在が目視で目立ってしまうので好ましくない。
【０００９】
次に、本発明のうち、請求項３に記載した発明は、請求項１又は２に記載した発明であって、絶縁性の液体の屈折率が１．２以上、２．５以下であることを特徴とするものである。
【００１０】
本発明によると、絶縁性の液体の屈折率が１．２以上、２．５以下である。
このため、絶縁性の液体の屈折率が１．２以下、または２．５以上のものと比較して、導電体層と密閉空間との屈折率差を小さくすることができるので、透過率を向上させることが可能となる。
【００１１】
次に、本発明のうち、請求項４に記載した発明は、透明導電膜を用いて構成されたポインティングデバイスであって、前記透明導電膜として、請求項１から３のいずれかに記載の透明導電膜を用いたことを特徴とするポインティングデバイスである。
本発明によると、２種の導電体層が対向し、２種の導電体層が接着剤などで固定されている。そして、それらによって密閉される空間に絶縁性の液体が注入され、その液体には、絶縁性の樹脂粒子を含まれる。これらによって、ポインティングデバイスの透明導電膜を形成する。
このため、請求項１から３のいずれかに記載の発明に基づかずに形成した透明導電膜を用いたポインティングデバイスと比較して、透過率を向上させ、かつニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。
【００１２】
次に、本発明のうち、請求項５に記載した発明は、請求項４に記載した発明であって、前記透明導電膜の、間隔をもって対向し接着剤などで固定された２種の導電体層のうち少なくとも片方の導電体層に、前記２種の導電体層間の密閉空間に配置されるドットスペーサーが形成されており、そのドットスペーサーの平均高さをＨ、前記密閉空間内に注入される絶縁性の液体に含まれる絶縁性の樹脂粒子の平均粒子径をＲとすると、０．２≦Ｒ／Ｈであることを特徴とするものである。
本発明によると、導電体層に形成されたドットスペーサーの平均高さをＨ、樹脂粒子の平均粒子径をＲとすると、０．２≦Ｒ／Ｈである。
このため、ドットスペーサーの平均高さＨに対して０．２≦Ｒ／Ｈの関係を満たす平均粒子径Ｒの樹脂粒子を絶縁性の液体に含めて使用する限り、樹脂粒子を絶縁性の液体に含めない場合と比較して、ニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。
【００１３】
次に、本発明のうち、請求項６に記載した発明は、２種の導電体層を間隔をもって対向させ、接着剤などで固定させる工程を含む入力装置の製造方法であって、前記工程中において、前記２種の導電体層間の密閉空間に、絶縁性の樹脂粒子を含ませた絶縁性の液体を注入する工程を実行することを特徴とする。
このため、この発明に基づかずに製造した透明導電膜と比較して、透過率を向上させ、かつニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、２種の導電体層が対向し、２種の導電体層が間隔をもって接着剤などで固定されている透明導電膜において、透過率を向上させること、及びニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。これにより、視認性を向上させたタッチパッドやタッチパネルなどのポインティングデバイスを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態の透明導電膜を用いたポインティングデバイスの概略構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態（以下、「本実施形態」と記載する）について、図面を参照しつつ説明する。
（構成）
まず、図１を用いて、本実施形態の透明導電膜を用いたポインティングデバイス１の構成を説明する。
【００１７】
図１は、ポインティングデバイス１の概略構成を示す断面図である。
図１中に示すように、ポインティングデバイス１は、透明基材２ａ、透明基材２ｂ（以後、必要に応じて透明基材２と表記する）と、導電体層４と、接着層５と、絶縁性の液体８と、絶縁性の樹脂粒子９と、必要に応じてスペーサー６、配線電極７を備えている。配線電極７を除く部分は透明導電膜Ａを構成しており、透明電極、タッチパネル、電磁波遮蔽膜等の構成部品として用いることができる。
なお、本実施形態では、一例として、配線電極７と後述するドットスペーサー１０とを設けて、透明導電膜Ａを、ポインティングデバイス１として用いる場合について説明する。
【００１８】
透明基材２は、透明なガラスやフィルムであり、ポインティングデバイス１の入力部分として用いる面は、その厚さは、可撓性を考慮して、１０〜２００［μｍ］程度とする。
なお、透明基材２は、一方または両方の面に、ハードコート等のプライマー層が積層されているものが好適である。しかしながら、透明基材２の構成は、これに限定するものではない。
また、透明基材２は、一方または両方の面に、易接着処理、プラズマ処理、コロナ処理等の表面処理が施されていてもよい。その他、透過率向上や色調調整の目的で、無機膜や有機膜を適宜積層してもよい。
透明基材２の材料としては、ガラス、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）を用いることが可能である。
また、透明基材２の材料としては、ポリアミド（ナイロン６、ナイロン６６等）、ポリイミド、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォンを用いることも可能である。
さらに、透明基材２の材料としては、上述した材料の共重合体を無延伸、または延伸させたプラスチックフィルムを用いることも可能である。
また、透明基材２の材料としては、上述した材料以外にも。透明性の高い他のプラスチックフィルムを用いることも可能である。
なお、本実施形態では、一例として、透明基材２の材料を、コスト面で有利な、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）とした場合を説明する。
【００１９】
導電体層４は、各透明基材２ａ、２ｂの一方の面（互いの対向面）に形成されており、導電性を有している。なお、導電体層４を形成する方法は、導電性ポリマーの塗布や、ＩＴＯ（酸化インジウム錫：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）のターゲットを使用したスパッタリングなどが用いられる。ポインティングデバイス１として用いる場合、導電体層４に、ドットスペーサー１０を形成することが良く行なわれる。ドットスペーサー１０は、透明基材２ａ側と透明基材２ｂ側のどちらかの導電体層４がたわんでもう一方の導電体層４と接触して誤動作をすることを防止する目的で印刷などにより形成される。大きさは、導電体層４が形成されている面に対し垂直方向から見た場合、ほぼ円状で、直径が数〜数百μｍ程度であり、目立たない程度の大きさに設定されている。導電体層４の面に対しての垂直方向の高さは数μｍ程度である。下側の導電体層４（図１では透明基材２ｂ側の導電体層４）に設けられることが多い。なお、導電体層４の屈折率は、好ましくは１．８以上２．５以下である。
【００２０】
接着層５は、導電体層４の上、具体的には、導電体層４の透明基材２と反対側の面に形成されており、例えば、アクリル系、ウレタン系等の接着剤を用いて形成されている。なお、接着層５を形成する方法は、この方法に限定するものではなく、例えば、アクリル系、ウレタン系等の接着剤が塗布された両面テープを用いて形成してもよい。
【００２１】
スペーサー６は、透明基材２ａ側と透明基材２ｂ側の両導電体層４同士に間隔を明けて、両導電体層４間の接着層５よりも内側の部分に密閉空間を形成する為に必要に応じて用い、両導電体層４に密接させる。スペーサー６と両導電体層４とは接着剤等で固定しても良い。図１では、スペーサー６が接着層５よりも両導電体層４間の密閉空間の内側寄りにあるが、スペーサー６と接着層５の位置関係は反対でも良い。スペーサー６の厚さは、数から数百μｍ程度である。
【００２２】
配線電極７は、本実施形態のように、透明導電膜Ａをポインティングデバイス１として用いる場合に、必要に応じて、透明導電膜Ａ（ポインティングデバイス１）と外部の電気回路とを電気的に接続する目的で、導電体層４の上、具体的には、導電体層４の透明基材２と反対側の面に印刷などの手段で形成しても良い。
【００２３】
絶縁性の液体８は、透明性が高いものが好ましく、シリコンオイルやフッ素系液体などが挙げられる。屈折率が２．０程度のＩＴＯ膜を透明基材２として用い、数〜数十μｍ程度の間隔をもたせて配置した抵抗膜式タッチパッドを例にとると、ＩＴＯ膜間を屈折率１．４程度のシリコンオイルで満たせば、数％の透過率向上が見られる。これは、ＩＴＯ膜とＩＴＯ膜間の領域の境界での反射が、ＩＴＯ膜間が空気で満たされている場合に比べて減少するからであり、屈折率が１．３から２．３程度であれば、同等以上の効果が得られる。屈折率が１．２程度以上かつ２．５程度以下であればそれに準じる効果が得られる。屈折率が１．２程度以下、もしくは２．５程度以上になると、効果が薄い、もしくは逆効果になってしまう。
【００２４】
樹脂粒子９は樹脂から構成される略球状の粒子である。樹脂粒子９を構成する樹脂の好適な具体例としては、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリウレタン、シリコーン樹脂及びフッ素樹脂が挙げられる。これらは２種類以上のモノマーが共重合した共重合体であってもよい。絶縁性の液体８の屈折率に近いものを用いた方が絶縁性の液体８中で樹脂粒子９の存在が目視で目立たないので好ましい。
なお、樹脂粒子９の平均粒子径は、０．５μｍ以上、１５μｍ以下が好ましい。
樹脂粒子の平均粒子径が０．５μｍ未満であると、導電体層間の密閉空間を透過する光を樹脂粒子９により有効に乱反射させることができず、ニュートンリングの発生を好適に抑えることができない。また、樹脂粒子の平均粒子径が１５μｍ以上になると、樹脂粒子の存在が目視で目立ってしまうので好ましくない。
【００２５】
（入力装置の製造方法）
以下、図１を参照して、本実施形態のポインティングデバイス１に用いる透明導電膜Ａを製造する方法である、透明導電膜の製造方法を説明する。
本実施形態の透明導電膜の製造方法は、導電体層が形成された２種類の透明基材を貼り合わせる工程と、絶縁性の樹脂粒子を含んだ液体を導電体層上に流し込む工程を含む方法である。
【００２６】
導電体層が形成された２種類の透明基材を貼り合わせる工程に用いる透明基材２は、上述した方法を用いて導電体層４が形成されている。必要に応じて、少なくとも一方の透明基材２にドットスペーサー１０、配線電極７、が上述した方法により形成されている。スペーサー６を形成しても良い。
少なくとも一方の透明基材２に接着層を上述した方法で形成し、貼り合わせを行なう。
【００２７】
絶縁性の樹脂粒子を含んだ液体を導電体層間に流し込む工程は、透明基材２同士の貼り合わせを行なう前でも後でも構わない。貼り合わせる工程の後に行なう場合、貼り合わされた透明基材２の一部に穴を開け、絶縁性の樹脂粒子を含んだ液体を流し込むことを行なう。その後、穴は適当な手段を用いて封止する。
【００２８】
（実施例）
以下、図１を用いて、構成の異なる四種類の透明導電膜を用いたポインティングデバイスに対し、各評価試験を行った結果を比較する。
【００２９】
ここで、図１を用いて、四種類の透明導電膜Ａを用いたポインティングデバイス１に共通の構成を説明する。
【００３０】
図１中に示すように、ポインティングデバイス１は、透明基材２ａ、透明基材２ｂと、導電体層４と、接着層５と、配線電極７と、絶縁性の液体８と、絶縁性の樹脂粒子９と、ドットスペーサー１０を備えており、抵抗膜式のタッチパッドに用いる。
【００３１】
透明基材２ａは、両方の面に、ハードコートを塗布した透明なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムであり、その厚さは、１８８μｍである。
導電体層４は、透明基材２ａの一方の面に形成されており、ＤＣマグネトロンスパッタリング法にて成膜した、厚さ２０μｍのＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜である。導電体層４の上に、配線電極７を形成した。
また、導電機能層４を形成した透明基材２ａは、縦７ｃｍ、横１０ｃｍの幅に断裁した。
透明基材２ｂは、透明基材２ａと同様のＩＴＯ膜が形成されており、この導電体層４上にはドットスペーサー１０が２ｍｍ間隔の格子上に形成されている。また、導電体層４上に配線電極７も形成した。さらに導電体層４を形成した透明基材２ａと同様、導電機能層４を形成した透明基材２ｂも、縦７ｃｍ、横１０ｃｍの幅に形成されている。
なお、透明基材２ａ、透明基材２ｂは、導電体層４同士を対向させ、互いに短辺同士、長辺同士を重ね合わせ、両者の間に間隔を空けて配置する。
ここで、評価試験で使用するタッチパッドを構成するポインティングデバイス１は、図１中に示すように、導電体層４を形成した透明基材２ｂを、導電体層４を形成した透明基材２ａの下方に配置している。このため、導電体層４を形成した透明基材２ａは、上部電極の役割、導電体層４を形成した透明基材２ｂは、下部電極の役割を果たす。
【００３２】
使用したドットスペーサー１０は、高さ１０μｍ程度の断面が半円状の突起物であり、その平面を、導電体層４を形成した透明基材２ｂの導電体層４の上、すなわち透明基材２ｂに形成した導電体層４の透明基材２ａと対向する面に形成されている。
また、ドットスペーサー１０は、格子状に複数個配置されており、隣り合うドットスペーサー１０間の間隔は、２ｍｍである。
これにより、ドットスペーサー１０は、例えば上部電極となる透明基材２ａの図１中上面に対するタッチペンの接触操作によるペン入力が無い状態で電極同士が触れないようにする役割を果たしている。なお、図１中では、ドットスペーサー１０を、透明基材２ｂ（下部電極）側のみ、すなわち、一方の電極のみに取り付けているが、これに限定するものではなく、ドットスペーサー１０を、両方の透明基材、すなわち、上部電極、下部電極の両方に取り付けてもよい。
ドットスペーサー１０の平均高さは、無作為に３点選び、膜厚計を使用して測定したドットスペーサー１０の厚みの平均値とする。
【００３３】
配線電極７は、透明基材２ａの導電体層４の上、具体的には、導電体層４の透明基材２ａと反対側の面（図１中では、下面）と、透明基材２ｂの導電体層４の上、具体的には、導電体層４の透明基材２ｂと反対側の面に、それぞれ、形成されている。
なお、以降の説明では、透明基材２ａの導電体層４の上に形成されている配線電極７を、「配線電極７ａ」と記載して示し、透明基材２ｂの導電体層４上に形成されている配線電極７を、「配線電極７ｂ」と記載して示す。図１中でもそのように示すものとする。
配線電極７ａは、透明基材２ａの導電体層４の上において、辺の長さが７ｃｍである短辺の端部に形成されている。
一方、配線電極７ｂは、透明基材２ｂの導電体層４の上において、辺の長さが１０ｃｍである長辺の端部に形成されている。
【００３４】
接着層５は、アクリル系の接着剤が塗布された両面テープ（商品名：キクダブルテープＮｏ．１９２Ｔ：菊水テープ株式会社製 厚さ３５μｍ）を使用して形成されている。
また、接着層５は、透明基材２ａの配線電極７ａの上、具体的には、導電体層４の透明基材２ａと反対側の面（図１中では、下面）と、透明基材２ｂの導電体層４の上、具体的には、導電体層４の透明基材２ｂと反対側の面（図１中では、上面）に、それぞれ、配線電極を覆うように形成されている。
【００３５】
接着層５により、導電体層４が形成された透明基材２ａと透明基材２ｂは、導電体層４同士が対向するように貼り合わされている。貼り合わせる際に、絶縁性の液体を注入した。
このようにして、タッチパッドを構成するポインティングデバイス１が作成されている。
【００３６】
次に、四種類（Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶ）のポインティングデバイス１としてのタッチパッドについて、上述していないそれぞれの構成を示す。
Ｉ．第一発明例
絶縁性の液体：ＫＦ−５０−１００ｃｓ（信越化学工業）、屈折率１．４３
絶縁性の樹脂粒子：トスパール１２０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社）、平均粒径２．０μｍ、屈折率１．４２
ドットスペーサーの平均的高さ：１２μｍ
【００３７】
ＩＩ．第二発明例
絶縁性の液体：ＫＦ−５０−１００ｃｓ（信越化学工業）、屈折率１．４３
絶縁性の樹脂粒子：トスパール１１１０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社）、平均粒径１１．０μｍ、屈折率１．４２
ドットスペーサーの平均的高さ：１２μｍ
【００３８】
ＩＩＩ．第一比較例（タッチパッド全体での透過率ＴＴ＝８６．７％）
絶縁性の液体：なし
絶縁性の樹脂粒子：なし
ドットスペーサーの平均的高さ：１２μｍ
【００３９】
ＩＶ．第二比較例（タッチパッド全体での透過率ＴＴ＝８６．７％）
絶縁性の液体：ＫＦ−５０−１００ｃｓ（信越化学工業）、屈折率１．４３。
絶縁性の樹脂粒子：なし
ドットスペーサーの平均的高さ：１２μｍ
また、タッチパッドに対し、各評価試験を行う際の方法を、以下に示す。
【００４０】
Ａ．全光線透過率
ＮＤＨ−２０００（村上色彩技術研究所）、Ｃ光源を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に基づいて全光線透過率を測定した。
【００４１】
Ｂ．ニュートンリングの目立たなさ
目視により判断した。
○：静置した場合、指で軽く押した場合、ともにニュートンリングが目立たない。
×：静置した場合、もしくは指で軽く押した場合に、ニュートンリングが目立つ。
【００４２】
Ｃ．リニアリティ値
まず、一組の配線電極間に電圧（印加電圧）を加え、タッチパネルの入力部分をペンで押し、印加電圧を加えたものとは異なる、もう一組の配線用電極で電圧を検出する。
このとき、理想的な電圧Ｖｎは、配線用電極間の距離Ｘ０と、アース側の電極と入力部分の距離Ｘｎを用いると、以下の式（１）で求められる。
Ｖｎ＝印加電圧×Ｘｎ÷Ｘ０ … （１）
そして、検出された電圧をｖｎとし、リニアリティを、以下の式（２）で定義する。
（Ｖｎ−ｖｎ）÷Ｖｎ×１００［％］ … （２）
【００４３】
タッチパッド（ポインティングデバイス１）では、ｖｎから算出された値を入力位置と見なすため、リニアリティの値が大きくなると、誤作動の可能性が大きくなる。したがって、本評価試験では、上記の式（１）及び（２）を参照して、試験を行う。実用的には、概ね数％以下、特に１％以下が好ましい。
【００４４】
上述した三種類のポインティングデバイス１としてのタッチパッドに対し、各評価試験を行った結果を、表１に示す。
この評価試験の結果、ドットスペーサーの平均高さをＨ、絶縁性の樹脂粒子の平均粒径をＲとした場合、これらの間に０．１６≦Ｒ／Ｈの関係が成立することが好ましく、特に、０．２≦Ｒ／Ｈであることが好ましいことが分かった。０．１６＞Ｒ／Ｈであると、ニュートンリングが目立つという点で不利である。
【００４５】
【表１】
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明の導電機能層及び導電機能層の製造方法は、ポインティングデバイス、特に、抵抗膜式タッチパッド、及び抵抗膜式タッチパッドの製造方法として用いる事が可能である。
【符号の説明】
【００４７】
１ ポインティングデバイス
２ 透明基材
４ 導電体層
５ 接着層
６ スペーサー
７ 配線電極
８ 絶縁性の液体
９ 絶縁性の樹脂粒子
１０ ドットスペーサー
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２種の導電体層が間隔をもって対向し、それらが接着剤などで固定されている透明導電膜において、前記２種の導電体層間の密閉空間に絶縁性の液体が注入され、その液体が、絶縁性の樹脂粒子を含んでいることを特徴とする透明導電膜。
【請求項２】
前記樹脂粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上、１５μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載した透明導電膜。
【請求項３】
前記樹脂粒子を含む前記絶縁性の液体の屈折率が１．２以上２．５以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載した透明導電膜。
【請求項４】
透明導電膜を用いて構成されたポインティングデバイスであって、前記透明導電膜として、請求項１から３のいずれかに記載の透明導電膜を用いたことを特徴とするポインティングデバイス。
【請求項５】
前記透明導電膜の、間隔をもって対向し接着剤などで固定された２種の導電体層のうち少なくとも片方の導電体層に、前記２種の導電体層間の密閉空間に配置されるドットスペーサーが形成されており、そのドットスペーサーの平均高さをＨ、前記密閉空間内に注入される絶縁性の液体に含まれる絶縁性の樹脂粒子の平均粒子径をＲとすると、０．２≦Ｒ／Ｈであることを特徴とする請求項４記載のポインティングデバイス。
【請求項６】
２種の導電体層を間隔をもって対向させ、接着剤などで固定させる工程を含む透明導電膜の製造方法であって、前記工程中において、前記２種の導電体層間の密閉空間に、絶縁性の樹脂粒子を含ませた絶縁性の液体を注入する工程を実行することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
【請求項１】
２種の導電体層が間隔をもって対向し、それらが接着剤などで固定されている透明導電膜において、前記２種の導電体層間の密閉空間に絶縁性の液体が注入され、その液体が、絶縁性の樹脂粒子を含んでいることを特徴とする透明導電膜。
【請求項２】
前記樹脂粒子の平均粒子径が０．５μｍ以上、１５μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載した透明導電膜。
【請求項３】
前記樹脂粒子を含む前記絶縁性の液体の屈折率が１．２以上２．５以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載した透明導電膜。
【請求項４】
透明導電膜を用いて構成されたポインティングデバイスであって、前記透明導電膜として、請求項１から３のいずれかに記載の透明導電膜を用いたことを特徴とするポインティングデバイス。
【請求項５】
前記透明導電膜の、間隔をもって対向し接着剤などで固定された２種の導電体層のうち少なくとも片方の導電体層に、前記２種の導電体層間の密閉空間に配置されるドットスペーサーが形成されており、そのドットスペーサーの平均高さをＨ、前記密閉空間内に注入される絶縁性の液体に含まれる絶縁性の樹脂粒子の平均粒子径をＲとすると、０．２≦Ｒ／Ｈであることを特徴とする請求項４記載のポインティングデバイス。
【請求項６】
２種の導電体層を間隔をもって対向させ、接着剤などで固定させる工程を含む透明導電膜の製造方法であって、前記工程中において、前記２種の導電体層間の密閉空間に、絶縁性の樹脂粒子を含ませた絶縁性の液体を注入する工程を実行することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
【図１】
【公開番号】特開２０１１−２４３０２１（Ｐ２０１１−２４３０２１Ａ）
【公開日】平成２３年１２月１日（２０１１．１２．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１１５０２０（Ｐ２０１０−１１５０２０）
【出願日】平成２２年５月１９日（２０１０．５．１９）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月１日（２０１１．１２．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月１９日（２０１０．５．１９）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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