電気光学装置の検査方法
【課題】電気光学装置の検査において繰り返しパターンを有する検査対象領域が高倍率で
検出される場合でも検査精度を上げることのできる検査方法を提供する。
【解決手段】検査領域は、それぞれ、移動装置にて電気光学装置を複数回移動させてその
移動される毎に撮像装置にて撮像することで全体が撮影可能な大きさに形成されている。
検査装置は、検査領域内に設定された検査対象エリアを記憶する記憶手段を有し、記憶手
段から検査対象エリアを読出して、移動装置と撮像装置とを制御して隣接する２つの検査
領域における検査対象エリアの画像データをそれぞれ取得し、両検査対象エリアの画像デ
ータを比較して各検査領域を検査する。
検出される場合でも検査精度を上げることのできる検査方法を提供する。
【解決手段】検査領域は、それぞれ、移動装置にて電気光学装置を複数回移動させてその
移動される毎に撮像装置にて撮像することで全体が撮影可能な大きさに形成されている。
検査装置は、検査領域内に設定された検査対象エリアを記憶する記憶手段を有し、記憶手
段から検査対象エリアを読出して、移動装置と撮像装置とを制御して隣接する２つの検査
領域における検査対象エリアの画像データをそれぞれ取得し、両検査対象エリアの画像デ
ータを比較して各検査領域を検査する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＯＬＥＤ及びＬＣＤなど電気光学装置の検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＯＬＥＤパネルやＬＣＤパネルなどの電気光学装置は複数の画素が二次元的に配
列されており、各画素は同じ形状（パターン）に形成されている。電気光学装置は、その
製造工程において断線・短絡などの欠陥が生じることがある。このため、電気光学装置の
検査工程において、画素間の情報を比較する隣接比較法を用いて検査されている（例えば
、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−２７００８７号公報（段落［００１８］〜［００２１］、第３，４図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来から用いられている検査方法において次の問題が生じている。
（イ）各画素の配線等は、ステッパにより描画され、描画時間を短縮するため、１つ又
は複数（例えば、４×４）の画素が同時に描画される。そして、ショット間の配線が確実
に接続されるように、配線幅を広くしたショット繋ぎ部Ｍ（Ｍ１，Ｍ２）及びイレギュラ
ー配線ＩＰ（図４参照）が形成される。この繋ぎ部は、ショット間に形成される。例えば
、１画素を１回のショットにて描画する場合、繋ぎ部は画素間に形成され、その線幅はス
テッパの移動精度に応じて変化する場合があるため、異なる幅の繋ぎ部が異常箇所として
検出され、画素に欠陥が存在すると誤判定される。また、４×４画素を１回のショットに
て描画する場合、繋ぎ部が形成される画素と、形成されない画素とが隣接するため、繋ぎ
部がある（又は無い）箇所が異常として検出され、この検出された異常箇所によって欠陥
がある画素と誤判定される。
【０００４】
（ロ）配線に突起が生じた場合、突起が生じた場所、例えば隣接する配線間隔によって
、その突起を欠陥として判断しなければならない場合と、その突起を許容する（突起が電
気光学装置の動作・特性に影響しない）場合とがある。しかし、上記方法では、全ての突
起を欠陥として判断するため、欠陥がある画素と誤判定される。
【０００５】
（ハ）ＯＬＥＤにおいてはＲＧＢ各色の発光層から出射される光量差や、人の目におけ
る色の感度差、等により、ＲＧＢの各画素のサイズを相違させることが考えられている。
この場合、隣接比較法では、ＲＧＢの画素を全て含む領域が比較する領域として設定され
、領域サイズが大きくなる。この場合、１つの領域を、電気光学装置を載置したステージ
又は撮像装置を搭載したステージを移動させながら撮影しなければならない。この結果、
図４に示すように、ステージの移動精度によって生じる移動誤差によって隣接する領域Ｐ
１，Ｐ２において撮影位置がずれるため、それぞれにおいて撮影された画像ＴＡ１，ＴＡ
２の配線ＰＴ１，ＰＴ２の位置が異なる。このため、領域Ｐ１，Ｐ２が、欠陥のある画素
として誤判定される。
【０００６】
上記の誤判定の低減する方法として、欠陥画素の検出感度を下げることが考えられる。
上記の判定は、検査領域において検出した欠陥の数が所定値より多い場合に、その検査領
域を欠陥とする。検出感度を下げることは、判定する所定数を大きくすることである。す
ると、致命的な欠陥が存在する領域であっても、その領域に含まれる欠陥箇所の数によっ
て欠陥ではないと判定されるため、微細な欠陥が致命的となるＯＬＥＤパネルの検査装置
では、検出感度を下げることができない。
【０００７】
誤判定が発生する場合、その誤判定された電気光学装置において、異常箇所が許容可能
か否かを判定する工程を設けなければならなくなり、タクトの低下を招く。また、その工
程において、誤判定された領域が多いとその判定に時間がかかるため、電気光学装置の製
造タクトに比べて、検査のタクトが大きくなり、未検査の電気光学装置が発生する、所謂
処理オーバーフローが発生する場合がある。
【０００８】
本発明は、前述した上記問題点を解消するためになされたものであって、その目的は、
電気光学装置の検査において繰り返しパターンを有する検査対象領域の検査精度を上げる
ことのできる検査方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は、同一パターンが形成された検査領域が隣接して
設定され、その隣接する検査領域を撮像装置にてそれぞれ撮像し、検査装置にて各検査領
域の画像データを比較して各検査領域を検査する電気光学装置の検査方法において、前記
検査領域は、それぞれ、前記移動装置にて前記電気光学装置を複数回移動させてその移動
される毎に前記撮像装置にて撮像することで全体が撮影可能な大きさに形成されており、
前記検査装置は、前記検査領域内に設定された検査対象エリアを記憶する記憶手段を有し
、前記記憶手段から前記検査対象エリアを読出して、前記移動装置と前記撮像装置とを制
御して隣接する２つの検査領域における検査対象エリアの画像データをそれぞれ取得し、
両検査対象エリアの画像データを比較して各検査領域を検査するものである。
【００１０】
この発明によれば、検査領域内に検査対象エリアを設定し、隣接する検査領域において
それぞれの検査対象エリアの画像データを比較することで、必要とする領域のみを比較検
査することができ、不要な領域に発生する異常を検出しないため、検査精度を向上させる
ことができる。また、検査領域内に検査対象エリアを設定することで、その検査対象エリ
アにおける移動装置の移動誤差が少なくなり、誤検出を低減する、つまり検出精度を向上
することができる。
【００１１】
この電気光学装置の検査方法において、前記記憶手段には、前記検査対象エリアの情報
として、前記各検査領域における基準点と、該基準点に対する前記検査対象エリアの相対
位置情報と、前記検査対象エリアのサイズとが記憶され、前記検査装置は、前記各検査領
域の基準点の位置と、該基準点に対する前記検査対象エリアの相対位置とを読み出し、前
記移動装置を制御して各検査領域の基準点から検査対象エリアに移動させるようにした。
【００１２】
これにより、検査対象エリアへの移動距離が各検査領域において同じとなるため、各検
査対象エリアに移動装置を精度良く移動させることができ、検査精度を向上することがで
きる。
【００１３】
この電気光学装置の検査方法において、前記検査領域は、１つ又は複数の画素から構成
され、前記画素は、それぞれ異なる色の光が出射され少なくとも１つのサイズが異なる複
数の光領域と、該複数の光領域における光量をそれぞれ制御する複数の制御回路が形成さ
れた制御領域と、からなり、前記検査対象エリアは少なくとも１つの前記制御領域内に設
定した。
【００１４】
これにより、異常パターンが動作・性能に影響し難い光領域に対する検査を行わないよ
うにし、動作・性能に対する影響が大きい制御領域を検査することで、必要な領域のみを
検査することができ、検査時間を短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を具体化した一実施の形態を図面に従って説明する。
先ず、検査対象としての電気光学装置の概略を説明する。
図１に示すように、本実施の形態の電気光学装置ＷはＯＬＥＤパネルであり、二次元状
に配列された複数の画素Ｐが形成されている。各画素Ｐは、それぞれ、光の三原色である
Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の色を発光する光領域としての３つの領域Ｒ，Ｇ，Ｂと、
及び各領域の発光量を制御する制御領域ＲＣ，ＧＣ，ＢＣと、が含まれる。そして、各画
素は、図示しないステッパにより１回のショットにて描画されている。従って、画素Ｐ間
には、ショットの繋ぎ部としての配線Ｍ１，Ｍ２，Ｎ１，Ｎ２、及びイレギュラー配線Ｉ
Ｐが形成されている。
【００１６】
各画素Ｐに含まれる領域Ｒ，Ｇ，Ｂは、出射される光量差により、サイズが相違されて
いる。各色の領域Ｒ，Ｇ，Ｂのサイズが異なるため、繰り返し性のあるパターンは、画素
Ｐ毎となる。つまり、電気光学装置Ｗの検査では、隣接する２つの画素Ｐをそれぞれ検査
領域とし、それぞれの検査領域の画像データを比較し、２つの画素Ｐが欠陥であるか否か
を判断する。
【００１７】
次に、上記の電気光学装置Ｗを検査するパターン検査装置を説明する。
図２に示すように、パターン検査装置１０の移動装置１１上にはステージ１２が設けら
れ、そのステージ１２は、移動装置１１によって、所定平面上の直交する２軸（Ｘ軸：図
面左右方向、Ｙ軸：図面表裏方向）方向に沿って移動可能に支持されている。移動装置１
１は、ステージ１２を２軸方向に沿ってそれぞれ移動させるためのモータがもうけられて
いる。ステージ１２には、検査対象としての電気光学装置Ｗが上面に載置される。この移
動装置１１は制御装置１３に接続され、該制御装置１３は、ステージ１２上の電気光学装
置Ｗを上記の２軸方向に沿って移動させるべく移動装置１１を制御する。また、制御装置
１３には、撮像装置１４が接続されている。撮像装置１４は、制御装置１３により制御さ
れ、ステージ１２上の電気光学装置Ｗを撮影した画像データを制御装置１３に出力する。
制御装置１３は、撮像装置１４からの画像データに基づいて、検査領域におけるパターン
を比較し、検査領域に欠陥が存在するか否かを判定する。
【００１８】
本実施形態において、制御装置１３は、隣接比較法により電気光学装置Ｗのパターン検
査を行う。隣接比較法は、隣接する２つの検査領域の情報を比較し、それぞれの検査領域
のパターンが一致するか否かを判定する。電気光学装置Ｗのように同パターンの配線が繰
り返し形成された検査対象では、同パターンの配線を形成するピッチ（繰り返しピッチ）
を検査領域のサイズとする。隣接する２つの検査領域は、同じ条件で形成されているため
、配線のパターンが同一となる。製造工程において偶発的に生じる断線や短絡等の欠陥は
、隣接する２つの検査領域に対して同時に発生しないことが多い。このため、隣接する２
つの検査領域を比較する処理を、対象とする検査領域を変更しながら順次繰り返すことに
より、欠陥を容易に検出することができる。
【００１９】
上記したように、本実施形態の電気光学装置Ｗの各画素が検査領域となる。そして、上
記の電気光学装置Ｗにおいて、各画素Ｐの大きさは、撮像装置１４の撮影領域よりも大き
いため、画素全体を撮影するためには、ステージ１２を移動させつつ撮像装置１４にて複
数回撮影し、それら複数回の撮影により生成される画像データを比較しなければならない
。この場合、上記の問題点が発生する。このため、本実施形態のパターン検査装置１０は
、各検査領域に設定された検査対象エリアについて隣接比較法を適用するようにしている
。
【００２０】
詳述すると、制御装置１３は図示しない記憶装置を備え、該記憶装置には、検査領域、
検査対象エリアの情報が予め記憶されている。検査領域の情報は、該検査領域のサイズ（
比較ピッチ）、検査領域における基準位置（座標値）を含む。検査対象エリアの情報は、
該検査対象エリアのサイズ、検査領域に対する検査対象エリアの相対位置（基準位置に対
する相対座標位置）を含む。
【００２１】
検査対象エリアは、検査領域内において、検査を必要とする部分に応じて領域サイズ及
び位置が設定されている。図１に示す電気光学装置Ｗの各画素Ｐにおいて、光領域Ｒ、Ｇ
、Ｂは、発光層と該発光層に電流を供給するための配線が形成されており、突起などのパ
ターン異常が発生しても、特性・動作に大きな影響はない。制御領域ＲＣ，ＧＣ，ＢＣは
、配線が密であり、光領域Ｒ，Ｇ，Ｂに電流を供給するための素子（トランジスタ等）が
形成されているため、突起などのパターン異常は、特性・動作に大きな影響を与える。こ
のため、制御領域を検査対象エリアとして設定する。パターン検査装置１０は、この設定
された検査対象エリアを撮像装置１４にて撮像した画像データにより、隣接した２つの検
査領域に含まれる検査対象エリアのパターンを比較することで、必要とする領域のみを比
較して検査することができる。更に、検査領域全体を比較する場合に比べて短時間で比較
処理を終了することができる。
【００２２】
また、検査対象エリアは、各制御領域ＲＣ，ＧＣ，ＢＣ毎に設定されている。つまり、
検査領域には、複数の検査対象エリアが含まれる。これら検査対象エリアのサイズ、特に
ステージ１２の移動方向の大きさが、検査領域の大きさよりも十分に小さい。ステージ１
２の移動誤差は、ステージの移動範囲（領域の大きさ）に対応する。つまり、移動範囲（
サイズ）が大きな領域と移動範囲（サイズ）が小さな領域とを比較した場合、移動終了点
における誤差は、移動範囲が大きな領域の方が大きい。従って、検査領域内に検査対象エ
リアを設定することで、移動範囲を狭くして移動誤差をほとんど無くし、撮影位置の位置
ずれを抑制することができる。このため、検査領域それぞれの検査対象エリアを撮影した
画像データを比較した場合、両検査対象エリアのパターンが一致するため、誤判定を防ぐ
ことができる。
【００２３】
尚、制御領域内であっても、配線密度が粗な領域については、光領域と同様に、特性・
動作に大きな影響を与えない領域が存在する場合もある。この場合、影響を与えない領域
を被検査対象エリアとする、つまり光領域と同様に検査対象エリアから除外することで、
検査を必要とする領域のみを撮像することで、更に検査時間を短縮することができる。
【００２４】
次に、隣接する２つの検査領域に含まれる検査対象エリアの検査手順を説明する。
図３に示すように、今、制御領域ＲＣ内に検査対象エリアが設定されている。画素Ｐ１
における検査対象エリアをＴＢ１、画素Ｐ２における検査対象エリアをＴＢ２とする。
【００２５】
先ず、制御装置１３は、記憶装置から検査領域の基準位置を読み出し、ステージ１２を
移動させる。例えば、制御装置１３は、撮像装置１４の撮影中心と検査領域Ｐ１の基準位
置ＣＰとが一致するように、ステージ１２を移動させる。次に、制御装置１３は、検査対
象エリアの位置を読み込み、その位置に基づいて、検査対象エリアＴＢ１を撮影可能な位
置にステージ１２を移動させる。そして、制御装置１３は、検査対象エリアのサイズを読
み込み、そのサイズに従ってステージ１２を移動させるとともに撮像装置１４を制御し、
検査対象エリアＴＢ１全体の画像データを生成する。
【００２６】
次に、制御装置１３は、記憶装置から検査領域の基準位置と検査領域のサイズを読み出
し、ステージ１２を移動させる。例えば、制御装置１３は、撮像装置１４の撮影中心と検
査領域Ｐ２の基準位置ＣＰとが一致するように、ステージ１２を移動させる。次に、制御
装置１３は、検査対象エリアの位置を読み込み、その位置に基づいて、検査対象エリアＴ
Ｂ２を撮影可能な位置にステージ１２を移動させる。そして、制御装置１３は、検査対象
エリアのサイズを読み込み、そのサイズに従ってステージ１２を移動させるとともに撮像
装置１４を制御し、検査対象エリアＴＢ２全体の画像データを生成する。
【００２７】
つまり、制御装置１３は、各検査領域の基準位置にステージ１２を移動させ、その位置
から各検査領域の検査対象エリアにステージ１２を移動させる。この場合、各検査対象エ
リアまでの移動距離は、それぞれの基準位置からの移動距離であり、各検査領域において
一致する。従って、各検査対象エリアにおける撮影開始位置が検査対象エリアのそれぞれ
において相対的に一致するため、撮影位置のズレをほぼゼロとすることができる。
【００２８】
従って、本実施の形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）本実施形態によれば、検査領域は、それぞれ、移動装置１１にて電気光学装置Ｗ
を複数回移動させてその移動される毎に撮像装置１４にて撮像することで全体が撮影可能
な大きさに形成されている。検査装置１０は、査領域内に設定された検査対象エリアを記
憶する記憶手段を有し、記憶手段から検査対象エリアを読出して、移動装置１１と撮像装
置１４とを制御して隣接する２つの検査領域における検査対象エリアの画像データをそれ
ぞれ取得し、両検査対象エリアの画像データを比較して各検査領域を検査するようにした
。この結果、検査領域内においてショット繋ぎのような部分を除いて検査対象エリアを設
定し、隣接する検査領域においてそれぞれの検査対象エリアの画像データを比較すること
で、必要とする領域のみを比較検査することができ、不要な領域に発生する異常を検出し
ないため、検査精度を向上させることができる。また、検査領域内に検査対象エリアを設
定することで、その検査対象エリアにおける移動装置の移動誤差が少なくなり、誤検出を
低減する、つまり検出精度を向上することができる。
【００２９】
（２）本実施形態によれば、記憶手段には、検査対象エリアの情報として、各検査領域
における基準点と、該基準点に対する検査対象エリアの相対位置情報と、検査対象エリア
のサイズとが記憶され、検査装置１０は、各検査領域の基準点の位置と、該基準点に対す
る検査対象エリアの相対位置とを読み出す。そして、移動装置１１を制御して各検査領域
の基準点から検査対象エリアに移動させるようにした。この結果、検査対象エリアへの移
動距離が各検査領域において同じとなるため、各検査対象エリアに移動装置を精度良く移
動させることができ、検査精度を向上することができる。
【００３０】
（３）本実施形態によれば、検査領域は、１つ又は複数の画素から構成され、画素Ｐは
、それぞれ異なる色の光が出射され少なくとも１つのサイズが異なる複数の光領域Ｒ，Ｇ
，Ｂと、該複数の光領域Ｒ，Ｇ，Ｂにおける光量をそれぞれ制御する複数の制御回路が形
成された制御領域ＲＣ，ＧＣ，ＢＣと、からなる。そして、検査対象エリアは少なくとも
１つの制御領域内に設定した。この結果、異常パターンが動作・性能に影響し難い光領域
に対する検査を行わないようにし、動作・性能に対する影響が大きい制御領域を検査する
ことで、必要な領域のみを検査することができ、検査時間を短縮することができる。
【００３１】
尚、上記実施形態は、以下の態様に変更してもよい。
・上記実施形態おいて、基準となる検査領域Ｐ１の右隣の検査領域Ｐ２を対象に比較を
行なったが、比較対象となる検査領域は左隣、下など４近傍及び８近傍に該当する位置で
も、所定の位置分移動した先（例えば２領域分右，３領域分下）等と指定してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】電気光学装置の一部拡大図。
【図２】パターン検査装置の概略構成図。
【図３】基準エリア及び検査エリアの説明図。
【図４】従来の検査処理の説明図。
【符号の説明】
【００３３】
１０…パターン検査装置、１１…移動装置、１２…ステージ、１３…制御装置、１４…
撮像装置、Ｒ，Ｇ，Ｂ…光領域、ＲＣ，ＧＣ，ＢＣ…制御領域、ＣＰ…基準位置、Ｐ，Ｐ
１，Ｐ２…検査領域、ＴＢ１，ＴＢ２…検査対象エリア、Ｗ…電気光学装置。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＯＬＥＤ及びＬＣＤなど電気光学装置の検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＯＬＥＤパネルやＬＣＤパネルなどの電気光学装置は複数の画素が二次元的に配
列されており、各画素は同じ形状（パターン）に形成されている。電気光学装置は、その
製造工程において断線・短絡などの欠陥が生じることがある。このため、電気光学装置の
検査工程において、画素間の情報を比較する隣接比較法を用いて検査されている（例えば
、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−２７００８７号公報（段落［００１８］〜［００２１］、第３，４図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来から用いられている検査方法において次の問題が生じている。
（イ）各画素の配線等は、ステッパにより描画され、描画時間を短縮するため、１つ又
は複数（例えば、４×４）の画素が同時に描画される。そして、ショット間の配線が確実
に接続されるように、配線幅を広くしたショット繋ぎ部Ｍ（Ｍ１，Ｍ２）及びイレギュラ
ー配線ＩＰ（図４参照）が形成される。この繋ぎ部は、ショット間に形成される。例えば
、１画素を１回のショットにて描画する場合、繋ぎ部は画素間に形成され、その線幅はス
テッパの移動精度に応じて変化する場合があるため、異なる幅の繋ぎ部が異常箇所として
検出され、画素に欠陥が存在すると誤判定される。また、４×４画素を１回のショットに
て描画する場合、繋ぎ部が形成される画素と、形成されない画素とが隣接するため、繋ぎ
部がある（又は無い）箇所が異常として検出され、この検出された異常箇所によって欠陥
がある画素と誤判定される。
【０００４】
（ロ）配線に突起が生じた場合、突起が生じた場所、例えば隣接する配線間隔によって
、その突起を欠陥として判断しなければならない場合と、その突起を許容する（突起が電
気光学装置の動作・特性に影響しない）場合とがある。しかし、上記方法では、全ての突
起を欠陥として判断するため、欠陥がある画素と誤判定される。
【０００５】
（ハ）ＯＬＥＤにおいてはＲＧＢ各色の発光層から出射される光量差や、人の目におけ
る色の感度差、等により、ＲＧＢの各画素のサイズを相違させることが考えられている。
この場合、隣接比較法では、ＲＧＢの画素を全て含む領域が比較する領域として設定され
、領域サイズが大きくなる。この場合、１つの領域を、電気光学装置を載置したステージ
又は撮像装置を搭載したステージを移動させながら撮影しなければならない。この結果、
図４に示すように、ステージの移動精度によって生じる移動誤差によって隣接する領域Ｐ
１，Ｐ２において撮影位置がずれるため、それぞれにおいて撮影された画像ＴＡ１，ＴＡ
２の配線ＰＴ１，ＰＴ２の位置が異なる。このため、領域Ｐ１，Ｐ２が、欠陥のある画素
として誤判定される。
【０００６】
上記の誤判定の低減する方法として、欠陥画素の検出感度を下げることが考えられる。
上記の判定は、検査領域において検出した欠陥の数が所定値より多い場合に、その検査領
域を欠陥とする。検出感度を下げることは、判定する所定数を大きくすることである。す
ると、致命的な欠陥が存在する領域であっても、その領域に含まれる欠陥箇所の数によっ
て欠陥ではないと判定されるため、微細な欠陥が致命的となるＯＬＥＤパネルの検査装置
では、検出感度を下げることができない。
【０００７】
誤判定が発生する場合、その誤判定された電気光学装置において、異常箇所が許容可能
か否かを判定する工程を設けなければならなくなり、タクトの低下を招く。また、その工
程において、誤判定された領域が多いとその判定に時間がかかるため、電気光学装置の製
造タクトに比べて、検査のタクトが大きくなり、未検査の電気光学装置が発生する、所謂
処理オーバーフローが発生する場合がある。
【０００８】
本発明は、前述した上記問題点を解消するためになされたものであって、その目的は、
電気光学装置の検査において繰り返しパターンを有する検査対象領域の検査精度を上げる
ことのできる検査方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は、同一パターンが形成された検査領域が隣接して
設定され、その隣接する検査領域を撮像装置にてそれぞれ撮像し、検査装置にて各検査領
域の画像データを比較して各検査領域を検査する電気光学装置の検査方法において、前記
検査領域は、それぞれ、前記移動装置にて前記電気光学装置を複数回移動させてその移動
される毎に前記撮像装置にて撮像することで全体が撮影可能な大きさに形成されており、
前記検査装置は、前記検査領域内に設定された検査対象エリアを記憶する記憶手段を有し
、前記記憶手段から前記検査対象エリアを読出して、前記移動装置と前記撮像装置とを制
御して隣接する２つの検査領域における検査対象エリアの画像データをそれぞれ取得し、
両検査対象エリアの画像データを比較して各検査領域を検査するものである。
【００１０】
この発明によれば、検査領域内に検査対象エリアを設定し、隣接する検査領域において
それぞれの検査対象エリアの画像データを比較することで、必要とする領域のみを比較検
査することができ、不要な領域に発生する異常を検出しないため、検査精度を向上させる
ことができる。また、検査領域内に検査対象エリアを設定することで、その検査対象エリ
アにおける移動装置の移動誤差が少なくなり、誤検出を低減する、つまり検出精度を向上
することができる。
【００１１】
この電気光学装置の検査方法において、前記記憶手段には、前記検査対象エリアの情報
として、前記各検査領域における基準点と、該基準点に対する前記検査対象エリアの相対
位置情報と、前記検査対象エリアのサイズとが記憶され、前記検査装置は、前記各検査領
域の基準点の位置と、該基準点に対する前記検査対象エリアの相対位置とを読み出し、前
記移動装置を制御して各検査領域の基準点から検査対象エリアに移動させるようにした。
【００１２】
これにより、検査対象エリアへの移動距離が各検査領域において同じとなるため、各検
査対象エリアに移動装置を精度良く移動させることができ、検査精度を向上することがで
きる。
【００１３】
この電気光学装置の検査方法において、前記検査領域は、１つ又は複数の画素から構成
され、前記画素は、それぞれ異なる色の光が出射され少なくとも１つのサイズが異なる複
数の光領域と、該複数の光領域における光量をそれぞれ制御する複数の制御回路が形成さ
れた制御領域と、からなり、前記検査対象エリアは少なくとも１つの前記制御領域内に設
定した。
【００１４】
これにより、異常パターンが動作・性能に影響し難い光領域に対する検査を行わないよ
うにし、動作・性能に対する影響が大きい制御領域を検査することで、必要な領域のみを
検査することができ、検査時間を短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を具体化した一実施の形態を図面に従って説明する。
先ず、検査対象としての電気光学装置の概略を説明する。
図１に示すように、本実施の形態の電気光学装置ＷはＯＬＥＤパネルであり、二次元状
に配列された複数の画素Ｐが形成されている。各画素Ｐは、それぞれ、光の三原色である
Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の色を発光する光領域としての３つの領域Ｒ，Ｇ，Ｂと、
及び各領域の発光量を制御する制御領域ＲＣ，ＧＣ，ＢＣと、が含まれる。そして、各画
素は、図示しないステッパにより１回のショットにて描画されている。従って、画素Ｐ間
には、ショットの繋ぎ部としての配線Ｍ１，Ｍ２，Ｎ１，Ｎ２、及びイレギュラー配線Ｉ
Ｐが形成されている。
【００１６】
各画素Ｐに含まれる領域Ｒ，Ｇ，Ｂは、出射される光量差により、サイズが相違されて
いる。各色の領域Ｒ，Ｇ，Ｂのサイズが異なるため、繰り返し性のあるパターンは、画素
Ｐ毎となる。つまり、電気光学装置Ｗの検査では、隣接する２つの画素Ｐをそれぞれ検査
領域とし、それぞれの検査領域の画像データを比較し、２つの画素Ｐが欠陥であるか否か
を判断する。
【００１７】
次に、上記の電気光学装置Ｗを検査するパターン検査装置を説明する。
図２に示すように、パターン検査装置１０の移動装置１１上にはステージ１２が設けら
れ、そのステージ１２は、移動装置１１によって、所定平面上の直交する２軸（Ｘ軸：図
面左右方向、Ｙ軸：図面表裏方向）方向に沿って移動可能に支持されている。移動装置１
１は、ステージ１２を２軸方向に沿ってそれぞれ移動させるためのモータがもうけられて
いる。ステージ１２には、検査対象としての電気光学装置Ｗが上面に載置される。この移
動装置１１は制御装置１３に接続され、該制御装置１３は、ステージ１２上の電気光学装
置Ｗを上記の２軸方向に沿って移動させるべく移動装置１１を制御する。また、制御装置
１３には、撮像装置１４が接続されている。撮像装置１４は、制御装置１３により制御さ
れ、ステージ１２上の電気光学装置Ｗを撮影した画像データを制御装置１３に出力する。
制御装置１３は、撮像装置１４からの画像データに基づいて、検査領域におけるパターン
を比較し、検査領域に欠陥が存在するか否かを判定する。
【００１８】
本実施形態において、制御装置１３は、隣接比較法により電気光学装置Ｗのパターン検
査を行う。隣接比較法は、隣接する２つの検査領域の情報を比較し、それぞれの検査領域
のパターンが一致するか否かを判定する。電気光学装置Ｗのように同パターンの配線が繰
り返し形成された検査対象では、同パターンの配線を形成するピッチ（繰り返しピッチ）
を検査領域のサイズとする。隣接する２つの検査領域は、同じ条件で形成されているため
、配線のパターンが同一となる。製造工程において偶発的に生じる断線や短絡等の欠陥は
、隣接する２つの検査領域に対して同時に発生しないことが多い。このため、隣接する２
つの検査領域を比較する処理を、対象とする検査領域を変更しながら順次繰り返すことに
より、欠陥を容易に検出することができる。
【００１９】
上記したように、本実施形態の電気光学装置Ｗの各画素が検査領域となる。そして、上
記の電気光学装置Ｗにおいて、各画素Ｐの大きさは、撮像装置１４の撮影領域よりも大き
いため、画素全体を撮影するためには、ステージ１２を移動させつつ撮像装置１４にて複
数回撮影し、それら複数回の撮影により生成される画像データを比較しなければならない
。この場合、上記の問題点が発生する。このため、本実施形態のパターン検査装置１０は
、各検査領域に設定された検査対象エリアについて隣接比較法を適用するようにしている
。
【００２０】
詳述すると、制御装置１３は図示しない記憶装置を備え、該記憶装置には、検査領域、
検査対象エリアの情報が予め記憶されている。検査領域の情報は、該検査領域のサイズ（
比較ピッチ）、検査領域における基準位置（座標値）を含む。検査対象エリアの情報は、
該検査対象エリアのサイズ、検査領域に対する検査対象エリアの相対位置（基準位置に対
する相対座標位置）を含む。
【００２１】
検査対象エリアは、検査領域内において、検査を必要とする部分に応じて領域サイズ及
び位置が設定されている。図１に示す電気光学装置Ｗの各画素Ｐにおいて、光領域Ｒ、Ｇ
、Ｂは、発光層と該発光層に電流を供給するための配線が形成されており、突起などのパ
ターン異常が発生しても、特性・動作に大きな影響はない。制御領域ＲＣ，ＧＣ，ＢＣは
、配線が密であり、光領域Ｒ，Ｇ，Ｂに電流を供給するための素子（トランジスタ等）が
形成されているため、突起などのパターン異常は、特性・動作に大きな影響を与える。こ
のため、制御領域を検査対象エリアとして設定する。パターン検査装置１０は、この設定
された検査対象エリアを撮像装置１４にて撮像した画像データにより、隣接した２つの検
査領域に含まれる検査対象エリアのパターンを比較することで、必要とする領域のみを比
較して検査することができる。更に、検査領域全体を比較する場合に比べて短時間で比較
処理を終了することができる。
【００２２】
また、検査対象エリアは、各制御領域ＲＣ，ＧＣ，ＢＣ毎に設定されている。つまり、
検査領域には、複数の検査対象エリアが含まれる。これら検査対象エリアのサイズ、特に
ステージ１２の移動方向の大きさが、検査領域の大きさよりも十分に小さい。ステージ１
２の移動誤差は、ステージの移動範囲（領域の大きさ）に対応する。つまり、移動範囲（
サイズ）が大きな領域と移動範囲（サイズ）が小さな領域とを比較した場合、移動終了点
における誤差は、移動範囲が大きな領域の方が大きい。従って、検査領域内に検査対象エ
リアを設定することで、移動範囲を狭くして移動誤差をほとんど無くし、撮影位置の位置
ずれを抑制することができる。このため、検査領域それぞれの検査対象エリアを撮影した
画像データを比較した場合、両検査対象エリアのパターンが一致するため、誤判定を防ぐ
ことができる。
【００２３】
尚、制御領域内であっても、配線密度が粗な領域については、光領域と同様に、特性・
動作に大きな影響を与えない領域が存在する場合もある。この場合、影響を与えない領域
を被検査対象エリアとする、つまり光領域と同様に検査対象エリアから除外することで、
検査を必要とする領域のみを撮像することで、更に検査時間を短縮することができる。
【００２４】
次に、隣接する２つの検査領域に含まれる検査対象エリアの検査手順を説明する。
図３に示すように、今、制御領域ＲＣ内に検査対象エリアが設定されている。画素Ｐ１
における検査対象エリアをＴＢ１、画素Ｐ２における検査対象エリアをＴＢ２とする。
【００２５】
先ず、制御装置１３は、記憶装置から検査領域の基準位置を読み出し、ステージ１２を
移動させる。例えば、制御装置１３は、撮像装置１４の撮影中心と検査領域Ｐ１の基準位
置ＣＰとが一致するように、ステージ１２を移動させる。次に、制御装置１３は、検査対
象エリアの位置を読み込み、その位置に基づいて、検査対象エリアＴＢ１を撮影可能な位
置にステージ１２を移動させる。そして、制御装置１３は、検査対象エリアのサイズを読
み込み、そのサイズに従ってステージ１２を移動させるとともに撮像装置１４を制御し、
検査対象エリアＴＢ１全体の画像データを生成する。
【００２６】
次に、制御装置１３は、記憶装置から検査領域の基準位置と検査領域のサイズを読み出
し、ステージ１２を移動させる。例えば、制御装置１３は、撮像装置１４の撮影中心と検
査領域Ｐ２の基準位置ＣＰとが一致するように、ステージ１２を移動させる。次に、制御
装置１３は、検査対象エリアの位置を読み込み、その位置に基づいて、検査対象エリアＴ
Ｂ２を撮影可能な位置にステージ１２を移動させる。そして、制御装置１３は、検査対象
エリアのサイズを読み込み、そのサイズに従ってステージ１２を移動させるとともに撮像
装置１４を制御し、検査対象エリアＴＢ２全体の画像データを生成する。
【００２７】
つまり、制御装置１３は、各検査領域の基準位置にステージ１２を移動させ、その位置
から各検査領域の検査対象エリアにステージ１２を移動させる。この場合、各検査対象エ
リアまでの移動距離は、それぞれの基準位置からの移動距離であり、各検査領域において
一致する。従って、各検査対象エリアにおける撮影開始位置が検査対象エリアのそれぞれ
において相対的に一致するため、撮影位置のズレをほぼゼロとすることができる。
【００２８】
従って、本実施の形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）本実施形態によれば、検査領域は、それぞれ、移動装置１１にて電気光学装置Ｗ
を複数回移動させてその移動される毎に撮像装置１４にて撮像することで全体が撮影可能
な大きさに形成されている。検査装置１０は、査領域内に設定された検査対象エリアを記
憶する記憶手段を有し、記憶手段から検査対象エリアを読出して、移動装置１１と撮像装
置１４とを制御して隣接する２つの検査領域における検査対象エリアの画像データをそれ
ぞれ取得し、両検査対象エリアの画像データを比較して各検査領域を検査するようにした
。この結果、検査領域内においてショット繋ぎのような部分を除いて検査対象エリアを設
定し、隣接する検査領域においてそれぞれの検査対象エリアの画像データを比較すること
で、必要とする領域のみを比較検査することができ、不要な領域に発生する異常を検出し
ないため、検査精度を向上させることができる。また、検査領域内に検査対象エリアを設
定することで、その検査対象エリアにおける移動装置の移動誤差が少なくなり、誤検出を
低減する、つまり検出精度を向上することができる。
【００２９】
（２）本実施形態によれば、記憶手段には、検査対象エリアの情報として、各検査領域
における基準点と、該基準点に対する検査対象エリアの相対位置情報と、検査対象エリア
のサイズとが記憶され、検査装置１０は、各検査領域の基準点の位置と、該基準点に対す
る検査対象エリアの相対位置とを読み出す。そして、移動装置１１を制御して各検査領域
の基準点から検査対象エリアに移動させるようにした。この結果、検査対象エリアへの移
動距離が各検査領域において同じとなるため、各検査対象エリアに移動装置を精度良く移
動させることができ、検査精度を向上することができる。
【００３０】
（３）本実施形態によれば、検査領域は、１つ又は複数の画素から構成され、画素Ｐは
、それぞれ異なる色の光が出射され少なくとも１つのサイズが異なる複数の光領域Ｒ，Ｇ
，Ｂと、該複数の光領域Ｒ，Ｇ，Ｂにおける光量をそれぞれ制御する複数の制御回路が形
成された制御領域ＲＣ，ＧＣ，ＢＣと、からなる。そして、検査対象エリアは少なくとも
１つの制御領域内に設定した。この結果、異常パターンが動作・性能に影響し難い光領域
に対する検査を行わないようにし、動作・性能に対する影響が大きい制御領域を検査する
ことで、必要な領域のみを検査することができ、検査時間を短縮することができる。
【００３１】
尚、上記実施形態は、以下の態様に変更してもよい。
・上記実施形態おいて、基準となる検査領域Ｐ１の右隣の検査領域Ｐ２を対象に比較を
行なったが、比較対象となる検査領域は左隣、下など４近傍及び８近傍に該当する位置で
も、所定の位置分移動した先（例えば２領域分右，３領域分下）等と指定してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】電気光学装置の一部拡大図。
【図２】パターン検査装置の概略構成図。
【図３】基準エリア及び検査エリアの説明図。
【図４】従来の検査処理の説明図。
【符号の説明】
【００３３】
１０…パターン検査装置、１１…移動装置、１２…ステージ、１３…制御装置、１４…
撮像装置、Ｒ，Ｇ，Ｂ…光領域、ＲＣ，ＧＣ，ＢＣ…制御領域、ＣＰ…基準位置、Ｐ，Ｐ
１，Ｐ２…検査領域、ＴＢ１，ＴＢ２…検査対象エリア、Ｗ…電気光学装置。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
同一パターンが形成された検査領域が隣接して設定され、その隣接する検査領域を撮像
装置にてそれぞれ撮像し、検査装置にて各検査領域の画像データを比較して各検査領域を
検査する電気光学装置の検査方法において、
前記検査領域は、それぞれ、移動装置にて前記電気光学装置を複数回移動させてその移
動される毎に前記撮像装置にて撮像することで全体が撮影可能な大きさに形成されており
、
前記検査装置は、
前記検査領域内に設定された検査対象エリアを記憶する記憶手段を有し、
前記記憶手段から前記検査対象エリアを読出して、前記移動装置と前記撮像装置とを制
御して隣接する２つの検査領域における検査対象エリアの画像データをそれぞれ取得し、
両検査対象エリアの画像データを比較して各検査領域を検査すること、
を特徴とする電気光学装置の検査方法。
【請求項２】
請求項１に記載の検査方法において、
前記記憶手段には、前記検査対象エリアの情報として、前記各検査領域における基準点
と、該基準点に対する前記検査対象エリアの相対位置情報と、前記検査対象エリアのサイ
ズとが記憶され、
前記検査装置は、前記各検査領域の基準点の位置と、該基準点に対する前記検査対象エ
リアの相対位置とを読み出し、前記移動装置を制御して各検査領域の基準点から検査対象
エリアに移動させること、
を特徴とする電気光学装置の検査方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の検査方法において、
前記検査領域は、１つ又は複数の画素から構成され、
前記画素は、それぞれ異なる色の光が出射され少なくとも１つのサイズが異なる複数の
光領域と、該複数の光領域における光量をそれぞれ制御する複数の制御回路が形成された
制御領域と、からなり、
前記検査対象エリアは少なくとも１つの前記制御領域内に設定されたことを特徴とする
電気光学装置の検査方法。
【請求項１】
同一パターンが形成された検査領域が隣接して設定され、その隣接する検査領域を撮像
装置にてそれぞれ撮像し、検査装置にて各検査領域の画像データを比較して各検査領域を
検査する電気光学装置の検査方法において、
前記検査領域は、それぞれ、移動装置にて前記電気光学装置を複数回移動させてその移
動される毎に前記撮像装置にて撮像することで全体が撮影可能な大きさに形成されており
、
前記検査装置は、
前記検査領域内に設定された検査対象エリアを記憶する記憶手段を有し、
前記記憶手段から前記検査対象エリアを読出して、前記移動装置と前記撮像装置とを制
御して隣接する２つの検査領域における検査対象エリアの画像データをそれぞれ取得し、
両検査対象エリアの画像データを比較して各検査領域を検査すること、
を特徴とする電気光学装置の検査方法。
【請求項２】
請求項１に記載の検査方法において、
前記記憶手段には、前記検査対象エリアの情報として、前記各検査領域における基準点
と、該基準点に対する前記検査対象エリアの相対位置情報と、前記検査対象エリアのサイ
ズとが記憶され、
前記検査装置は、前記各検査領域の基準点の位置と、該基準点に対する前記検査対象エ
リアの相対位置とを読み出し、前記移動装置を制御して各検査領域の基準点から検査対象
エリアに移動させること、
を特徴とする電気光学装置の検査方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の検査方法において、
前記検査領域は、１つ又は複数の画素から構成され、
前記画素は、それぞれ異なる色の光が出射され少なくとも１つのサイズが異なる複数の
光領域と、該複数の光領域における光量をそれぞれ制御する複数の制御回路が形成された
制御領域と、からなり、
前記検査対象エリアは少なくとも１つの前記制御領域内に設定されたことを特徴とする
電気光学装置の検査方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００８−１５１６３４（Ｐ２００８−１５１６３４Ａ）
【公開日】平成２０年７月３日（２００８．７．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３３９４９７（Ｐ２００６−３３９４９７）
【出願日】平成１８年１２月１８日（２００６．１２．１８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年７月３日（２００８．７．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１２月１８日（２００６．１２．１８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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