説明

除草組成物および雑草の防除方法

【課題】優れた除草組成物及び雑草の防除方法を提供する。
【解決手段】4−クロロ−5−[1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル]カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1−ジオキシドと、イプフェンカルバゾン等と、イマゾスルフロン等とを有効成分として含有する除草組成物により、雑草を防除できる。


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【特許請求の範囲】
【請求項1】
成分(A)と成分(B)と成分(C)とを有効成分として含有する除草組成物。
成分(A):4−クロロ−5−[1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル]カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1−ジオキシド
成分(B):イプフェンカルバゾン、インダノファン、エスプロカルブ、エトベンザニド、オキサジアゾン、オキサジクロメホン、カフェンストロール、シハロホップブチル、テニルクロール、ピラクロニル、ピリフタリド、ピリブチカルブ、ピリミノバックメチル、フェノキサスルホン、フェントラザミド、ブタクロール、ブタミホス、プレチラクロール、ペントキサゾン、メフェナセット、およびモリネートの群から選ばれ少なくとも1種の化合物
成分(C):イマゾスルフロン、ダイムロン、ピラゾスルフロンエチル、ピラゾレート、ピリミスルファン、プロピリスルフロン、ペノキススラム、ベンスルフロンメチル、ベンゾフェナップ、メタゾスルフロン、クミルロン、クロメプロップ、シメトリン、ジメタメトリン、ピラゾキシフェン、およびMCPBの群から選ばれる少なくとも1種の化合物
【請求項2】
成分(A)と成分(B)と成分(C)との重量比が、1:0.1:0.01〜1:100:200の範囲である請求項1に記載の除草組成物。
【請求項3】
成分(A)と成分(B)と成分(C)との有効量を雑草又は雑草が生育する場所に施用する雑草の防除方法。
【請求項4】
雑草が生育する場所が、水田又は畑地である請求項3に記載の雑草の防除方法。
【請求項5】
成分(A)と成分(B)と成分(C)とを含有する組成物の雑草を防除するための使用。

【公開番号】特開2012−171928(P2012−171928A)
【公開日】平成24年9月10日(2012.9.10)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−36268(P2011−36268)
【出願日】平成23年2月22日(2011.2.22)
【出願人】(000002093)住友化学株式会社 (8,981)
【Fターム(参考)】