説明

電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法及び電磁波シールド用メッシュ体

【課題】 黒色度が高く且つメッシュ材の金属酸化被膜に対する接着性も高く、さらには、細パターンの形成が容易であり、簡便且つ安価に電磁波シールド用メッシュ体を黒化することができる電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法を提供する。
【解決手段】 電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法は、所定の透明基材11の上に所定の金属からなるメッシュ材12が設けられた電磁波シールド用メッシュ体を用意すると、電磁波シールド用メッシュ体におけるメッシュ材12の上に、黒色インキ層13bを含む熱転写リボン13を当接させて熱転写を行い、当該メッシュ材12の金属部分上に黒色層を形成させる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ディスプレイ装置に適用して好適な電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法、及びこの黒化方法を用いて製造された電磁波シールド用メッシュ体に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、テレビジョン装置をはじめとし、薄型且つ大画面のディスプレイ装置が人気を博しており、従来のCRT(Cathode Ray Tube)の他、プラズマ・ディスプレイ・パネル(Plasma Display Panel;PDP)、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display;LCD)、及び有機エレクトロルミネッセンス(Organic ElectroLuminescent)ディスプレイ等、その種類も豊富となっている。
【0003】
このようなディスプレイ装置は、その原理上、電磁波を放出するという問題を有している。そのため、これらディスプレイ装置においては、発生した電磁波を遮蔽するために、その前面に、電磁波のシールド機能と透光性とを併せ持つ電磁波シールド用メッシュ体を設け、当該電磁波シールド用メッシュ体を接地電極に接続することが行われている。かかる電磁波シールド用メッシュ体としては、例えば特許文献1乃至特許文献3等に記載された技術を適用することができる。
【0004】
【特許文献1】特許第3716800号公報
【特許文献2】特開2004−247644号公報
【特許文献3】特開2003−266583号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ところで、電磁波シールド用メッシュ体には、コントラストを高めることを目的として、通常、酸化コバルトによる黒化処理が施されている。具体的には、この黒化処理は、銅等のメッシュ材の表面に硝酸コバルトや塩化コバルト等を塗布したものを、95℃程度の高温の亜塩素酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、リン酸三ナトリウムの水溶液中に数分間浸漬させ、さらに加熱することにより、当該メッシュ材の表面に酸化コバルト被膜を形成することによって行うことができる。
【0006】
しかしながら、酸化コバルト処理は、銅酸化被膜の除去等の前処理を必要とするとともに、ウェットプロセスであるために煩雑で廃水処理を必要とし、さらに、コバルトというコストが高い材料を必要とする問題があった。また、酸化コバルト処理は、高温の水溶液中にメッシュ材を浸漬させるという危険な作業をともない、また、メッシュ材をラミネートしている透明基材に影響を与えることから、完成品の性能を劣化させるという問題もあった。
【0007】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、黒色度が高く且つメッシュ材の金属酸化被膜に対する接着性も高く、さらには、細パターンの形成が容易であり、簡便且つ安価に電磁波シールド用メッシュ体を黒化することができる電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法、及びこの黒化方法を用いて製造された電磁波シールド用メッシュ体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本願発明者は、電磁波シールド用メッシュ体の黒化に適した各種方法を鋭意検討した結果、熱転写技術を適用することの有効性を見出し、本発明を完成させるに至った。
【0009】
すなわち、上述した目的を達成する本発明にかかる電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法は、所定の透明基材上に所定のメッシュパターンが形成された金属製メッシュ材が設けられて構成された電磁波シールド用メッシュ体を用意する第1の工程と、上記第1の工程にて用意された上記電磁波シールド用メッシュ体における上記金属製メッシュ材上に、黒色インキ層を含む熱転写媒体を当接させて熱転写を行い、当該金属製メッシュ材の金属部分上に黒色層を形成させる第2の工程とを備えることを特徴としている。
【0010】
このような本発明にかかる電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法においては、既存の金属製メッシュ材上に熱転写媒体を当接させて熱転写を行うことにより、当該熱転写媒体に含まれる黒色インキ層を当該金属製メッシュ材の金属部分上のみに転写させることができる。
【0011】
また、上述した目的を達成する本発明にかかる電磁波シールド用メッシュ体は、所定の透明基材と、上記透明基材上に設けられ、所定のメッシュパターンが形成された金属製メッシュ材と、黒色インキ層を含む熱転写媒体を上記金属製メッシュ材上に当接させて熱転写を行うことによって当該金属製メッシュ材の金属部分上に形成された黒色層とを備えることを特徴としている。
【0012】
このような本発明にかかる電磁波シールド用メッシュ体は、既存の金属製メッシュ材上に熱転写媒体を当接させて熱転写を行うことにより、当該熱転写媒体に含まれる黒色インキ層が当該金属製メッシュ材の金属部分上のみに転写されたものとなる。
【発明の効果】
【0013】
本発明によれば、熱転写媒体を用いた熱転写によって黒化処理を行うことから、従来の酸化コバルト処理のような煩雑で危険な作業をともなう処理を行う必要がなく、簡便且つ安価に電磁波シールド用メッシュ体を黒化することができる。また、本発明によれば、熱転写媒体を用いることにより、黒色度が高い上に、金属製メッシュ材の金属酸化被膜に対する接着性も高く、さらに、容易に細パターン化することができる。さらに、本発明によれば、熱転写を行うのみであることから、金属製メッシュ材をラミネートしている透明基材に影響を与えることがなく、高品質の電磁波シールド用メッシュ体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0014】
以下、本発明を適用した具体的な実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【0015】
この実施の形態は、プラズマ・ディスプレイ・パネル(Plasma Display Panel;PDP)、CRT(Cathode Ray Tube)、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display;LCD)、及び有機エレクトロルミネッセンス(Organic ElectroLuminescent)ディスプレイ等のディスプレイ装置に適用して好適な電磁波シールド用メッシュ体である。特に、この電磁波シールド用メッシュ体は、熱転写リボンを用いた転写を行うことにより、黒化処理が施されたものである。
【0016】
電磁波シールド用メッシュ体は、図1に平面図及び図2に断面図を示すように、所定の透明基材11の上に、所定のメッシュパターンが形成された銅等の所定の金属からなるメッシュ材12が設けられて構成される。
【0017】
透明基材11としては、例えば、ポリエチレンテレフタラートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂の他、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、エチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂等のフィルム状素材等を用いることができる。このうち、安価であり、取り扱い性が容易であるという観点から、透明基材11としてはポリエチレンテレフタラートを用いるのが望ましい。また、透明基材11としては、ディスプレイ装置の前面に設置する必要があることから、衝撃に対する耐性があり、ガラス飛散を防止する機能を有するものであるのが望ましい。
【0018】
また、メッシュ材12は、透明基材11に所定の金属薄膜をラミネートし、これをエッチングすることによって形成される。メッシュ材12の主材料となる金属薄膜としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン等の金属や、これら金属を組み合わせた合金からなるものを用いることができる。このうち、電磁波のシールド性が高く、メッシュパターン形成が容易であり、安価であるという観点から、メッシュ材12の主材料としては、銅、アルミニウム、ニッケルの薄膜を用いるのが望ましい。また、磁性シールド性をも要求される場合には、ニッケル、鉄、ステンレス、チタン等の常磁性金属からなる薄膜を、メッシュ材12の主材料として用いるのが望ましい。さらに、メッシュ材12のメッシュパターンは、ディスプレイ装置の表示画面前面に設置されたときにモアレ等の画像を乱す干渉縞が生じたりしないような形状であればよく、例えば格子等の幾何学的な模様の連続パターン等が望ましい。例えば格子模様とした場合における格子(開口部分)の形状としては、図1に示すような正方形の他、長方形、菱形、台形、平行四辺形等の四角形の他、正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形や、正六角形、八角形、十二角形、二十角形、円形、楕円形、星形等、任意の形状とすることができる。また、メッシュ材12は、電磁波のシールド機能とともに透光性を確保するために、金属部分の線幅Wが5〜50μm程度、線ピッチPが100μm以上、線厚Tが0.1〜40μm程度、全体に対する開口部分の面積比率が60%以上(望ましくは90%程度)となるように形成するのが望ましい。ただし、金属部分の線幅Wや線厚Tが厚すぎると、細パターンの形成が困難となり、視野角が狭くなる傾向にある一方で、線幅Wや線厚Tが薄すぎると、表面抵抗が大きくなり、電磁波のシールド効果が低下する傾向にある。
【0019】
本発明においては、このように構成される黒化処理前の電磁波シールド用メッシュ体を用意すると、この電磁波シールド用メッシュ体に対して、熱転写リボンを用いて黒化処理を施す。なお、黒化処理前の電磁波シールド用メッシュ体は、表示画面の大きさに切断加工して以下に示す黒化処理以降のプロセスに提供するようにしてもよいが、黒化処理以降のプロセスまでを一連のライン製造として行う場合には、切断前の長尺状のまま以降のプロセスに提供するのが望ましい。
【0020】
黒化処理は、図2に示すように、メッシュ材12の上に熱転写リボン13を当接させた状態で、ローラー装置やスタンプ装置等を用いて熱転写を行い、当該メッシュ材12の金属部分上のみに黒色層を形成させることによって行われる。
【0021】
ここで、熱転写リボン13は、メッシュ材12との付着性を良好にするための所定のプライマー層13aの上に黒色インキ層13bを塗布して構成される。なお、黒色インキ層13bのバインダとしては、メッシュ材12に対する黒色インキ層13bの転写性と転写後のメッシュ形状との観点から、ポリビニルブチラール樹脂を含有するものが望ましく、特に、数平均分子量が23000以下であり、水酸基が22mol%以上30mol%以下であり、且つ、ガラス転移温度Tgが60℃乃至70℃程度(より望ましくはガラス転移温度Tgが60℃乃至65℃)のポリビニルブチラール樹脂を含有するものが望ましい。このような熱転写リボン13は、黒色度が高い上に、銅等のメッシュ材12の金属酸化被膜に対する接着性も高く、さらに、メッシュ材12のうちインキを付着させたい金属部分には確実に付着させるとともに、インキを付着させたくない開口領域には付着させないように制御することが可能であり、細パターンの形成が容易である。なお、このようなポリビニルブチラール樹脂としては、例えば、積水化学工業社製の商品名:BL−S、BM−S、BH−S、BL−2H、BL−10等のブチラール樹脂を用いることができる。
【0022】
電磁波シールド用メッシュ体は、このような熱転写リボン13を用いて黒化処理が施されると、黒色インキ層13bの上に、所定の粘着層14を介して表面反射を防止するための反射防止フィルム(ARフィルム)15が設けられ、さらに、表示画面の大きさに切断加工されていない場合には切断加工されることによって完成する。完成した電磁波シールド用メッシュ体は、メッシュ材12のうち黒色インキ層13bが付着していない開口部分に粘着層14が浸透することから、表面の凹凸がないものとなり、表示画面を介して視認される画像を鮮明化することができる。
【0023】
このような電磁波シールド用メッシュ体は、熱転写リボン13を用いた熱転写によって黒化処理を行うことから、従来の酸化コバルト処理のような煩雑で危険な作業をともなう処理を行う必要がなく、簡便且つ安価に製造することができる。また、この電磁波シールド用メッシュ体は、上述したように、熱転写リボン13を用いることにより、黒色度が高い上に、メッシュ材12の金属酸化被膜に対する接着性も高く、さらに、容易に細パターン化することができる。さらに、この電磁波シールド用メッシュ体は、熱転写を行うのみであることから、メッシュ材12をラミネートしている透明基材11に影響を与えることがなく、品質を高く維持することができる。
【0024】
なお、上述した実施の形態では、熱転写リボンを用いて黒化処理を行うものとして説明したが、本発明は、熱転写によって黒色インキ層をメッシュ材に付着できる媒体であればリボンに限らず任意形状の媒体を適用することができる。このように、本発明は、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更が可能であることはいうまでもない。
【0025】
[実施例]
本願発明者は、実際に熱転写リボンを作製し、メッシュ材に対するインキの転写性と、転写後のメッシュ形状とを観察した。
【0026】
具体的には、本願発明者は、カーボン:バインダ:分散剤:メチルエチルケトン(MEK)=12:18:2:68の組成で、且つ、バインダとして用いる樹脂を変化させて、上述した黒色インキ層13bに相当するインキを作製した。そして、本願発明者は、ワックスと酢酸ビニルとからなるプライマー層(プライマー層13aに相当。)を0.5μmの厚さでポリエチレンテレフタラートフィルム上に塗布し、その上に、作製したインキを2μmの厚さで塗布し、熱転写リボンを作製した。
【0027】
インキのバインダとしては、次表1に示すように、積水化学工業社製ブチラール樹脂(商品名:BL−S、BM−S、BH−S)の3種類と、ユニチカ社製ポリエステル樹脂(商品名;UE3320、UE3350)の2種類とを用い、前者をそれぞれ実施例1乃至実施例3とし、後者を比較例1及び比較例2とした。
【0028】
【表1】

【0029】
このようにして作製した熱転写リボンを、銅製のメッシュ材上に重ねて当接させた状態で、温度120℃、線圧3.3kgf/cm、ライン速度0.5mm/分で熱ラミネートし、メッシュ材に対するインキの転写性の良し悪しを確認し、転写性が良好である場合を○、悪い場合を×とするとともに、転写したインキにバリ等が生じることなく綺麗にメッシュ形状を呈しているか否かを確認し、メッシュ形状が良好である場合を○、普通の場合を△、悪い場合を×とした。なお、メッシュ材は、金属部分の線幅を10μmとし、線ピッチを300μmとした。
【0030】
その結果、バインダとしてポリエステル樹脂を用いた比較例1及び比較例2においては、双方とも、メッシュ材に対するインキの転写性が悪く、メッシュ材の開口領域にまでインキがおよびメッシュ形状も粗悪なものであった。
【0031】
これに対して、バインダとしてブチラール樹脂を用いた実施例1乃至実施例3においては、いずれも、メッシュ材に対するインキの転写性が良好であり、転写後のインキが剥離することはなかった。また、メッシュ形状の観点からは、実施例1が最良の結果を得た。これは、バインダの数平均分子量が小さいほど、メッシュ材12のうちインキを付着させたい金属部分には確実に付着させることができ、インキを付着させたくない開口領域には付着させないように制御しやすいためである。したがって、バインダとしては、ブチラール樹脂を含有し、且つ、その数平均分子量が小さいものを用いることが、転写性及びメッシュ形状の双方の観点から望ましいことが確認された。
【図面の簡単な説明】
【0032】
【図1】本発明の実施の形態として示す電磁波シールド用メッシュ体の構成を説明する平面図である。
【図2】本発明の実施の形態として示す電磁波シールド用メッシュ体の構成を説明する断面図である。
【符号の説明】
【0033】
11 透明基材
12 メッシュ材
13 熱転写リボン
13a プライマー層
13b 黒色インキ層
14 粘着層
15 反射防止フィルム

【特許請求の範囲】
【請求項1】
所定の透明基材上に所定のメッシュパターンが形成された金属製メッシュ材が設けられて構成された電磁波シールド用メッシュ体を用意する第1の工程と、
上記第1の工程にて用意された上記電磁波シールド用メッシュ体における上記金属製メッシュ材上に、黒色インキ層を含む熱転写媒体を当接させて熱転写を行い、当該金属製メッシュ材の金属部分上に黒色層を形成させる第2の工程とを備えること
を特徴とする電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法。
【請求項2】
上記熱転写媒体に含まれる上記黒色インキ層は、バインダとしてブチラール樹脂を含有するものであること
を特徴とする請求項1記載の電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法。
【請求項3】
上記ブチラール樹脂は、数平均分子量が23000以下のものであること
を特徴とする請求項2記載の電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法。
【請求項4】
上記ブチラール樹脂は、水酸基が22mol%以上30mol%以下のものであること
を特徴とする請求項2又は請求項3記載の電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法。
【請求項5】
上記ブチラール樹脂は、ガラス転移温度が60℃乃至70℃のものであること
を特徴とする請求項2乃至請求項4のうちいずれか1項記載の電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法。
【請求項6】
上記熱転写媒体は、プライマー層を含み、上記プライマー層を介して上記金属製メッシュ材上に熱転写されること
を特徴とする請求項1記載の電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法。
【請求項7】
上記熱転写媒体は、熱転写リボンであること
を特徴とする請求項1記載の電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法。
【請求項8】
上記金属製メッシュ材上に熱転写された上記黒色インキ層上に、所定の粘着層を介して反射防止フィルムを設ける第3の工程を備えること
を特徴とする請求項1記載の電磁波シールド用メッシュ体の黒化方法。
【請求項9】
所定の透明基材と、
上記透明基材上に設けられ、所定のメッシュパターンが形成された金属製メッシュ材と、
黒色インキ層を含む熱転写媒体を上記金属製メッシュ材上に当接させて熱転写を行うことによって当該金属製メッシュ材の金属部分上に形成された黒色層とを備えること
を特徴とする電磁波シールド用メッシュ体。

【図1】
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【図2】
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【公開番号】特開2009−76824(P2009−76824A)
【公開日】平成21年4月9日(2009.4.9)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−246917(P2007−246917)
【出願日】平成19年9月25日(2007.9.25)
【出願人】(000108410)ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 (595)
【Fターム(参考)】