電子線照射システム
【課題】稼働率を向上させる電子線照射システムを提供する。
【解決手段】電子線照射システム２００は、第１電子線照射装置１００ａと第１搬送ラインとを含んで構成される電子線照射ユニット２００ａと、第２電子線照射装置１００ｂと第２搬送ラインとを含んで構成される電子線照射ユニット２００ｂと、第１搬送ラインの第１搬出部３１２から第２搬送ラインの第２搬入部３５０に被照射物を送出するユニット間搬送部２１０と、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物の搬送先を、第１搬出口３１２ａおよびユニット間搬送部のいずれか一方に切り換える搬送先切換部２１４と、を備え、搬送先切換部が第１照射領域を通過した被照射物の搬送先をユニット間搬送部に切り換えたとき、第１照射領域を通過するときの被照射物における照射面と、第２照射領域を通過するときの被照射物における該照射面と、を異ならせる。
【解決手段】電子線照射システム２００は、第１電子線照射装置１００ａと第１搬送ラインとを含んで構成される電子線照射ユニット２００ａと、第２電子線照射装置１００ｂと第２搬送ラインとを含んで構成される電子線照射ユニット２００ｂと、第１搬送ラインの第１搬出部３１２から第２搬送ラインの第２搬入部３５０に被照射物を送出するユニット間搬送部２１０と、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物の搬送先を、第１搬出口３１２ａおよびユニット間搬送部のいずれか一方に切り換える搬送先切換部２１４と、を備え、搬送先切換部が第１照射領域を通過した被照射物の搬送先をユニット間搬送部に切り換えたとき、第１照射領域を通過するときの被照射物における照射面と、第２照射領域を通過するときの被照射物における該照射面と、を異ならせる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被照射物に電子線を照射する電子線照射システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、医療器具や食品等の滅菌、樹脂の架橋や硬化、悪性腫瘍等の病巣の除去等、様々な分野で利用されている電子線照射装置（例えば、特許文献１、２）が知られている。このような電子線照射装置は、カソード電極と加速器を備えており、カソード電極に電力を供給することでカソード電極から電子線を放出し、その電子線を加速器で加速して被照射物に照射する。電子線照射装置を利用して被照射物に電子線を照射する場合、被照射物は、コンベア等の搬送装置で、被照射物に電子線が照射される領域（照射領域）に、連続的に搬送されることが多い。
【０００３】
そして、被照射物に電子線が照射される照射領域において電子線が被照射物等に衝突すると、Ｘ線等の放射線が発生するため放射線が外部に漏洩しないように、遮蔽壁で電子線照射装置が包囲されている。ここで遮蔽壁は、発生した放射線を十分に遮蔽できる程度の厚みを有するコンクリートや金属（鉛やステンレス）等で構成されている。また、遮蔽壁は、電子線照射装置を取り囲むとともに、建屋としての機能も有している。
【０００４】
ここで、例えば、電子線照射装置を利用して高密度の被照射物に電子線を照射する場合、低密度の被照射物に照射する場合よりも高エネルギーの電子線を照射することで、被照射物の内部まで電子線を到達させることができる。しかし、電子線のエネルギーを高くすると、発生する放射線の線量も多くなってしまう。したがって、遮蔽壁の厚みを、より厚くしなければならず、建屋全体の設置面積が大きくなってしまい、電子線照射装置を設置する場所が制限されてしまっていた。また、第１種放射線取扱主任者等の特別な資格を有する人員を配置する必要もある。
【０００５】
そこで、図１０に示すように、１つの建屋内に配された１台のコンベア１２の両側に、電子線の照射方向が互いに対向するように２台の電子線照射装置１０（図１０中、１０ａ、１０ｂで示す）を配しておき、コンベア１２によって搬送される被照射物Ｗの両面から電子線を照射することで、低エネルギーの電子線であっても、高密度の被照射物Ｗの内部まで電子線を到達させることができる技術が開示されている（例えば、特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−３４９９９８号公報
【特許文献２】特開２００３−１３９８９８号公報
【特許文献３】特開２００３−２１５３００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上述した特許文献３の技術では、２台の電子線照射装置１０のうち、一方の電子線照射装置１０に故障等が生じてメンテナンスする際に、ライン全体を停止させなければならず、その間、滅菌処理等を施すことができなくなってしまう。
【０００８】
また、被照射物によっては片面からの照射で十分な場合もあるが、こうした被照射物が搬送される場合には、いずれかの電子線照射装置が待機状態となり、装置の稼働率が低下してしまう。しかも、電子線照射装置は、待機状態であっても、真空状態を維持する等の処理が必要であるため、その間、エネルギー損失が生じる。また、長時間にわたって片面からの照射を行う場合には、一方の電子線照射装置の稼働を完全に停止させることも可能であるが、電子線照射装置は、一度稼働を停止させると、再稼働する際にエージングを行わなければならず、エージングのための様々なコストがかかってしまい、さらには、定格稼働に至るまでに長時間を要してしまう。
【０００９】
そこで本発明は、このような課題に鑑み、２台の電子線照射装置を備えた電子線照射システムにおいて、装置の稼働率を向上することが可能な電子線照射システムを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の電子線照射システムは、水平方向に電子線を照射する第１電子線照射装置と、第１搬入口から第１電子線照射装置によって電子線が照射される第１照射領域まで被照射物を搬送する第１搬入部、および、第１照射領域から第１搬出口まで被照射物を搬送する第１搬出部を有する第１搬送ラインと、水平方向に電子線を照射する第２電子線照射装置と、第２搬入口から第２電子線照射装置によって電子線が照射される第２照射領域まで被照射物を搬送する第２搬入部、および、第２照射領域から第２搬出口まで被照射物を搬送する第２搬出部を有する第２搬送ラインと、第１搬出部における第１搬出口より搬送方向上流から第２搬送ラインの第２搬入部に被照射物を送出するユニット間搬送部と、第１照射領域を通過した被照射物の搬送先を、第１搬出口およびユニット間搬送部のいずれか一方に切り換える搬送先切換部と、を備え、搬送先切換部が第１照射領域を通過した被照射物の搬送先をユニット間搬送部に切り換えている間、第１照射領域を通過するときの被照射物における照射面と、第２照射領域を通過するときの被照射物における照射面と、を異ならせることを特徴とする。
【００１１】
第１搬送ラインおよび第２搬送ラインのいずれか一方または両方の搬送ラインに設置され、搬送ラインによって被照射物が搬送される照射領域を通過した被照射物を、当該搬送ラインの搬出部から搬入部へと送出するとともに、搬送先切換部によって切り換え選択可能な再搬送部と、再搬送部が設置される搬送ラインに少なくとも１つ設けられ、搬送先切換部が照射領域を通過した被照射物の搬送先を再搬送部に切り換えたとき、再搬送部から搬入部に搬送された被照射物の照射面が、搬入口から搬入部に搬送された場合の照射領域における被照射物の照射面と異なるように被照射物の向きを変える向き変更部と、を備えてもよい。
【００１２】
再搬送部および向き変更部は、第１搬送ラインに設置されてもよい。
【００１３】
第１搬入口から第１搬入部に搬送された場合の第１照射領域における被照射物の照射面は、再搬送部から第１搬入部に搬送された場合の第１照射領域における被照射物の照射面、および、ユニット間搬送部を介して第２搬入部に搬送された場合の第２照射領域における被照射物の照射面と、水平面上で１８０度異なってもよい。
【００１４】
第１搬入部は、第１照射領域を通過する第１の通路と、第１の通路よりも搬送方向上流側に設けられ、かつ、第１の通路と水平方向に直交する第２の通路と、を経由して、第１搬入口から第１照射領域まで被照射物を搬入し、向き変更部は、第２の通路を通過する被照射物を第１の通路に押出するプッシャを含んで構成されてもよい。
【００１５】
第１照射領域の通過回数を被照射物ごとに識別する識別情報を読み取る情報読取部を備え、搬送先切換部は、情報読取部の読み取り結果に応じて搬送先を切り換えてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、装置の稼働率を向上することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】電子線照射装置を説明するための説明図である。
【図２】電子線の照射線量と浸透深さを説明するための説明図である。
【図３】電子線照射システムを説明するための説明図である。
【図４】電子線照射ユニットを説明するための説明図である。
【図５】電子線照射ユニットを説明するための説明図である。
【図６】搬送先切換部の一例を説明するための説明図である。
【図７】片面照射の場合の被照射物の搬送の流れを説明するための説明図である。
【図８】電子線照射ユニットおよび電子線照射ユニットを利用して両面照射をする場合の被照射物の搬送の流れを説明するための説明図である。
【図９】電子線照射ユニットのみを利用して両面照射をする場合の被照射物の搬送の流れを説明するための説明図である。
【図１０】従来の電子線照射システムを説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。
【００１９】
本実施形態の電子線照射システムは、２つの電子線照射ユニット（１台の電子線照射装置と、電子線照射装置が電子線を照射する領域である照射領域に被照射物を搬送する搬送ラインを含んで構成されるユニット）を含んで構成される。ここでは、まず電子線照射装置の構成を説明した後、電子線照射システムについて説明する。
【００２０】
（電子線照射装置１００）
図１は、電子線照射装置１００を説明するための説明図である。図１に示すように、電子線照射装置１００は、カソード電源１０４と、電子銃１１０と、高周波ユニット１１２と、導波管１１４と、プリバンチャ１１６と、加速器１１８と、スキャンホーン１２０とを備えて構成されている。なお、電子銃１１０、プリバンチャ１１６、加速器１１８、スキャンホーン１２０は、内部空間（真空室）が連続しており、この内部空間は、イオンポンプ等の真空ポンプ１０２で高真空状態から超高真空状態（例えば、１０Ｅ−５Ｐａ以下）に維持される。
【００２１】
電子線照射装置１００において、電子銃１１０から放出された熱電子は、プリバンチャ１１６、加速器１１８で加速され、スキャンホーン１２０を通過し、搬送ライン３００で搬送される被照射物Ｗに向かって、水平方向（図１中Ｘ軸方向）に照射される。以下、電子線照射装置１００の各機能部について詳述する。
【００２２】
（電子銃１１０）
電子銃１１０は、例えば、三極管電子銃であり、カソード電源（交流電源）１０４から供給された電力によってカソード電極を加熱し、パルス状に印加された高電圧のグリッド電圧（引出電圧）により、電子線を放出する。
【００２３】
（高周波ユニット１１２、導波管１１４）
高周波ユニット１１２は、クライストロン等で構成される高周波増幅器１１２ａと、高周波増幅器１１２ａに電力を供給する高周波電源（電力供給部）１１２ｂとを含んで構成され、導波管１１４を通じてプリバンチャ１１６および加速器１１８に、例えばＳバンドに相当する３ＧＨｚのパルス状の高周波電力を供給する。導波管１１４は、セラミック等で構成されたＲＦ窓１１４ａ、１１４ｂを通じて、高周波増幅器１１２ａから増幅されて供給される高周波の電圧を加速器１１８に供給する。導波管１１４におけるＲＦ窓１１４ａとＲＦ窓１１４ｂの間には、六フッ化硫黄（ＳＦ６）等の絶縁ガスが充填されており、高周波増幅器１１２ａで増幅されて出力された電圧によって導波管１１４が放電してしまう事態を回避する。なおＲＦ窓１１４ａ、１１４ｂはＳＦ６と真空とを隔てる境界の役割を果たす。
【００２４】
（プリバンチャ１１６）
プリバンチャ１１６は、電子銃１１０と加速器１１８の間に設けられ、導波管１１４を通じて高周波ユニット１１２に接続されている。プリバンチャ１１６は、電子銃１１０から入射された電子線をバンチング（密度圧縮（速度変調））して、加速器１１８に送出する。具体的に説明すると、プリバンチャ１１６内は、高周波増幅器１１２ａから供給された高周波の電圧によって高周波電界が形成されており、プリバンチャ１１６を通過した電子線は、バンチングされて加速器１１８に入射する。プリバンチャ１１６で電子線をバンチングすることにより、加速器１１８で加速された電子線のエネルギーの分散を小さくすることができ、電子線のエネルギーの均一性を向上させることが可能となる。
【００２５】
ここで、プリバンチャ１１６によって圧縮された電子線の加速器１１８への入射タイミングが、加速器１１８における高周波の正位相と同期したときのみ、電子線は加速器１１８で効率よく加速される。したがって、プリバンチャ１１６から加速器１１８への電子線の入射タイミングを調整するために、プリバンチャ１１６の高周波導入部１１６ａには、不図示の位相調整手段が設けられている。また、電子線の圧縮率（バンチングされた電子線の長さ）も加速器１１８による加速効率に影響するため、すなわち、電子線の長さが短い程、加速効率が向上する。したがって、供給する高周波の強度を調整して電子線の長さを調整するために、プリバンチャ１１６の高周波導入部１１６ａには、不図示の減衰（アッテネータ）手段が設けられている。
【００２６】
（加速器１１８）
加速器１１８は、ステンレス（例えばＳＵＳ）等で形成され、内部に複数の加速空間を有して構成される。高周波増幅器１１２ａから高周波の電圧（例えば、３ＧＨｚ）が供給されると、加速器１１８の複数の加速空間が空間共振器として機能し、空間共振器内に時間的に変化する電界が生じる。そして、この時間的に変化する電界で、プリバンチャ１１６によって圧縮された電子線を加速する。
【００２７】
ここで、電子線の速度と加速空間における正に帯電する（正位相になる）タイミングが同期するように、高周波増幅器１１２ａから供給される電圧の周波数と、加速空間の距離が設計されているため、電子線は加速器１１８内で徐々に加速され、最終的には、例えば１０ＭｅＶ程度まで加速されて、スキャンホーン１２０に入射される。
【００２８】
なお、ここでは、加速器１１８として、定在波型の線形（リニアック）加速器を採用しているが、電子を加速できればよく、進行波型の線形加速器や、シンクロトロン、サイクロトロン等の円形加速器を採用することもできる。
【００２９】
（スキャンホーン１２０）
スキャンホーン１２０は、ステンレス（例えばＳＵＳ）等で形成され、その内部空間が加速器１１８と連結され、加速器１１８の出口付近に設けられたスキャン電磁石１２２と、加速器１１８と連結する端部と対向する端部に設けられた電子線取出部１２４とを含んで構成される。
【００３０】
スキャン電磁石１２２は、加速器１１８から入射された電子線を鉛直方向（図１中Ｚ軸方向）に走査（スキャン）する。電子線の進行方向は水平方向（図１中Ｘ軸方向）であるため、スキャン電磁石１２２が水平方向に進行する電子線を鉛直方向に走査することにより、鉛直方向に高さのある被照射物Ｗ全体に確実に電子線を照射することができる。
【００３１】
電子線取出部１２４は、例えば、５０μｍ程度の厚みのチタン（Ｔｉ）箔で構成され、内部空間と、大気とを隔てる境界の役割を果たす。そして、電子線取出部１２４から大気雰囲気に放出された電子線は、照射領域Ｒにおいて被照射物Ｗに照射される。
【００３２】
こうして、電子銃１１０で放出された電子線は、加速器１１８で加速されて、電子線取出部１２４を通じて、被照射物Ｗに照射される。
【００３３】
ところで、電子線は、Ｘ線やγ線と異なり粒子線であるため、その浸透深さには限界がある。電子線の浸透深さは、加速器１１８による電子線の加速電圧によって決定される。すなわち、電子線は、加速電圧が大きいほどより深くまで浸透（到達）することができる。また、電子線の浸透深さは、被照射物の密度にも影響され、被照射物の密度が小さいほどより深くまで浸透することとなる。
【００３４】
図２は、電子線の照射線量と浸透深さを説明するための説明図である。図２中、縦軸は、被照射物の表面における電子線の照射線量を１００％としたときの浸透した照射線量の割合（％）を示し、横軸は、比重１（水の密度）における電子線の浸透深さ（ｍｍ）を示す。なお、図２における、電子線の照射線量と浸透深さは、三菱重工技報Ｖｏｌ．４０． Ｎｏ．５（２００３）を参考にした。
【００３５】
図２（ａ）に示すように、被照射物Ｗの比重が実質的に１に等しい場合、被照射物Ｗの表面から電子線の照射方向にある程度進むにつれて、浸透する電子線の照射線量は増加するが、それ以降は徐々に減少する。例えば、１０ＭｅＶの電子線を例に挙げて説明すると、被照射物Ｗの表面から３０ｍｍよりも進むと、照射方向に進むにつれて、電子線の到達線量は徐々に減少し、６０ｍｍより進むと電子線の照射線量（到達線量）は０％、すなわち電子線が到達しなくなってしまう。したがって、比重が実質的に１に等しい被照射物Ｗの水平方向の厚みが６０ｍｍ以上である場合、１０ＭｅＶといった高エネルギーの電子線を照射したとしても、電子線が全く照射されない部分が生じてしまい、滅菌を確実に行うことができない。
【００３６】
そこで、被照射物Ｗの両側から１０ＭｅＶの電子線を照射すれば、図２（ｂ）に示すように、被照射物Ｗの水平方向の厚みが６０ｍｍであっても、被照射物Ｗの内部に到達する照射線量を１００％以上にすることができる。
【００３７】
次に、本実施形態の電子線照射システム２００について詳述する。
【００３８】
（電子線照射システム２００）
図３は、電子線照射システム２００を説明するための説明図であり、図１におけるＺ軸方向から電子線照射装置１００を見た場合の電子線照射システム２００の図である。図３に示すように、電子線照射システム２００は、２つの電子線照射ユニット２００ａ、２００ｂと、２つの電子線照射ユニット２００ａ、２００ｂを取り囲むとともに、２つの電子線照射ユニット２００ａ、２００ｂにおいて発生した放射線の外部への漏洩を防止するための遮蔽壁２０２と、２つの電子線照射ユニット２００ａ、２００ｂを接続するユニット間搬送部２１０と、情報読取部２１２と、搬送先切換部２１４とを含んで構成される。
【００３９】
（電子線照射ユニット２００ａ）
図４は、電子線照射ユニット２００ａを説明するための説明図である。図４中理解を容易にするために遮蔽壁２０２を省略する。図４に示すように、電子線照射ユニット２００ａは、電子線照射装置１００ａ（以下、第１電子線照射装置１００ａとする）と、搬送ライン３００ａ（以下、第１搬送ライン３００ａとする）と、向き変更部３２０（図４中、３２０ａ、３２０ｂで示す）と、再搬送部３３０とを含んで構成される。
【００４０】
第１電子線照射装置１００ａは、上述したように水平方向（図４中Ｘ軸方向）に電子線を照射する。
【００４１】
第１搬送ライン３００ａは、コンベア等で構成された、第１搬入部３１０と、第１搬出部３１２とを含んで構成される。第１搬入部３１０は、第１搬入口３１０ａから被照射物Ｗを搬入し、第１電子線照射装置１００ａによって電子線が照射される領域である第１照射領域Ｒ１まで搬送する。第１搬出部３１２は、第１照射領域Ｒ１から被照射物Ｗを搬出し、第１搬出口３１２ａへ被照射物Ｗを搬送する。
【００４２】
向き変更部３２０（図４中、３２０ａ、３２０ｂで示す）は、第１搬送ライン３００ａに設けられ、プッシャで構成される。具体的に説明すると、第１搬送ライン３００ａの第１搬入部３１０は、第１照射部コンベア３１０ｂと、第１搬入コンベア３１０ｃとを含んで構成され、第１搬出部３１２は、第１前搬出コンベア３１２ｂと、第１後搬出コンベア３１２ｃとを含んで構成される。第１照射部コンベア３１０ｂは、第１照射領域Ｒ１を通過する第１の通路２０４ａに設けられ、第１搬入コンベア３１０ｃは、第１の通路２０４ａよりも搬送方向上流側に設けられ、かつ、第１の通路２０４ａと水平方向に直交する第２の通路２０４ｂに設けられる。また、第１前搬出コンベア３１２ｂは、第１の通路２０４ａと平行に配された第３の通路２０４ｃに設けられ、第１後搬出コンベア３１２ｃは、第３の通路２０４ｃよりも搬送方向下流側に設けられ、かつ、第３の通路２０４ｃと水平方向に直交する第４の通路２０４ｄに設けられる。
【００４３】
向き変更部３２０ａは、第１照射部コンベア３１０ｂと第１搬入コンベア３１０ｃとを連続する部分に設けられる。そして、向き変更部３２０ａは、第１搬入コンベア３１０ｃによって第２の通路２０４ｂを通過する被照射物Ｗを図４中Ｙ軸方向に押出して、第１の通路２０４ａに設けられた第１照射部コンベア３１０ｂに送出する。すなわち、向き変更部３２０ａは、被照射物Ｗにおける、第１搬入コンベア３１０ｃの搬送方向の前面に該当する面と、第１照射部コンベア３１０ｂの搬送方向の前面に該当する面と、を９０度変更する。向き変更部３２０ａによって被照射物Ｗの向きを変更する理由については、後述する。
【００４４】
ここで、第１照射部コンベア３１０ｂにおいて、被照射物Ｗが、前後の被照射物Ｗと一定間隔、離隔されて搬送されると、被照射物Ｗと被照射物Ｗとの間は、被照射物Ｗに電子線が照射されず、第１照射部コンベア３１０ｂに電子線が照射されることとなり、電子線が無駄に消費されてしまう。
【００４５】
そこで、本実施形態では、第１照射部コンベア３１０ｂの搬送速度Ｖ１を、第１搬入コンベア３１０ｃの搬送速度Ｖ２よりも遅くなるように設定し、第１照射領域Ｒ１の直前に設けられた向き変更部３２０ａが、搬送速度Ｖ１に合わせて所定間隔ごとに被照射物Ｗを送出することとする。
【００４６】
これにより、第１照射部コンベア３１０ｂにおいて、被照射物Ｗを密接して搬送することができる。したがって、電子線が無駄に消費されてしまう事態を回避することが可能となる。
【００４７】
また、向き変更部３２０ｂは、第１前搬出コンベア３１２ｂと第１後搬出コンベア３１２ｃとを連続する部分に設けられる。そして、向き変更部３２０ｂは、第１前搬出コンベア３１２ｂによって第３の通路２０４ｃを通過する被照射物Ｗを図４中Ｘ軸方向に押出して、第４の通路２０４ｄに設けられた第１後搬出コンベア３１２ｃに送出する。すなわち、向き変更部３２０ｂは、被照射物Ｗにおける、第１前搬出コンベア３１２ｂの搬送方向の前面に該当する面と、第１後搬出コンベア３１２ｃの搬送方向の前面に該当する面と、を９０度変更する。向き変更部３２０ｂによって被照射物Ｗの向きを変更する理由については、後述する。
【００４８】
再搬送部３３０は、コンベア等で構成され、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗを第１搬出部３１２から第１搬入部３１０へと送出する。再搬送部３３０による、第１搬出部３１２から第１搬入部３１０への送出については後に詳述する。
【００４９】
（電子線照射ユニット２００ｂ）
図５は、電子線照射ユニット２００ｂを説明するための説明図である。図５中理解を容易にするために遮蔽壁２０２を省略する。図５に示すように、電子線照射ユニット２００ｂは、電子線照射装置１００ｂ（以下、第２電子線照射装置１００ｂとする）と、搬送ライン３００ｂ（以下、第２搬送ライン３００ｂとする）と、向き変更部３７０（図５中、３７０ａ、３７０ｂで示す）とを含んで構成される。
【００５０】
第２電子線照射装置１００ｂは、上述したように水平方向（図５中Ｘ軸方向）に電子線を照射する。
【００５１】
第２搬送ライン３００ｂは、コンベア等で構成された第２搬入部３５０、第２搬出部３５２を含んで構成される。第２搬入部３５０は、第２搬入口３５０ａから被照射物Ｗを搬入し、第２電子線照射装置１００ｂによって電子線が照射される領域である第２照射領域Ｒ２まで搬送する。第２搬出部３５２は、第２照射領域Ｒ２から被照射物Ｗを搬出し、第２搬出口３５２ａまで搬送する。
【００５２】
向き変更部３７０（図５中、３７０ａ、３７０ｂで示す）は、第２搬送ライン３００ｂに設けられ、プッシャで構成される。具体的に説明すると、第２搬送ライン３００ｂの第２搬入部３５０は、第２照射部コンベア３５０ｂと、第２搬入コンベア３５０ｃとを含んで構成され、第２搬出部３５２は、第２前搬出コンベア３５２ｂと、第２後搬出コンベア３５２ｃとを含んで構成される。第２照射部コンベア３５０ｂは、第２照射領域Ｒ２を通過する第５の通路２０４ｅに設けられ、第２搬入コンベア３５０ｃは、第５の通路２０４ｅよりも搬送方向上流側に設けられ、かつ、第５の通路２０４ｅと水平方向に直交する第６の通路２０４ｆに設けられる。また、第２前搬出コンベア３５２ｂは、第５の通路２０４ｅと水平方向に直交する第７の通路２０４ｇに設けられ、第２後搬出コンベア３５２ｃは、第７の通路２０４ｇよりも搬送方向下流側に設けられ、かつ、第７の通路２０４ｇと水平方向に直交する第８の通路２０４ｈに設けられる。
【００５３】
向き変更部３７０ａは、第２照射部コンベア３５０ｂと第２搬入コンベア３５０ｃとを連続する部分に設けられる。そして、向き変更部３７０ａは、第２搬入コンベア３５０ｃによって第６の通路２０４ｆを通過する被照射物Ｗを図５中Ｙ軸方向に押出して、第５の通路２０４ｅに設けられた第２照射部コンベア３５０ｂに送出する。すなわち、向き変更部３７０ａは、被照射物Ｗにおける、第２搬入コンベア３５０ｃの搬送方向の前面に該当する面と、第２照射部コンベア３５０ｂの搬送方向の前面に該当する面と、を９０度変更する。向き変更部３７０ａによって被照射物Ｗの向きを変更する理由については、後述する。
【００５４】
また、上述した電子線照射ユニット２００ａの第１照射部コンベア３１０ｂの搬送速度Ｖ１と、第１搬入コンベア３１０ｃの搬送速度Ｖ２との関係と同様に、本実施形態では、第２照射部コンベア３５０ｂの搬送速度Ｖ３を、第２搬入コンベア３５０ｃの搬送速度Ｖ４よりも遅くなるように設定し、第２照射領域Ｒ２の直前に設けられた向き変更部３７０ａが、搬送速度Ｖ３に合わせて所定間隔ごとに被照射物Ｗを送出することとする。
【００５５】
また、向き変更部３７０ｂは、第２前搬出コンベア３５２ｂと第２後搬出コンベア３５２ｃとを連続する部分に設けられる。そして、向き変更部３７０ｂは、第２前搬出コンベア３５２ｂによって第７の通路２０４ｇを通過する被照射物Ｗを図５中Ｙ軸方向に押出して、第８の通路２０４ｈに設けられた第２後搬出コンベア３５２ｃに送出する。すなわち、向き変更部３７０ｂは、被照射物Ｗにおける、第２前搬出コンベア３５２ｂの搬送方向の前面に該当する面と、第２後搬出コンベア３５２ｃの搬送方向の前面に該当する面と、を９０度変更する。向き変更部３７０ｂによって被照射物Ｗの向きを変更する理由については、後述する。
【００５６】
図３に戻って、ユニット間搬送部２１０、情報読取部２１２、搬送先切換部２１４について説明する。
【００５７】
ユニット間搬送部２１０は、コンベア等で構成され、第１搬送ライン３００ａの第１搬出部３１２における第１搬出口３１２ａよる搬送方向上流から第２搬送ライン３００ｂの第２搬入部３５０に被照射物Ｗを送出する。
【００５８】
情報読取部２１２は、ユニット間搬送部２１０の上流近傍に設置され、第１照射領域Ｒ１の通過回数を被照射物Ｗごとに識別する識別情報を読み取る。具体的に説明すると、電子線照射システム２００に搬入する前に、被照射物Ｗに、被照射物Ｗをそれぞれ識別するバーコード等の識別子を付しておく。情報読取部２１２は、第１搬出部３１２によって第１照射領域Ｒ１から搬出された被照射物Ｗの識別子を読み取り、保持しておく。そして、情報読取部２１２は、同一の識別子を読み取った回数を計数することで、被照射物Ｗごとの第１照射領域Ｒ１の通過回数を計数する。
【００５９】
搬送先切換部２１４は、情報読取部２１２の読み取り結果に応じて、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、第１搬出口３１２ａ、再搬送部３３０、ユニット間搬送部２１０のうちのいずれかに切り換える。
【００６０】
図６は、搬送先切換部２１４の一例を説明するための説明図である。図６に示すように、搬送先切換部２１４は、プッシャ２１４ａと、ストッパ２１４ｂと、経路分岐装置２１４ｃと、を含んで構成される。
【００６１】
プッシャ２１４ａおよびストッパ２１４ｂは、ともに、通常、搬送される被照射物Ｗの移動軌跡上から退避した位置にある。プッシャ２１４ａは、第１後搬出コンベア３１２ｃとユニット間搬送部２１０とを連続する部分に設けられ、駆動制御されると、被照射物Ｗの移動軌跡上に進入し、第１後搬出コンベア３１２ｃによって搬送された被照射物Ｗを図４中Ｙ軸方向に押出して、ユニット間搬送部２１０に送出する。ストッパ２１４ｂは、駆動制御されると、被照射物Ｗの移動軌跡上に進入して、被照射物Ｗの搬送方向（第１後搬出コンベア３１２ｃの搬送方向）前面に接触する。
【００６２】
例えば、搬送先切換部２１４が、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、ユニット間搬送部２１０に切り換える場合、まず、ストッパ２１４ｂが駆動制御され、第１搬出部３１２（第１後搬出コンベア３１２ｃ）によって搬送された被照射物Ｗを停止させる。そして、プッシャ２１４ａが図６中Ｙ軸方向に被照射物Ｗを押出することで、被照射物Ｗをユニット間搬送部２１０に送出する。こうすることで、搬送先切換部２１４は、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、ユニット間搬送部２１０に切り換える。
【００６３】
また、搬送先切換部２１４が、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、再搬送部３３０に切り換える場合、プッシャ２１４ａおよびストッパ２１４ｂは、搬送される被照射物Ｗの移動軌跡上から退避した位置に配される。そして、図６（ａ）から図６（ｂ）に示すように、経路分岐装置２１４ｃが、被照射物Ｗの搬送先を、第１搬出部３１２から第１搬出口３１２ａへ続く経路３１２ｄから再搬送部３３０に切り換える。例えば、経路３１２ｄと再搬送部３３０とを鉛直上下方向に２段構成としておき、経路分岐装置２１４ｃが、経路３１２ｄと再搬送部３３０とを鉛直方向に移動させることによって、経路３１２ｄまたは再搬送部３３０の鉛直方向の高さを第１後搬出コンベア３１２ｃと実質的に等しくすることで搬送先を切り換える。
【００６４】
さらに、搬送先切換部２１４が、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、第１搬出口３１２ａに切り換える場合、プッシャ２１４ａおよびストッパ２１４ｂを駆動せず、図６（ｂ）から図６（ａ）に示すように、再搬送部３３０から、第１後搬出コンベア３１２ｃ（第１搬出部３１２）から第１搬出口３１２ａへ続く経路３１２ｄに切り換える。
【００６５】
続いて、電子線照射システム２００による被照射物Ｗへの片面照射および両面照射をする際の搬送先切換部２１４による搬出先の切り換えについて説明する。
【００６６】
（片面照射）
被照射物Ｗの密度が低く、電子線照射装置１００による１回の電子線照射で、十分に被照射物Ｗの内部まで電子線を照射することができる場合、被照射物Ｗの片面に対して電子線を照射（片面照射）すれば足りる。
【００６７】
図７は、片面照射の場合の被照射物Ｗの搬送の流れを説明するための説明図である。図７に示すように、片面照射の場合、搬送先切換部２１４は、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、第１搬出口３１２ａに切り換える。そして、電子線照射ユニット２００ａにおいて、第１搬入部３１０が第１搬入口３１０ａから被照射物Ｗを搬入すると、図７中、白抜き矢印で示すように、第１搬入部３１０によって第１照射領域Ｒ１まで搬送され、第１照射領域Ｒ１において第１電子線照射装置１００ａによって電子線が照射され、その後、第１搬出部３１２によって第１搬出口３１２ａまで搬送される。
【００６８】
また、電子線照射ユニット２００ｂにおいて、第２搬入部３５０が第２搬入口３５０ａから被照射物Ｗを搬入すると、図７中、黒い塗りつぶしの矢印で示すように、第２搬入部３５０によって第２照射領域Ｒ２まで搬送され、第２照射領域Ｒ２において第２電子線照射装置１００ｂによって電子線が照射され、その後、第２搬出部３５２によって第２搬出口３５２ａまで搬送される。
【００６９】
（両面照射１）
一方、被照射物Ｗの密度が高く、電子線照射装置１００による１回の電子線照射では、十分に被照射物Ｗの内部まで電子線を照射することができない場合、被照射物Ｗの両面に対して電子線を照射（両面照射）する必要がある。
【００７０】
図８は、電子線照射ユニット２００ａおよび電子線照射ユニット２００ｂを利用して両面照射をする場合の被照射物Ｗの搬送の流れを説明するための説明図である。図８に示すように、電子線照射ユニット２００ａおよび電子線照射ユニット２００ｂを利用して両面照射をする場合、電子線照射ユニット２００ａにおいて、第１搬入部３１０が第１搬入口３１０ａから被照射物Ｗを搬入すると、図８中、白抜き矢印で示すように、第１搬入部３１０によって第１照射領域Ｒ１まで搬送される。
【００７１】
ここで、第１搬入部３１０によって搬入された被照射物Ｗは、向き変更部３２０ａによって図８中Ｘ軸方向からＹ軸方向に押出されるので、第１照射領域Ｒ１において、被照射物Ｗに電子線が照射される面（照射面）は、図８（ａ）に示す、搬送方向の前面に該当する面となる。
【００７２】
そして、片面に電子線が照射された被照射物Ｗ（（図８（ｂ）参照：照射された面を黒い塗り潰しで示す））は、向き変更部３２０ｂによって図８中Ｙ軸方向からＸ軸方向に押出されるので、向き変更部３２０ｂの下流の被照射物Ｗにおける搬送方向の前面は、被照射物Ｗの電子線が照射された面と対向する面（水平方向に１８０度異なる面）となる（図８（ｃ）参照）。
【００７３】
続いて、情報読取部２１２は、被照射物Ｗごとの識別子を読み取った回数を計数する。ここでは、片面に電子線が照射された被照射物Ｗに関する識別子を読み取った回数が１であるため、被照射物Ｗに再度電子線を照射すべく、搬送先切換部２１４は、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、ユニット間搬送部２１０に切り換える。
【００７４】
ここで、搬送先切換部２１４を構成するプッシャ２１４ａが図８中Ｘ軸方向からＹ軸方向に被照射物Ｗを押出してユニット間搬送部２１０に送出するので、ユニット間搬送部２１０における搬送方向の前面は、第１照射領域Ｒ１における照射面と直交する面となる（図８（ｄ）参照）。
【００７５】
そして、ユニット間搬送部２１０から第２搬入部３５０に被照射物Ｗが送出されると、第２搬入部３５０における被照射物Ｗの搬送方向の前面は、第１照射領域Ｒ１における照射面となる（図８（ｅ）参照）。
【００７６】
続いて、第２搬入部３５０によって搬入された被照射物Ｗは、向き変更部３７０ａによって図８中Ｘ軸方向からＹ軸方向に押出されるので、第２照射領域Ｒ２における照射面は、図８（ｆ）に示すように、第１照射領域Ｒ１の照射面と対向する面となる。したがって、ユニット間搬送部２１０を経由して、第１照射領域Ｒ１および第２照射領域Ｒ２において２回電子線を照射された被照射物Ｗは、被照射物Ｗにおける１８０度異なる２面から電子線が照射されたことになる（図８（ｇ）参照）。
【００７７】
以上説明した両面照射１では、電子線照射ユニット２００ａおよび電子線照射ユニット２００ｂを利用して被照射物Ｗの両面から電子線を照射しているが、電子線照射ユニット２００ｂがメンテナンス等で利用できない場合がある。この場合には、電子線照射ユニット２００ａのみで両面照射を行うことが可能である。
【００７８】
（両面照射２）
図９は、電子線照射ユニット２００ａのみを利用して両面照射をする場合の被照射物Ｗの搬送の流れを説明するための説明図である。ここでは、例えば、メンテナンス等で電子線照射ユニット２００ｂを利用できない場合を例に挙げて説明する。図９に示すように、電子線照射ユニット２００ａのみを利用して両面照射をする場合、電子線照射ユニット２００ａにおいて、第１搬入部３１０が第１搬入口３１０ａから被照射物Ｗを搬入すると、図９中、白抜き矢印で示すように、第１搬入部３１０によって第１照射領域Ｒ１まで搬送される。
【００７９】
ここで、第１搬入部３１０によって搬入された被照射物Ｗは、向き変更部３２０ａによって図９中Ｘ軸方向からＹ軸方向に押出されるので、第１照射領域Ｒ１において、被照射物Ｗに電子線が照射される面は、図９（ａ）に示す、搬送方向の前面に該当する面となる。
【００８０】
そして、片面に電子線が照射された被照射物Ｗ（（図９（ｂ）参照：照射された面を黒い塗り潰しで示す））は、向き変更部３２０ｂによって図９中Ｙ軸方向からＸ軸方向に押出されるので、向き変更部３２０ｂの下流の被照射物Ｗにおける搬送方向の前面は、被照射物Ｗに電子線がすでに照射された面と対向する面（水平面上で１８０度異なる面）となる（図９（ｃ）参照）。
【００８１】
続いて、情報読取部２１２は、被照射物Ｗごとの識別子を読み取った回数を計数する。ここでは、片面に電子線が照射された被照射物Ｗに関する識別子を読み取った回数が１であるため、被照射物Ｗに再度電子線を照射すべく、搬送先切換部２１４は、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、再搬送部３３０に切り換える。
【００８２】
そして、再搬送部３３０を経由して搬送された被照射物Ｗ（図９（ｄ）参照）は、向き変更部３２０ａによって図９中Ｘ軸方向からＹ軸方向に押出されるので、第１照射領域Ｒ１において、被照射物Ｗに再度電子線が照射される面（図９（ｅ）参照）は、図９（ｃ）、（ｄ）に示す、搬送方向の前面に該当する面となる。したがって、再搬送部３３０を経由して、第１照射領域Ｒ１において２回電子線を照射された被照射物Ｗは、被照射物Ｗにおける１８０度異なる２面から電子線が照射されたことになる（図９（ｆ）参照）。
【００８３】
このように、向き変更部３２０を設けて被照射物Ｗの向きを変える構成により、搬送先切換部２１４が第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を再搬送部３３０に切り換えている間、再搬送部３３０から第１搬入部３１０に搬送された被照射物Ｗの電子線の照射面を、第１搬入口３１０ａから第１搬入部３１０に搬送された場合の照射面と異ならせることができる。
【００８４】
そして、両面に電子線が照射された被照射物Ｗ（（図９（ｆ）参照）が第１搬出部３１２によって搬送されると、情報読取部２１２は、両面に電子線が照射された被照射物Ｗの識別子を再度読み取ることになる。ここでは、情報読取部２１２が、両面に電子線が照射された被照射物Ｗの識別子を読み取った回数は２となるため、被照射物Ｗを外部に搬出すべく、搬送先切換部２１４は、第１照射領域Ｒ１を２回通過した被照射物Ｗの搬送先を、第１搬出口３１２ａに切り換える。これにより、被照射物Ｗは、第１搬出口３１２ａから搬出される（図９中、黒い塗りつぶしの矢印で示す）。
【００８５】
このように、１つの電子線照射ユニット２００ａを利用した場合であっても、被照射物Ｗの両面から確実に電子線を照射することが可能となる。なお、ここでは、電子線照射ユニット２００ｂがメンテナンス等で利用できない場合を例に挙げて説明したが、電子線照射ユニット２００ａにおいて両面照射を行っているときに、電子線照射ユニット２００ｂにおいて片面照射をすることもできる。
【００８６】
以上説明したように、本実施形態にかかる電子線照射システム２００によれば、搬送先切換部２１４が第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬出先を第１搬出口３１２ａとユニット間搬送部２１０とで切り換える構成により、２台の電子線照射装置１００ａ、１００ｂのうちいずれか一方を待機状態にしたり、停止したりすることなく、片面照射と両面照射とを瞬時に切り換えることができる。したがって、電子線照射装置１００ａ、１００ｂの稼働率を向上することが可能となる。
【００８７】
また、両面照射を所望する際に、２台の電子線照射装置１００ａ、１００ｂのうち、例えば電子線照射装置１００ｂに故障等が生じてメンテナンスする場合であっても、電子線照射ユニット２００ａと電子線照射ユニット２００ｂとがそれぞれ独立しており、かつ、向き変更部３２０と、再搬送部３３０とを備えているため、電子線照射装置１００ａのみで両面照射を行うことができる。
【００８８】
さらに、両面照射をするための、被照射物Ｗの水平面内での回転を、直交するコンベアによって為しているので、被照射物Ｗを回転する特別な機構を別途設ける必要がない。また、搬送先切換部２１４および向き変更部３２０、３７０を備えるだけで、片面照射や、２つの電子線照射システム２００を利用した両面照射、１つの電子線照射システム２００のみで遂行する両面照射を全て行うことができるため、搬送ラインを纏めることができ、設備全体の占有面積を低減したり、設備にかかるコストを低減することが可能となる。
【００８９】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００９０】
例えば、上述した実施形態で説明した、向き変更部３２０、３７０の数や設置位置、搬送先切換部２１４の構成は、電子線照射システム２００の一例である。したがって、搬送先切換部２１４が、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物の搬送先を再搬送部３３０に切り換えたとき（電子線照射ユニット２００ａのみを利用して両面照射を行う場合）、再搬送部３３０から第１搬入部３１０に搬送された被照射物Ｗの第１照射領域Ｒ１における照射面が、第１搬入口３１０ａから第１搬入部３１０に搬送された場合の第１照射領域Ｒ１における照射面と異なれば、向き変更部３２０、３７０の数や設置位置、搬送先切換部２１４の構成はどのようなものであってもよい。また、搬送先切換部２１４が、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先をユニット間搬送部２１０に切り換えたとき（電子線照射ユニット２００ａおよび電子線照射ユニット２００ｂを利用して両面照射を行う場合）、第１照射領域Ｒ１における照射面と、第２照射領域Ｒ２における照射面とが異なれば、向き変更部３２０、３７０の数や設置位置、搬送先切換部２１４の構成はどのようなものであってもよい。
【００９１】
また、上述した実施形態では、第１搬送ライン３００ａに２つの向き変更部３２０（３２０ａ、３２０ｂ）を設置することで、被照射物Ｗにおける、水平方向に対向する２面（１８０度異なる面）に電子線を照射する場合を例に挙げて説明した。しかし、向き変更部３２０を第１搬送ライン３００ａに少なくとも１つ設けておけば、再搬送部３３０から第１搬入部３１０に搬送された被照射物Ｗの第１照射領域Ｒ１における照射面と、第１搬入口３１０ａから第１搬入部３１０に搬送された場合の、被照射物Ｗの第１照射領域Ｒ１における照射面とを異ならせることができ、また、第１照射領域Ｒ１における照射面と、第２照射領域Ｒ２における照射面とを異ならせることができる。したがって、被照射物Ｗにおける密度が均一でない場合において、被向き変更部３２０を第１搬送ライン３００ａに少なくとも１つ設けておけば、被照射物Ｗの内部に電子線を到達させることも可能である。
【００９２】
さらに、上述した実施形態では、電子線照射ユニット２００ａが再搬送部３３０を備えることで、電子線照射ユニット２００ａのみで被照射物Ｗの両面から電子線を照射することができる場合を例に挙げて説明したが、電子線照射ユニット２００ｂが、第２照射領域Ｒ２を通過した被照射物Ｗを第２搬出部３５２から第２搬入部３５０へと送出する再搬送部を備えることもできる。こうすることで、電子線照射ユニット２００ａのみでも、電子線照射ユニット２００ｂのみでも、片面照射および両面照射を遂行することが可能となる。さらにこのとき、第２照射領域Ｒ２を通過した被照射物Ｗを第２搬出部３５２から第１搬入部３１０に送出するユニット間搬送部を設け、両ユニット２００ａ、２００ｂ間で被照射物Ｗを往来可能にすることも可能である。
【００９３】
また、上述した実施形態では、被照射物Ｗに予め識別子を付しているが、例えば被照射物Ｗをトレーに載置して搬送する形態の場合、予めトレーに識別子を付しておいてもよい。この場合、情報読取部２１２は、トレーに付された識別子を読み取り、その結果に応じてトレーごと被照射物Ｗの搬送先を切り換えるとよい。
【００９４】
さらに、上述した実施形態において、情報読取部２１２は、両面照射２において、被照射物Ｗに関する第１照射領域Ｒ１の通過回数を検出し、１回であったら、搬送先切換部２１４が搬送先を再搬送部３３０に切り換え、２回であったら第１搬出口３１２ａに切り換える場合を例に挙げて説明した。しかし、これに限定されず、例えば、被照射物Ｗの種類（密度）に応じて、片面照射で十分なことを示す識別子と、両面照射が必要なことを示す識別子とを予め付しておき、情報読取部２１２が読み取った識別子が、片面照射で十分なことを示す識別子である場合、搬送先切換部２１４は、搬送先を第１搬出口３１２ａに切り換え、両面照射が必要なことを示す識別子である場合、搬送先切換部２１４は、搬送先を再搬送部３３０に切り換えてもよい。この場合、種類の異なる被照射物Ｗを搬入しても、適切に片面照射および両面照射を遂行することが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明は、被照射物に電子線を照射する電子線照射システムに利用することができる。
【符号の説明】
【００９６】
Ｒ１ …第１照射領域
Ｒ２ …第２照射領域
１００ａ …第１電子線照射装置
１００ｂ …第２電子線照射装置
２００ …電子線照射システム
２００ａ …電子線照射ユニット
２００ｂ …電子線照射ユニット
２０４ａ …第１の通路
２０４ｂ …第２の通路
２１０ …ユニット間搬送部
２１２ …情報読取部
２１４ …搬送先切換部
２１４ａ …プッシャ
３００ａ …第１搬送ライン
３００ｂ …第２搬送ライン
３１０ …第１搬入部
３１０ａ …第１搬入口
３１２ …第１搬出部
３１２ａ …第１搬出口
３２０、３７０ …向き変更部
３３０ …再搬送部
３５０ …第２搬入部
３５０ａ …第２搬入口
３５２ …第２搬出部
３５２ａ …第２搬出口
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被照射物に電子線を照射する電子線照射システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、医療器具や食品等の滅菌、樹脂の架橋や硬化、悪性腫瘍等の病巣の除去等、様々な分野で利用されている電子線照射装置（例えば、特許文献１、２）が知られている。このような電子線照射装置は、カソード電極と加速器を備えており、カソード電極に電力を供給することでカソード電極から電子線を放出し、その電子線を加速器で加速して被照射物に照射する。電子線照射装置を利用して被照射物に電子線を照射する場合、被照射物は、コンベア等の搬送装置で、被照射物に電子線が照射される領域（照射領域）に、連続的に搬送されることが多い。
【０００３】
そして、被照射物に電子線が照射される照射領域において電子線が被照射物等に衝突すると、Ｘ線等の放射線が発生するため放射線が外部に漏洩しないように、遮蔽壁で電子線照射装置が包囲されている。ここで遮蔽壁は、発生した放射線を十分に遮蔽できる程度の厚みを有するコンクリートや金属（鉛やステンレス）等で構成されている。また、遮蔽壁は、電子線照射装置を取り囲むとともに、建屋としての機能も有している。
【０００４】
ここで、例えば、電子線照射装置を利用して高密度の被照射物に電子線を照射する場合、低密度の被照射物に照射する場合よりも高エネルギーの電子線を照射することで、被照射物の内部まで電子線を到達させることができる。しかし、電子線のエネルギーを高くすると、発生する放射線の線量も多くなってしまう。したがって、遮蔽壁の厚みを、より厚くしなければならず、建屋全体の設置面積が大きくなってしまい、電子線照射装置を設置する場所が制限されてしまっていた。また、第１種放射線取扱主任者等の特別な資格を有する人員を配置する必要もある。
【０００５】
そこで、図１０に示すように、１つの建屋内に配された１台のコンベア１２の両側に、電子線の照射方向が互いに対向するように２台の電子線照射装置１０（図１０中、１０ａ、１０ｂで示す）を配しておき、コンベア１２によって搬送される被照射物Ｗの両面から電子線を照射することで、低エネルギーの電子線であっても、高密度の被照射物Ｗの内部まで電子線を到達させることができる技術が開示されている（例えば、特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−３４９９９８号公報
【特許文献２】特開２００３−１３９８９８号公報
【特許文献３】特開２００３−２１５３００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上述した特許文献３の技術では、２台の電子線照射装置１０のうち、一方の電子線照射装置１０に故障等が生じてメンテナンスする際に、ライン全体を停止させなければならず、その間、滅菌処理等を施すことができなくなってしまう。
【０００８】
また、被照射物によっては片面からの照射で十分な場合もあるが、こうした被照射物が搬送される場合には、いずれかの電子線照射装置が待機状態となり、装置の稼働率が低下してしまう。しかも、電子線照射装置は、待機状態であっても、真空状態を維持する等の処理が必要であるため、その間、エネルギー損失が生じる。また、長時間にわたって片面からの照射を行う場合には、一方の電子線照射装置の稼働を完全に停止させることも可能であるが、電子線照射装置は、一度稼働を停止させると、再稼働する際にエージングを行わなければならず、エージングのための様々なコストがかかってしまい、さらには、定格稼働に至るまでに長時間を要してしまう。
【０００９】
そこで本発明は、このような課題に鑑み、２台の電子線照射装置を備えた電子線照射システムにおいて、装置の稼働率を向上することが可能な電子線照射システムを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の電子線照射システムは、水平方向に電子線を照射する第１電子線照射装置と、第１搬入口から第１電子線照射装置によって電子線が照射される第１照射領域まで被照射物を搬送する第１搬入部、および、第１照射領域から第１搬出口まで被照射物を搬送する第１搬出部を有する第１搬送ラインと、水平方向に電子線を照射する第２電子線照射装置と、第２搬入口から第２電子線照射装置によって電子線が照射される第２照射領域まで被照射物を搬送する第２搬入部、および、第２照射領域から第２搬出口まで被照射物を搬送する第２搬出部を有する第２搬送ラインと、第１搬出部における第１搬出口より搬送方向上流から第２搬送ラインの第２搬入部に被照射物を送出するユニット間搬送部と、第１照射領域を通過した被照射物の搬送先を、第１搬出口およびユニット間搬送部のいずれか一方に切り換える搬送先切換部と、を備え、搬送先切換部が第１照射領域を通過した被照射物の搬送先をユニット間搬送部に切り換えている間、第１照射領域を通過するときの被照射物における照射面と、第２照射領域を通過するときの被照射物における照射面と、を異ならせることを特徴とする。
【００１１】
第１搬送ラインおよび第２搬送ラインのいずれか一方または両方の搬送ラインに設置され、搬送ラインによって被照射物が搬送される照射領域を通過した被照射物を、当該搬送ラインの搬出部から搬入部へと送出するとともに、搬送先切換部によって切り換え選択可能な再搬送部と、再搬送部が設置される搬送ラインに少なくとも１つ設けられ、搬送先切換部が照射領域を通過した被照射物の搬送先を再搬送部に切り換えたとき、再搬送部から搬入部に搬送された被照射物の照射面が、搬入口から搬入部に搬送された場合の照射領域における被照射物の照射面と異なるように被照射物の向きを変える向き変更部と、を備えてもよい。
【００１２】
再搬送部および向き変更部は、第１搬送ラインに設置されてもよい。
【００１３】
第１搬入口から第１搬入部に搬送された場合の第１照射領域における被照射物の照射面は、再搬送部から第１搬入部に搬送された場合の第１照射領域における被照射物の照射面、および、ユニット間搬送部を介して第２搬入部に搬送された場合の第２照射領域における被照射物の照射面と、水平面上で１８０度異なってもよい。
【００１４】
第１搬入部は、第１照射領域を通過する第１の通路と、第１の通路よりも搬送方向上流側に設けられ、かつ、第１の通路と水平方向に直交する第２の通路と、を経由して、第１搬入口から第１照射領域まで被照射物を搬入し、向き変更部は、第２の通路を通過する被照射物を第１の通路に押出するプッシャを含んで構成されてもよい。
【００１５】
第１照射領域の通過回数を被照射物ごとに識別する識別情報を読み取る情報読取部を備え、搬送先切換部は、情報読取部の読み取り結果に応じて搬送先を切り換えてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、装置の稼働率を向上することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】電子線照射装置を説明するための説明図である。
【図２】電子線の照射線量と浸透深さを説明するための説明図である。
【図３】電子線照射システムを説明するための説明図である。
【図４】電子線照射ユニットを説明するための説明図である。
【図５】電子線照射ユニットを説明するための説明図である。
【図６】搬送先切換部の一例を説明するための説明図である。
【図７】片面照射の場合の被照射物の搬送の流れを説明するための説明図である。
【図８】電子線照射ユニットおよび電子線照射ユニットを利用して両面照射をする場合の被照射物の搬送の流れを説明するための説明図である。
【図９】電子線照射ユニットのみを利用して両面照射をする場合の被照射物の搬送の流れを説明するための説明図である。
【図１０】従来の電子線照射システムを説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。
【００１９】
本実施形態の電子線照射システムは、２つの電子線照射ユニット（１台の電子線照射装置と、電子線照射装置が電子線を照射する領域である照射領域に被照射物を搬送する搬送ラインを含んで構成されるユニット）を含んで構成される。ここでは、まず電子線照射装置の構成を説明した後、電子線照射システムについて説明する。
【００２０】
（電子線照射装置１００）
図１は、電子線照射装置１００を説明するための説明図である。図１に示すように、電子線照射装置１００は、カソード電源１０４と、電子銃１１０と、高周波ユニット１１２と、導波管１１４と、プリバンチャ１１６と、加速器１１８と、スキャンホーン１２０とを備えて構成されている。なお、電子銃１１０、プリバンチャ１１６、加速器１１８、スキャンホーン１２０は、内部空間（真空室）が連続しており、この内部空間は、イオンポンプ等の真空ポンプ１０２で高真空状態から超高真空状態（例えば、１０Ｅ−５Ｐａ以下）に維持される。
【００２１】
電子線照射装置１００において、電子銃１１０から放出された熱電子は、プリバンチャ１１６、加速器１１８で加速され、スキャンホーン１２０を通過し、搬送ライン３００で搬送される被照射物Ｗに向かって、水平方向（図１中Ｘ軸方向）に照射される。以下、電子線照射装置１００の各機能部について詳述する。
【００２２】
（電子銃１１０）
電子銃１１０は、例えば、三極管電子銃であり、カソード電源（交流電源）１０４から供給された電力によってカソード電極を加熱し、パルス状に印加された高電圧のグリッド電圧（引出電圧）により、電子線を放出する。
【００２３】
（高周波ユニット１１２、導波管１１４）
高周波ユニット１１２は、クライストロン等で構成される高周波増幅器１１２ａと、高周波増幅器１１２ａに電力を供給する高周波電源（電力供給部）１１２ｂとを含んで構成され、導波管１１４を通じてプリバンチャ１１６および加速器１１８に、例えばＳバンドに相当する３ＧＨｚのパルス状の高周波電力を供給する。導波管１１４は、セラミック等で構成されたＲＦ窓１１４ａ、１１４ｂを通じて、高周波増幅器１１２ａから増幅されて供給される高周波の電圧を加速器１１８に供給する。導波管１１４におけるＲＦ窓１１４ａとＲＦ窓１１４ｂの間には、六フッ化硫黄（ＳＦ６）等の絶縁ガスが充填されており、高周波増幅器１１２ａで増幅されて出力された電圧によって導波管１１４が放電してしまう事態を回避する。なおＲＦ窓１１４ａ、１１４ｂはＳＦ６と真空とを隔てる境界の役割を果たす。
【００２４】
（プリバンチャ１１６）
プリバンチャ１１６は、電子銃１１０と加速器１１８の間に設けられ、導波管１１４を通じて高周波ユニット１１２に接続されている。プリバンチャ１１６は、電子銃１１０から入射された電子線をバンチング（密度圧縮（速度変調））して、加速器１１８に送出する。具体的に説明すると、プリバンチャ１１６内は、高周波増幅器１１２ａから供給された高周波の電圧によって高周波電界が形成されており、プリバンチャ１１６を通過した電子線は、バンチングされて加速器１１８に入射する。プリバンチャ１１６で電子線をバンチングすることにより、加速器１１８で加速された電子線のエネルギーの分散を小さくすることができ、電子線のエネルギーの均一性を向上させることが可能となる。
【００２５】
ここで、プリバンチャ１１６によって圧縮された電子線の加速器１１８への入射タイミングが、加速器１１８における高周波の正位相と同期したときのみ、電子線は加速器１１８で効率よく加速される。したがって、プリバンチャ１１６から加速器１１８への電子線の入射タイミングを調整するために、プリバンチャ１１６の高周波導入部１１６ａには、不図示の位相調整手段が設けられている。また、電子線の圧縮率（バンチングされた電子線の長さ）も加速器１１８による加速効率に影響するため、すなわち、電子線の長さが短い程、加速効率が向上する。したがって、供給する高周波の強度を調整して電子線の長さを調整するために、プリバンチャ１１６の高周波導入部１１６ａには、不図示の減衰（アッテネータ）手段が設けられている。
【００２６】
（加速器１１８）
加速器１１８は、ステンレス（例えばＳＵＳ）等で形成され、内部に複数の加速空間を有して構成される。高周波増幅器１１２ａから高周波の電圧（例えば、３ＧＨｚ）が供給されると、加速器１１８の複数の加速空間が空間共振器として機能し、空間共振器内に時間的に変化する電界が生じる。そして、この時間的に変化する電界で、プリバンチャ１１６によって圧縮された電子線を加速する。
【００２７】
ここで、電子線の速度と加速空間における正に帯電する（正位相になる）タイミングが同期するように、高周波増幅器１１２ａから供給される電圧の周波数と、加速空間の距離が設計されているため、電子線は加速器１１８内で徐々に加速され、最終的には、例えば１０ＭｅＶ程度まで加速されて、スキャンホーン１２０に入射される。
【００２８】
なお、ここでは、加速器１１８として、定在波型の線形（リニアック）加速器を採用しているが、電子を加速できればよく、進行波型の線形加速器や、シンクロトロン、サイクロトロン等の円形加速器を採用することもできる。
【００２９】
（スキャンホーン１２０）
スキャンホーン１２０は、ステンレス（例えばＳＵＳ）等で形成され、その内部空間が加速器１１８と連結され、加速器１１８の出口付近に設けられたスキャン電磁石１２２と、加速器１１８と連結する端部と対向する端部に設けられた電子線取出部１２４とを含んで構成される。
【００３０】
スキャン電磁石１２２は、加速器１１８から入射された電子線を鉛直方向（図１中Ｚ軸方向）に走査（スキャン）する。電子線の進行方向は水平方向（図１中Ｘ軸方向）であるため、スキャン電磁石１２２が水平方向に進行する電子線を鉛直方向に走査することにより、鉛直方向に高さのある被照射物Ｗ全体に確実に電子線を照射することができる。
【００３１】
電子線取出部１２４は、例えば、５０μｍ程度の厚みのチタン（Ｔｉ）箔で構成され、内部空間と、大気とを隔てる境界の役割を果たす。そして、電子線取出部１２４から大気雰囲気に放出された電子線は、照射領域Ｒにおいて被照射物Ｗに照射される。
【００３２】
こうして、電子銃１１０で放出された電子線は、加速器１１８で加速されて、電子線取出部１２４を通じて、被照射物Ｗに照射される。
【００３３】
ところで、電子線は、Ｘ線やγ線と異なり粒子線であるため、その浸透深さには限界がある。電子線の浸透深さは、加速器１１８による電子線の加速電圧によって決定される。すなわち、電子線は、加速電圧が大きいほどより深くまで浸透（到達）することができる。また、電子線の浸透深さは、被照射物の密度にも影響され、被照射物の密度が小さいほどより深くまで浸透することとなる。
【００３４】
図２は、電子線の照射線量と浸透深さを説明するための説明図である。図２中、縦軸は、被照射物の表面における電子線の照射線量を１００％としたときの浸透した照射線量の割合（％）を示し、横軸は、比重１（水の密度）における電子線の浸透深さ（ｍｍ）を示す。なお、図２における、電子線の照射線量と浸透深さは、三菱重工技報Ｖｏｌ．４０． Ｎｏ．５（２００３）を参考にした。
【００３５】
図２（ａ）に示すように、被照射物Ｗの比重が実質的に１に等しい場合、被照射物Ｗの表面から電子線の照射方向にある程度進むにつれて、浸透する電子線の照射線量は増加するが、それ以降は徐々に減少する。例えば、１０ＭｅＶの電子線を例に挙げて説明すると、被照射物Ｗの表面から３０ｍｍよりも進むと、照射方向に進むにつれて、電子線の到達線量は徐々に減少し、６０ｍｍより進むと電子線の照射線量（到達線量）は０％、すなわち電子線が到達しなくなってしまう。したがって、比重が実質的に１に等しい被照射物Ｗの水平方向の厚みが６０ｍｍ以上である場合、１０ＭｅＶといった高エネルギーの電子線を照射したとしても、電子線が全く照射されない部分が生じてしまい、滅菌を確実に行うことができない。
【００３６】
そこで、被照射物Ｗの両側から１０ＭｅＶの電子線を照射すれば、図２（ｂ）に示すように、被照射物Ｗの水平方向の厚みが６０ｍｍであっても、被照射物Ｗの内部に到達する照射線量を１００％以上にすることができる。
【００３７】
次に、本実施形態の電子線照射システム２００について詳述する。
【００３８】
（電子線照射システム２００）
図３は、電子線照射システム２００を説明するための説明図であり、図１におけるＺ軸方向から電子線照射装置１００を見た場合の電子線照射システム２００の図である。図３に示すように、電子線照射システム２００は、２つの電子線照射ユニット２００ａ、２００ｂと、２つの電子線照射ユニット２００ａ、２００ｂを取り囲むとともに、２つの電子線照射ユニット２００ａ、２００ｂにおいて発生した放射線の外部への漏洩を防止するための遮蔽壁２０２と、２つの電子線照射ユニット２００ａ、２００ｂを接続するユニット間搬送部２１０と、情報読取部２１２と、搬送先切換部２１４とを含んで構成される。
【００３９】
（電子線照射ユニット２００ａ）
図４は、電子線照射ユニット２００ａを説明するための説明図である。図４中理解を容易にするために遮蔽壁２０２を省略する。図４に示すように、電子線照射ユニット２００ａは、電子線照射装置１００ａ（以下、第１電子線照射装置１００ａとする）と、搬送ライン３００ａ（以下、第１搬送ライン３００ａとする）と、向き変更部３２０（図４中、３２０ａ、３２０ｂで示す）と、再搬送部３３０とを含んで構成される。
【００４０】
第１電子線照射装置１００ａは、上述したように水平方向（図４中Ｘ軸方向）に電子線を照射する。
【００４１】
第１搬送ライン３００ａは、コンベア等で構成された、第１搬入部３１０と、第１搬出部３１２とを含んで構成される。第１搬入部３１０は、第１搬入口３１０ａから被照射物Ｗを搬入し、第１電子線照射装置１００ａによって電子線が照射される領域である第１照射領域Ｒ１まで搬送する。第１搬出部３１２は、第１照射領域Ｒ１から被照射物Ｗを搬出し、第１搬出口３１２ａへ被照射物Ｗを搬送する。
【００４２】
向き変更部３２０（図４中、３２０ａ、３２０ｂで示す）は、第１搬送ライン３００ａに設けられ、プッシャで構成される。具体的に説明すると、第１搬送ライン３００ａの第１搬入部３１０は、第１照射部コンベア３１０ｂと、第１搬入コンベア３１０ｃとを含んで構成され、第１搬出部３１２は、第１前搬出コンベア３１２ｂと、第１後搬出コンベア３１２ｃとを含んで構成される。第１照射部コンベア３１０ｂは、第１照射領域Ｒ１を通過する第１の通路２０４ａに設けられ、第１搬入コンベア３１０ｃは、第１の通路２０４ａよりも搬送方向上流側に設けられ、かつ、第１の通路２０４ａと水平方向に直交する第２の通路２０４ｂに設けられる。また、第１前搬出コンベア３１２ｂは、第１の通路２０４ａと平行に配された第３の通路２０４ｃに設けられ、第１後搬出コンベア３１２ｃは、第３の通路２０４ｃよりも搬送方向下流側に設けられ、かつ、第３の通路２０４ｃと水平方向に直交する第４の通路２０４ｄに設けられる。
【００４３】
向き変更部３２０ａは、第１照射部コンベア３１０ｂと第１搬入コンベア３１０ｃとを連続する部分に設けられる。そして、向き変更部３２０ａは、第１搬入コンベア３１０ｃによって第２の通路２０４ｂを通過する被照射物Ｗを図４中Ｙ軸方向に押出して、第１の通路２０４ａに設けられた第１照射部コンベア３１０ｂに送出する。すなわち、向き変更部３２０ａは、被照射物Ｗにおける、第１搬入コンベア３１０ｃの搬送方向の前面に該当する面と、第１照射部コンベア３１０ｂの搬送方向の前面に該当する面と、を９０度変更する。向き変更部３２０ａによって被照射物Ｗの向きを変更する理由については、後述する。
【００４４】
ここで、第１照射部コンベア３１０ｂにおいて、被照射物Ｗが、前後の被照射物Ｗと一定間隔、離隔されて搬送されると、被照射物Ｗと被照射物Ｗとの間は、被照射物Ｗに電子線が照射されず、第１照射部コンベア３１０ｂに電子線が照射されることとなり、電子線が無駄に消費されてしまう。
【００４５】
そこで、本実施形態では、第１照射部コンベア３１０ｂの搬送速度Ｖ１を、第１搬入コンベア３１０ｃの搬送速度Ｖ２よりも遅くなるように設定し、第１照射領域Ｒ１の直前に設けられた向き変更部３２０ａが、搬送速度Ｖ１に合わせて所定間隔ごとに被照射物Ｗを送出することとする。
【００４６】
これにより、第１照射部コンベア３１０ｂにおいて、被照射物Ｗを密接して搬送することができる。したがって、電子線が無駄に消費されてしまう事態を回避することが可能となる。
【００４７】
また、向き変更部３２０ｂは、第１前搬出コンベア３１２ｂと第１後搬出コンベア３１２ｃとを連続する部分に設けられる。そして、向き変更部３２０ｂは、第１前搬出コンベア３１２ｂによって第３の通路２０４ｃを通過する被照射物Ｗを図４中Ｘ軸方向に押出して、第４の通路２０４ｄに設けられた第１後搬出コンベア３１２ｃに送出する。すなわち、向き変更部３２０ｂは、被照射物Ｗにおける、第１前搬出コンベア３１２ｂの搬送方向の前面に該当する面と、第１後搬出コンベア３１２ｃの搬送方向の前面に該当する面と、を９０度変更する。向き変更部３２０ｂによって被照射物Ｗの向きを変更する理由については、後述する。
【００４８】
再搬送部３３０は、コンベア等で構成され、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗを第１搬出部３１２から第１搬入部３１０へと送出する。再搬送部３３０による、第１搬出部３１２から第１搬入部３１０への送出については後に詳述する。
【００４９】
（電子線照射ユニット２００ｂ）
図５は、電子線照射ユニット２００ｂを説明するための説明図である。図５中理解を容易にするために遮蔽壁２０２を省略する。図５に示すように、電子線照射ユニット２００ｂは、電子線照射装置１００ｂ（以下、第２電子線照射装置１００ｂとする）と、搬送ライン３００ｂ（以下、第２搬送ライン３００ｂとする）と、向き変更部３７０（図５中、３７０ａ、３７０ｂで示す）とを含んで構成される。
【００５０】
第２電子線照射装置１００ｂは、上述したように水平方向（図５中Ｘ軸方向）に電子線を照射する。
【００５１】
第２搬送ライン３００ｂは、コンベア等で構成された第２搬入部３５０、第２搬出部３５２を含んで構成される。第２搬入部３５０は、第２搬入口３５０ａから被照射物Ｗを搬入し、第２電子線照射装置１００ｂによって電子線が照射される領域である第２照射領域Ｒ２まで搬送する。第２搬出部３５２は、第２照射領域Ｒ２から被照射物Ｗを搬出し、第２搬出口３５２ａまで搬送する。
【００５２】
向き変更部３７０（図５中、３７０ａ、３７０ｂで示す）は、第２搬送ライン３００ｂに設けられ、プッシャで構成される。具体的に説明すると、第２搬送ライン３００ｂの第２搬入部３５０は、第２照射部コンベア３５０ｂと、第２搬入コンベア３５０ｃとを含んで構成され、第２搬出部３５２は、第２前搬出コンベア３５２ｂと、第２後搬出コンベア３５２ｃとを含んで構成される。第２照射部コンベア３５０ｂは、第２照射領域Ｒ２を通過する第５の通路２０４ｅに設けられ、第２搬入コンベア３５０ｃは、第５の通路２０４ｅよりも搬送方向上流側に設けられ、かつ、第５の通路２０４ｅと水平方向に直交する第６の通路２０４ｆに設けられる。また、第２前搬出コンベア３５２ｂは、第５の通路２０４ｅと水平方向に直交する第７の通路２０４ｇに設けられ、第２後搬出コンベア３５２ｃは、第７の通路２０４ｇよりも搬送方向下流側に設けられ、かつ、第７の通路２０４ｇと水平方向に直交する第８の通路２０４ｈに設けられる。
【００５３】
向き変更部３７０ａは、第２照射部コンベア３５０ｂと第２搬入コンベア３５０ｃとを連続する部分に設けられる。そして、向き変更部３７０ａは、第２搬入コンベア３５０ｃによって第６の通路２０４ｆを通過する被照射物Ｗを図５中Ｙ軸方向に押出して、第５の通路２０４ｅに設けられた第２照射部コンベア３５０ｂに送出する。すなわち、向き変更部３７０ａは、被照射物Ｗにおける、第２搬入コンベア３５０ｃの搬送方向の前面に該当する面と、第２照射部コンベア３５０ｂの搬送方向の前面に該当する面と、を９０度変更する。向き変更部３７０ａによって被照射物Ｗの向きを変更する理由については、後述する。
【００５４】
また、上述した電子線照射ユニット２００ａの第１照射部コンベア３１０ｂの搬送速度Ｖ１と、第１搬入コンベア３１０ｃの搬送速度Ｖ２との関係と同様に、本実施形態では、第２照射部コンベア３５０ｂの搬送速度Ｖ３を、第２搬入コンベア３５０ｃの搬送速度Ｖ４よりも遅くなるように設定し、第２照射領域Ｒ２の直前に設けられた向き変更部３７０ａが、搬送速度Ｖ３に合わせて所定間隔ごとに被照射物Ｗを送出することとする。
【００５５】
また、向き変更部３７０ｂは、第２前搬出コンベア３５２ｂと第２後搬出コンベア３５２ｃとを連続する部分に設けられる。そして、向き変更部３７０ｂは、第２前搬出コンベア３５２ｂによって第７の通路２０４ｇを通過する被照射物Ｗを図５中Ｙ軸方向に押出して、第８の通路２０４ｈに設けられた第２後搬出コンベア３５２ｃに送出する。すなわち、向き変更部３７０ｂは、被照射物Ｗにおける、第２前搬出コンベア３５２ｂの搬送方向の前面に該当する面と、第２後搬出コンベア３５２ｃの搬送方向の前面に該当する面と、を９０度変更する。向き変更部３７０ｂによって被照射物Ｗの向きを変更する理由については、後述する。
【００５６】
図３に戻って、ユニット間搬送部２１０、情報読取部２１２、搬送先切換部２１４について説明する。
【００５７】
ユニット間搬送部２１０は、コンベア等で構成され、第１搬送ライン３００ａの第１搬出部３１２における第１搬出口３１２ａよる搬送方向上流から第２搬送ライン３００ｂの第２搬入部３５０に被照射物Ｗを送出する。
【００５８】
情報読取部２１２は、ユニット間搬送部２１０の上流近傍に設置され、第１照射領域Ｒ１の通過回数を被照射物Ｗごとに識別する識別情報を読み取る。具体的に説明すると、電子線照射システム２００に搬入する前に、被照射物Ｗに、被照射物Ｗをそれぞれ識別するバーコード等の識別子を付しておく。情報読取部２１２は、第１搬出部３１２によって第１照射領域Ｒ１から搬出された被照射物Ｗの識別子を読み取り、保持しておく。そして、情報読取部２１２は、同一の識別子を読み取った回数を計数することで、被照射物Ｗごとの第１照射領域Ｒ１の通過回数を計数する。
【００５９】
搬送先切換部２１４は、情報読取部２１２の読み取り結果に応じて、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、第１搬出口３１２ａ、再搬送部３３０、ユニット間搬送部２１０のうちのいずれかに切り換える。
【００６０】
図６は、搬送先切換部２１４の一例を説明するための説明図である。図６に示すように、搬送先切換部２１４は、プッシャ２１４ａと、ストッパ２１４ｂと、経路分岐装置２１４ｃと、を含んで構成される。
【００６１】
プッシャ２１４ａおよびストッパ２１４ｂは、ともに、通常、搬送される被照射物Ｗの移動軌跡上から退避した位置にある。プッシャ２１４ａは、第１後搬出コンベア３１２ｃとユニット間搬送部２１０とを連続する部分に設けられ、駆動制御されると、被照射物Ｗの移動軌跡上に進入し、第１後搬出コンベア３１２ｃによって搬送された被照射物Ｗを図４中Ｙ軸方向に押出して、ユニット間搬送部２１０に送出する。ストッパ２１４ｂは、駆動制御されると、被照射物Ｗの移動軌跡上に進入して、被照射物Ｗの搬送方向（第１後搬出コンベア３１２ｃの搬送方向）前面に接触する。
【００６２】
例えば、搬送先切換部２１４が、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、ユニット間搬送部２１０に切り換える場合、まず、ストッパ２１４ｂが駆動制御され、第１搬出部３１２（第１後搬出コンベア３１２ｃ）によって搬送された被照射物Ｗを停止させる。そして、プッシャ２１４ａが図６中Ｙ軸方向に被照射物Ｗを押出することで、被照射物Ｗをユニット間搬送部２１０に送出する。こうすることで、搬送先切換部２１４は、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、ユニット間搬送部２１０に切り換える。
【００６３】
また、搬送先切換部２１４が、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、再搬送部３３０に切り換える場合、プッシャ２１４ａおよびストッパ２１４ｂは、搬送される被照射物Ｗの移動軌跡上から退避した位置に配される。そして、図６（ａ）から図６（ｂ）に示すように、経路分岐装置２１４ｃが、被照射物Ｗの搬送先を、第１搬出部３１２から第１搬出口３１２ａへ続く経路３１２ｄから再搬送部３３０に切り換える。例えば、経路３１２ｄと再搬送部３３０とを鉛直上下方向に２段構成としておき、経路分岐装置２１４ｃが、経路３１２ｄと再搬送部３３０とを鉛直方向に移動させることによって、経路３１２ｄまたは再搬送部３３０の鉛直方向の高さを第１後搬出コンベア３１２ｃと実質的に等しくすることで搬送先を切り換える。
【００６４】
さらに、搬送先切換部２１４が、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、第１搬出口３１２ａに切り換える場合、プッシャ２１４ａおよびストッパ２１４ｂを駆動せず、図６（ｂ）から図６（ａ）に示すように、再搬送部３３０から、第１後搬出コンベア３１２ｃ（第１搬出部３１２）から第１搬出口３１２ａへ続く経路３１２ｄに切り換える。
【００６５】
続いて、電子線照射システム２００による被照射物Ｗへの片面照射および両面照射をする際の搬送先切換部２１４による搬出先の切り換えについて説明する。
【００６６】
（片面照射）
被照射物Ｗの密度が低く、電子線照射装置１００による１回の電子線照射で、十分に被照射物Ｗの内部まで電子線を照射することができる場合、被照射物Ｗの片面に対して電子線を照射（片面照射）すれば足りる。
【００６７】
図７は、片面照射の場合の被照射物Ｗの搬送の流れを説明するための説明図である。図７に示すように、片面照射の場合、搬送先切換部２１４は、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、第１搬出口３１２ａに切り換える。そして、電子線照射ユニット２００ａにおいて、第１搬入部３１０が第１搬入口３１０ａから被照射物Ｗを搬入すると、図７中、白抜き矢印で示すように、第１搬入部３１０によって第１照射領域Ｒ１まで搬送され、第１照射領域Ｒ１において第１電子線照射装置１００ａによって電子線が照射され、その後、第１搬出部３１２によって第１搬出口３１２ａまで搬送される。
【００６８】
また、電子線照射ユニット２００ｂにおいて、第２搬入部３５０が第２搬入口３５０ａから被照射物Ｗを搬入すると、図７中、黒い塗りつぶしの矢印で示すように、第２搬入部３５０によって第２照射領域Ｒ２まで搬送され、第２照射領域Ｒ２において第２電子線照射装置１００ｂによって電子線が照射され、その後、第２搬出部３５２によって第２搬出口３５２ａまで搬送される。
【００６９】
（両面照射１）
一方、被照射物Ｗの密度が高く、電子線照射装置１００による１回の電子線照射では、十分に被照射物Ｗの内部まで電子線を照射することができない場合、被照射物Ｗの両面に対して電子線を照射（両面照射）する必要がある。
【００７０】
図８は、電子線照射ユニット２００ａおよび電子線照射ユニット２００ｂを利用して両面照射をする場合の被照射物Ｗの搬送の流れを説明するための説明図である。図８に示すように、電子線照射ユニット２００ａおよび電子線照射ユニット２００ｂを利用して両面照射をする場合、電子線照射ユニット２００ａにおいて、第１搬入部３１０が第１搬入口３１０ａから被照射物Ｗを搬入すると、図８中、白抜き矢印で示すように、第１搬入部３１０によって第１照射領域Ｒ１まで搬送される。
【００７１】
ここで、第１搬入部３１０によって搬入された被照射物Ｗは、向き変更部３２０ａによって図８中Ｘ軸方向からＹ軸方向に押出されるので、第１照射領域Ｒ１において、被照射物Ｗに電子線が照射される面（照射面）は、図８（ａ）に示す、搬送方向の前面に該当する面となる。
【００７２】
そして、片面に電子線が照射された被照射物Ｗ（（図８（ｂ）参照：照射された面を黒い塗り潰しで示す））は、向き変更部３２０ｂによって図８中Ｙ軸方向からＸ軸方向に押出されるので、向き変更部３２０ｂの下流の被照射物Ｗにおける搬送方向の前面は、被照射物Ｗの電子線が照射された面と対向する面（水平方向に１８０度異なる面）となる（図８（ｃ）参照）。
【００７３】
続いて、情報読取部２１２は、被照射物Ｗごとの識別子を読み取った回数を計数する。ここでは、片面に電子線が照射された被照射物Ｗに関する識別子を読み取った回数が１であるため、被照射物Ｗに再度電子線を照射すべく、搬送先切換部２１４は、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、ユニット間搬送部２１０に切り換える。
【００７４】
ここで、搬送先切換部２１４を構成するプッシャ２１４ａが図８中Ｘ軸方向からＹ軸方向に被照射物Ｗを押出してユニット間搬送部２１０に送出するので、ユニット間搬送部２１０における搬送方向の前面は、第１照射領域Ｒ１における照射面と直交する面となる（図８（ｄ）参照）。
【００７５】
そして、ユニット間搬送部２１０から第２搬入部３５０に被照射物Ｗが送出されると、第２搬入部３５０における被照射物Ｗの搬送方向の前面は、第１照射領域Ｒ１における照射面となる（図８（ｅ）参照）。
【００７６】
続いて、第２搬入部３５０によって搬入された被照射物Ｗは、向き変更部３７０ａによって図８中Ｘ軸方向からＹ軸方向に押出されるので、第２照射領域Ｒ２における照射面は、図８（ｆ）に示すように、第１照射領域Ｒ１の照射面と対向する面となる。したがって、ユニット間搬送部２１０を経由して、第１照射領域Ｒ１および第２照射領域Ｒ２において２回電子線を照射された被照射物Ｗは、被照射物Ｗにおける１８０度異なる２面から電子線が照射されたことになる（図８（ｇ）参照）。
【００７７】
以上説明した両面照射１では、電子線照射ユニット２００ａおよび電子線照射ユニット２００ｂを利用して被照射物Ｗの両面から電子線を照射しているが、電子線照射ユニット２００ｂがメンテナンス等で利用できない場合がある。この場合には、電子線照射ユニット２００ａのみで両面照射を行うことが可能である。
【００７８】
（両面照射２）
図９は、電子線照射ユニット２００ａのみを利用して両面照射をする場合の被照射物Ｗの搬送の流れを説明するための説明図である。ここでは、例えば、メンテナンス等で電子線照射ユニット２００ｂを利用できない場合を例に挙げて説明する。図９に示すように、電子線照射ユニット２００ａのみを利用して両面照射をする場合、電子線照射ユニット２００ａにおいて、第１搬入部３１０が第１搬入口３１０ａから被照射物Ｗを搬入すると、図９中、白抜き矢印で示すように、第１搬入部３１０によって第１照射領域Ｒ１まで搬送される。
【００７９】
ここで、第１搬入部３１０によって搬入された被照射物Ｗは、向き変更部３２０ａによって図９中Ｘ軸方向からＹ軸方向に押出されるので、第１照射領域Ｒ１において、被照射物Ｗに電子線が照射される面は、図９（ａ）に示す、搬送方向の前面に該当する面となる。
【００８０】
そして、片面に電子線が照射された被照射物Ｗ（（図９（ｂ）参照：照射された面を黒い塗り潰しで示す））は、向き変更部３２０ｂによって図９中Ｙ軸方向からＸ軸方向に押出されるので、向き変更部３２０ｂの下流の被照射物Ｗにおける搬送方向の前面は、被照射物Ｗに電子線がすでに照射された面と対向する面（水平面上で１８０度異なる面）となる（図９（ｃ）参照）。
【００８１】
続いて、情報読取部２１２は、被照射物Ｗごとの識別子を読み取った回数を計数する。ここでは、片面に電子線が照射された被照射物Ｗに関する識別子を読み取った回数が１であるため、被照射物Ｗに再度電子線を照射すべく、搬送先切換部２１４は、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を、再搬送部３３０に切り換える。
【００８２】
そして、再搬送部３３０を経由して搬送された被照射物Ｗ（図９（ｄ）参照）は、向き変更部３２０ａによって図９中Ｘ軸方向からＹ軸方向に押出されるので、第１照射領域Ｒ１において、被照射物Ｗに再度電子線が照射される面（図９（ｅ）参照）は、図９（ｃ）、（ｄ）に示す、搬送方向の前面に該当する面となる。したがって、再搬送部３３０を経由して、第１照射領域Ｒ１において２回電子線を照射された被照射物Ｗは、被照射物Ｗにおける１８０度異なる２面から電子線が照射されたことになる（図９（ｆ）参照）。
【００８３】
このように、向き変更部３２０を設けて被照射物Ｗの向きを変える構成により、搬送先切換部２１４が第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先を再搬送部３３０に切り換えている間、再搬送部３３０から第１搬入部３１０に搬送された被照射物Ｗの電子線の照射面を、第１搬入口３１０ａから第１搬入部３１０に搬送された場合の照射面と異ならせることができる。
【００８４】
そして、両面に電子線が照射された被照射物Ｗ（（図９（ｆ）参照）が第１搬出部３１２によって搬送されると、情報読取部２１２は、両面に電子線が照射された被照射物Ｗの識別子を再度読み取ることになる。ここでは、情報読取部２１２が、両面に電子線が照射された被照射物Ｗの識別子を読み取った回数は２となるため、被照射物Ｗを外部に搬出すべく、搬送先切換部２１４は、第１照射領域Ｒ１を２回通過した被照射物Ｗの搬送先を、第１搬出口３１２ａに切り換える。これにより、被照射物Ｗは、第１搬出口３１２ａから搬出される（図９中、黒い塗りつぶしの矢印で示す）。
【００８５】
このように、１つの電子線照射ユニット２００ａを利用した場合であっても、被照射物Ｗの両面から確実に電子線を照射することが可能となる。なお、ここでは、電子線照射ユニット２００ｂがメンテナンス等で利用できない場合を例に挙げて説明したが、電子線照射ユニット２００ａにおいて両面照射を行っているときに、電子線照射ユニット２００ｂにおいて片面照射をすることもできる。
【００８６】
以上説明したように、本実施形態にかかる電子線照射システム２００によれば、搬送先切換部２１４が第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬出先を第１搬出口３１２ａとユニット間搬送部２１０とで切り換える構成により、２台の電子線照射装置１００ａ、１００ｂのうちいずれか一方を待機状態にしたり、停止したりすることなく、片面照射と両面照射とを瞬時に切り換えることができる。したがって、電子線照射装置１００ａ、１００ｂの稼働率を向上することが可能となる。
【００８７】
また、両面照射を所望する際に、２台の電子線照射装置１００ａ、１００ｂのうち、例えば電子線照射装置１００ｂに故障等が生じてメンテナンスする場合であっても、電子線照射ユニット２００ａと電子線照射ユニット２００ｂとがそれぞれ独立しており、かつ、向き変更部３２０と、再搬送部３３０とを備えているため、電子線照射装置１００ａのみで両面照射を行うことができる。
【００８８】
さらに、両面照射をするための、被照射物Ｗの水平面内での回転を、直交するコンベアによって為しているので、被照射物Ｗを回転する特別な機構を別途設ける必要がない。また、搬送先切換部２１４および向き変更部３２０、３７０を備えるだけで、片面照射や、２つの電子線照射システム２００を利用した両面照射、１つの電子線照射システム２００のみで遂行する両面照射を全て行うことができるため、搬送ラインを纏めることができ、設備全体の占有面積を低減したり、設備にかかるコストを低減することが可能となる。
【００８９】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００９０】
例えば、上述した実施形態で説明した、向き変更部３２０、３７０の数や設置位置、搬送先切換部２１４の構成は、電子線照射システム２００の一例である。したがって、搬送先切換部２１４が、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物の搬送先を再搬送部３３０に切り換えたとき（電子線照射ユニット２００ａのみを利用して両面照射を行う場合）、再搬送部３３０から第１搬入部３１０に搬送された被照射物Ｗの第１照射領域Ｒ１における照射面が、第１搬入口３１０ａから第１搬入部３１０に搬送された場合の第１照射領域Ｒ１における照射面と異なれば、向き変更部３２０、３７０の数や設置位置、搬送先切換部２１４の構成はどのようなものであってもよい。また、搬送先切換部２１４が、第１照射領域Ｒ１を通過した被照射物Ｗの搬送先をユニット間搬送部２１０に切り換えたとき（電子線照射ユニット２００ａおよび電子線照射ユニット２００ｂを利用して両面照射を行う場合）、第１照射領域Ｒ１における照射面と、第２照射領域Ｒ２における照射面とが異なれば、向き変更部３２０、３７０の数や設置位置、搬送先切換部２１４の構成はどのようなものであってもよい。
【００９１】
また、上述した実施形態では、第１搬送ライン３００ａに２つの向き変更部３２０（３２０ａ、３２０ｂ）を設置することで、被照射物Ｗにおける、水平方向に対向する２面（１８０度異なる面）に電子線を照射する場合を例に挙げて説明した。しかし、向き変更部３２０を第１搬送ライン３００ａに少なくとも１つ設けておけば、再搬送部３３０から第１搬入部３１０に搬送された被照射物Ｗの第１照射領域Ｒ１における照射面と、第１搬入口３１０ａから第１搬入部３１０に搬送された場合の、被照射物Ｗの第１照射領域Ｒ１における照射面とを異ならせることができ、また、第１照射領域Ｒ１における照射面と、第２照射領域Ｒ２における照射面とを異ならせることができる。したがって、被照射物Ｗにおける密度が均一でない場合において、被向き変更部３２０を第１搬送ライン３００ａに少なくとも１つ設けておけば、被照射物Ｗの内部に電子線を到達させることも可能である。
【００９２】
さらに、上述した実施形態では、電子線照射ユニット２００ａが再搬送部３３０を備えることで、電子線照射ユニット２００ａのみで被照射物Ｗの両面から電子線を照射することができる場合を例に挙げて説明したが、電子線照射ユニット２００ｂが、第２照射領域Ｒ２を通過した被照射物Ｗを第２搬出部３５２から第２搬入部３５０へと送出する再搬送部を備えることもできる。こうすることで、電子線照射ユニット２００ａのみでも、電子線照射ユニット２００ｂのみでも、片面照射および両面照射を遂行することが可能となる。さらにこのとき、第２照射領域Ｒ２を通過した被照射物Ｗを第２搬出部３５２から第１搬入部３１０に送出するユニット間搬送部を設け、両ユニット２００ａ、２００ｂ間で被照射物Ｗを往来可能にすることも可能である。
【００９３】
また、上述した実施形態では、被照射物Ｗに予め識別子を付しているが、例えば被照射物Ｗをトレーに載置して搬送する形態の場合、予めトレーに識別子を付しておいてもよい。この場合、情報読取部２１２は、トレーに付された識別子を読み取り、その結果に応じてトレーごと被照射物Ｗの搬送先を切り換えるとよい。
【００９４】
さらに、上述した実施形態において、情報読取部２１２は、両面照射２において、被照射物Ｗに関する第１照射領域Ｒ１の通過回数を検出し、１回であったら、搬送先切換部２１４が搬送先を再搬送部３３０に切り換え、２回であったら第１搬出口３１２ａに切り換える場合を例に挙げて説明した。しかし、これに限定されず、例えば、被照射物Ｗの種類（密度）に応じて、片面照射で十分なことを示す識別子と、両面照射が必要なことを示す識別子とを予め付しておき、情報読取部２１２が読み取った識別子が、片面照射で十分なことを示す識別子である場合、搬送先切換部２１４は、搬送先を第１搬出口３１２ａに切り換え、両面照射が必要なことを示す識別子である場合、搬送先切換部２１４は、搬送先を再搬送部３３０に切り換えてもよい。この場合、種類の異なる被照射物Ｗを搬入しても、適切に片面照射および両面照射を遂行することが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明は、被照射物に電子線を照射する電子線照射システムに利用することができる。
【符号の説明】
【００９６】
Ｒ１ …第１照射領域
Ｒ２ …第２照射領域
１００ａ …第１電子線照射装置
１００ｂ …第２電子線照射装置
２００ …電子線照射システム
２００ａ …電子線照射ユニット
２００ｂ …電子線照射ユニット
２０４ａ …第１の通路
２０４ｂ …第２の通路
２１０ …ユニット間搬送部
２１２ …情報読取部
２１４ …搬送先切換部
２１４ａ …プッシャ
３００ａ …第１搬送ライン
３００ｂ …第２搬送ライン
３１０ …第１搬入部
３１０ａ …第１搬入口
３１２ …第１搬出部
３１２ａ …第１搬出口
３２０、３７０ …向き変更部
３３０ …再搬送部
３５０ …第２搬入部
３５０ａ …第２搬入口
３５２ …第２搬出部
３５２ａ …第２搬出口
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平方向に電子線を照射する第１電子線照射装置と、
第１搬入口から前記第１電子線照射装置によって電子線が照射される第１照射領域まで被照射物を搬送する第１搬入部、および、該第１照射領域から第１搬出口まで被照射物を搬送する第１搬出部を有する第１搬送ラインと、
水平方向に電子線を照射する第２電子線照射装置と、
第２搬入口から前記第２電子線照射装置によって電子線が照射される第２照射領域まで被照射物を搬送する第２搬入部、および、該第２照射領域から第２搬出口まで被照射物を搬送する第２搬出部を有する第２搬送ラインと、
前記第１搬出部における前記第１搬出口より搬送方向上流から前記第２搬送ラインの第２搬入部に被照射物を送出するユニット間搬送部と、
前記第１照射領域を通過した被照射物の搬送先を、前記第１搬出口および前記ユニット間搬送部のいずれか一方に切り換える搬送先切換部と、
を備え、
前記搬送先切換部が前記第１照射領域を通過した被照射物の搬送先を前記ユニット間搬送部に切り換えている間、前記第１照射領域を通過するときの被照射物における前記照射面と、前記第２照射領域を通過するときの被照射物における該照射面と、を異ならせることを特徴とする電子線照射システム。
【請求項２】
前記第１搬送ラインおよび前記第２搬送ラインのいずれか一方または両方の搬送ラインに設置され、該搬送ラインによって被照射物が搬送される照射領域を通過した被照射物を、当該搬送ラインの搬出部から搬入部へと送出するとともに、前記搬送先切換部によって切り換え選択可能な再搬送部と、
前記再搬送部が設置される搬送ラインに少なくとも１つ設けられ、前記搬送先切換部が前記照射領域を通過した被照射物の搬送先を前記再搬送部に切り換えたとき、前記再搬送部から搬入部に搬送された被照射物の前記照射面が、前記搬入口から搬入部に搬送された場合の前記照射領域における前記被照射物の前記照射面と異なるように前記被照射物の向きを変える向き変更部と、を備えたことを特徴とする請求項１記載の電子線照射システム。
【請求項３】
前記再搬送部および前記向き変更部は、前記第１搬送ラインに設置されることを特徴とする請求項２に記載の電子線照射システム。
【請求項４】
前記第１搬入口から前記第１搬入部に搬送された場合の前記第１照射領域における被照射物の前記照射面は、前記再搬送部から前記第１搬入部に搬送された場合の前記第１照射領域における被照射物の前記照射面、および、前記ユニット間搬送部を介して前記第２搬入部に搬送された場合の前記第２照射領域における被照射物の前記照射面と、水平面上で１８０度異なることを特徴とする請求項３に記載の電子線照射システム。
【請求項５】
前記第１搬入部は、
前記第１照射領域を通過する第１の通路と、前記第１の通路よりも搬送方向上流側に設けられ、かつ、該第１の通路と水平方向に直交する第２の通路と、を経由して、前記第１搬入口から前記第１照射領域まで被照射物を搬入し、
前記向き変更部は、
前記第２の通路を通過する被照射物を前記第１の通路に押出するプッシャを含んで構成されることを特徴とする請求項３または４に記載の電子線照射システム。
【請求項６】
前記第１照射領域の通過回数を被照射物ごとに識別する識別情報を読み取る情報読取部を備え、
前記搬送先切換部は、前記情報読取部の読み取り結果に応じて搬送先を切り換えることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の電子線照射システム。
【請求項１】
水平方向に電子線を照射する第１電子線照射装置と、
第１搬入口から前記第１電子線照射装置によって電子線が照射される第１照射領域まで被照射物を搬送する第１搬入部、および、該第１照射領域から第１搬出口まで被照射物を搬送する第１搬出部を有する第１搬送ラインと、
水平方向に電子線を照射する第２電子線照射装置と、
第２搬入口から前記第２電子線照射装置によって電子線が照射される第２照射領域まで被照射物を搬送する第２搬入部、および、該第２照射領域から第２搬出口まで被照射物を搬送する第２搬出部を有する第２搬送ラインと、
前記第１搬出部における前記第１搬出口より搬送方向上流から前記第２搬送ラインの第２搬入部に被照射物を送出するユニット間搬送部と、
前記第１照射領域を通過した被照射物の搬送先を、前記第１搬出口および前記ユニット間搬送部のいずれか一方に切り換える搬送先切換部と、
を備え、
前記搬送先切換部が前記第１照射領域を通過した被照射物の搬送先を前記ユニット間搬送部に切り換えている間、前記第１照射領域を通過するときの被照射物における前記照射面と、前記第２照射領域を通過するときの被照射物における該照射面と、を異ならせることを特徴とする電子線照射システム。
【請求項２】
前記第１搬送ラインおよび前記第２搬送ラインのいずれか一方または両方の搬送ラインに設置され、該搬送ラインによって被照射物が搬送される照射領域を通過した被照射物を、当該搬送ラインの搬出部から搬入部へと送出するとともに、前記搬送先切換部によって切り換え選択可能な再搬送部と、
前記再搬送部が設置される搬送ラインに少なくとも１つ設けられ、前記搬送先切換部が前記照射領域を通過した被照射物の搬送先を前記再搬送部に切り換えたとき、前記再搬送部から搬入部に搬送された被照射物の前記照射面が、前記搬入口から搬入部に搬送された場合の前記照射領域における前記被照射物の前記照射面と異なるように前記被照射物の向きを変える向き変更部と、を備えたことを特徴とする請求項１記載の電子線照射システム。
【請求項３】
前記再搬送部および前記向き変更部は、前記第１搬送ラインに設置されることを特徴とする請求項２に記載の電子線照射システム。
【請求項４】
前記第１搬入口から前記第１搬入部に搬送された場合の前記第１照射領域における被照射物の前記照射面は、前記再搬送部から前記第１搬入部に搬送された場合の前記第１照射領域における被照射物の前記照射面、および、前記ユニット間搬送部を介して前記第２搬入部に搬送された場合の前記第２照射領域における被照射物の前記照射面と、水平面上で１８０度異なることを特徴とする請求項３に記載の電子線照射システム。
【請求項５】
前記第１搬入部は、
前記第１照射領域を通過する第１の通路と、前記第１の通路よりも搬送方向上流側に設けられ、かつ、該第１の通路と水平方向に直交する第２の通路と、を経由して、前記第１搬入口から前記第１照射領域まで被照射物を搬入し、
前記向き変更部は、
前記第２の通路を通過する被照射物を前記第１の通路に押出するプッシャを含んで構成されることを特徴とする請求項３または４に記載の電子線照射システム。
【請求項６】
前記第１照射領域の通過回数を被照射物ごとに識別する識別情報を読み取る情報読取部を備え、
前記搬送先切換部は、前記情報読取部の読み取り結果に応じて搬送先を切り換えることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の電子線照射システム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１３−２９３５（Ｐ２０１３−２９３５Ａ）
【公開日】平成２５年１月７日（２０１３．１．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１３３８４７（Ｐ２０１１−１３３８４７）
【出願日】平成２３年６月１６日（２０１１．６．１６）
【出願人】（０００００００９９）株式会社ＩＨＩ (5,014)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年１月７日（２０１３．１．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年６月１６日（２０１１．６．１６）
【出願人】（０００００００９９）株式会社ＩＨＩ (5,014)
【Ｆターム（参考）】
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