高分子組成物の製造方法および製造装置
【課題】均一分散性に優れた高分子組成物を製造するための方法および装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも１種類の高分子を含む高分子混合物を溶融状態で、平行な２つの面の間隙に２回以上通過させることを特徴とする高分子組成物の製造方法。被処理物を流入させるための流入口５および処理された物を吐出させるための吐出口６を備え、該流入口５と吐出口６との間の被処理物の流路において、平行な２つの面の間隙を２ヶ所以上（例えば２ａ、２ｂ）有することを特徴とする高分子組成物の製造装置１０Ａ。
【解決手段】少なくとも１種類の高分子を含む高分子混合物を溶融状態で、平行な２つの面の間隙に２回以上通過させることを特徴とする高分子組成物の製造方法。被処理物を流入させるための流入口５および処理された物を吐出させるための吐出口６を備え、該流入口５と吐出口６との間の被処理物の流路において、平行な２つの面の間隙を２ヶ所以上（例えば２ａ、２ｂ）有することを特徴とする高分子組成物の製造装置１０Ａ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般消費用、工業用または食用として広範な用途に用いられる高分子組成物の製造方法および製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
少なくとも１種類の高分子を含む２種以上の化合物を混練して高分子組成物を製造する方法として、バンバリーミキサー、ニーダー、ロールなどのバッチ式装置を用いるバッチ式製造法や、一軸混練装置、二軸混練装置、石臼式混練装置などの連続式装置を用いる連続式製造法が知られている。これらの装置の中では、伸張流動と剪断流動が起こり、高分子およびその配合剤あるいは複数の高分子のブレンド、ポリマーアロイなどの高分子組成物が製造される。例えば、特許文献１では樹脂やゴムなど高分子組成物を製造するための公知の技術がまとめられている。
【０００３】
しかしながら、高分子組成物を公知の混練装置あるいは混練方法を用いて製造しても、高分子組成物を構成する各成分の均一混合が困難であり、特に高分子組成物に含まれる添加剤の均一分散が困難であった。そのため、得られた高分子組成物を用いて製造された成形体の物性をその用途で要求されるレベルまで制御できないという問題があった。
【０００４】
例えば、導電剤を絶縁体高分子に分散させて半導体高分子を製造するときに、半導体高分子の抵抗をばらつきが小さくなるように制御することは困難であった。また例えば、いわゆる相溶性が互いに低い２種類の高分子をブレンドしてポリマーアロイを製造するときに、ポリマーアロイ中で分散されるポリマー粒子の粒径を１μ未満で制御したりすることは困難であった。
【特許文献１】「混練・分散の基礎と先端的応用技術」（２００３／１１／３０発行、テクノシステム）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、均一分散性に優れた高分子組成物を製造するための方法および装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、少なくとも１種類の高分子を含む高分子混合物を溶融状態で、平行な２つの面の間隙に２回以上通過させることを特徴とする高分子組成物の製造方法に関する。
【０００７】
本発明はまた、被処理物を流入させるための流入口および処理された物を吐出させるための吐出口を備え、該流入口と吐出口との間の被処理物の流路において、平行な２つの面の間隙を２ヶ所以上有することを特徴とする高分子組成物の製造装置に関する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、各種成分が十分に均一に分散された高分子組成物を製造できる。そのため、電気的特性や、靭性、剛性、および弾性等力学的特性の各種物性に優れた製品または半製品を容易に製造できる。
【０００９】
例えば、導電剤を絶縁体高分子に分散させて半導体高分子を製造するとき、本発明によれば、１０−９Ｓ／ｍ以下の低導電率領域、あるいは環状ベルト形状であった場合にその表面抵抗が１０９Ω／□以上の高抵抗領域でも、抵抗ばらつきが十分に低減された半導体高分子を製造できる。
【００１０】
また例えば、いわゆる相溶性が互いに低い２種類の高分子をブレンドしてポリマーアロイを製造するとき、本発明によれば、ポリマーアロイ中で分散されるポリマー粒子の粒径が１μ未満で制御されたポリマーアロイを製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
（高分子組成物の製造方法および製造装置）
本発明に係る高分子組成物の製造方法は、溶融状態の高分子混合物に対して間隙通過処理を行うことを特徴とする。
【００１２】
高分子混合物は少なくとも１種類の高分子を含む２種類以上の化合物の混合物である。高分子混合物に含まれる高分子としては、特に制限されず、公知の高分子が使用可能である。例えば、ポリフェニレンスルフィド樹脂（以下、ＰＰＳ樹脂という）、ナイロン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（以下、ＡＢＳ樹脂という）などの（社）高分子学会高分子ＡＢＣ研究会編 ポリマーＡＢＣハンドブック（２００１年１月１日発行、エヌティーエス）に記載された高分子である。
【００１３】
高分子のガラス転移点は、間隙通過処理時の高分子混合物の粘度が加熱によって後述する範囲内に制御できれば特に制限されるものではなく、例えば−７０〜３００℃、好ましくは１０〜２５０℃である。
本明細書中、ガラス転移点は示差走査熱量計（セイコーインスツルメンツ株式会社製）によって測定された値を用いている。
【００１４】
高分子混合物には２種類以上の高分子が含まれてよい。２種類以上の高分子が含まれても、それらの高分子は十分に均一に混合・分散される。
【００１５】
高分子混合物に含まれる２種類以上の高分子は、熱可塑性樹脂、エラストマー、熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）の中から選ばれる。例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、エチレンー酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポレチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ＡＢＳ樹脂（ＡＢＳ）、ＡＳ樹脂（ＡＳ）、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ナイロン（ポリアミド、ＰＡ）、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリオレフェニレンオキシド（ＰＰＯ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、変性ポリフェニレネーテル（ｍ−ＰＰＥ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、フッ素樹脂（ＦＲ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリイミド（ＰＩ）、天然ゴム（ＮＲ）、ポリブタジエン（ＢＲ）、ポリスチレンブタジエン（ＳＢＲ）、ポリイソプレン（ＩＲ）、熱可塑性ポリウレタンゴムなど（社）高分子学会高分子ＡＢＣ研究会編ポリマーＡＢＣハンドブック（ＮＴＳ）に記載された高分子の中から選ばれる組合せである。
【００１６】
有効な組合せとしては、ＰＰＳ＋ＰＡ、ＰＰＳ＋ＰＴＦＥ，ＰＰＳ＋ＰＰＥ、ＰＰＳ＋ＰＥＳ、ＰＰＳ＋ＰＥＥＫ、ＰＰＳ＋ＰＡＩ、ＰＰＳ＋ＰＳＦ、ＰＰＳ＋ＰＫＳ、ＰＰＳ＋ＰＣ、ＰＰＳ＋ＰＥＩ、ＰＰＳ＋ＰＥＴをはじめＰＰＳとポリエステル系樹脂との組合せ、ＰＰＳ＋ＰＥをはじめＰＰＳとポリオレフィン系樹脂の組合せ、ＰＰＳとエポキシ樹脂の組合せ、ＰＥ＋ＰＭＭＡ、ＰＥ＋ＥＶＡ、ＰＳ＋ＰＥをはじめＰＳとポリオレフィン系樹脂との組合せ、ＰＳ＋ＰＶＣ、ＰＳ＋ＰＰＥ、ＰＳ＋ＴＭＰＣ、ＡＳ＋ＴＭＰＣ、ＡＳ＋ＰＭＭＡ、ＡＳ＋ＰＶＣ、ＡＳ＋ＭＭＡ、ＰＣ＋ＡＢＳ、ＰＣ＋ＰＳ、ＰＣ＋ＰＡ、ＰＣ＋ＰＭＭＡ、ＰＣ＋ＰＢＴ、ＰＣ＋ＰＥＴ、ＰＡ＋ＰＥをはじめとするＰＡとポリオレフィン系樹脂、ＰＡ＋ＰＰＯ、ＰＶＣ＋ＥＶＡ、ＰＶＣ＋ＰＥをはじめとするＰＶＣとポリオレフィン系樹脂、ＰＶＣ＋ＮＢＲ、ＰＶＣ＋ＴＰＦＥ、ＰＰ＋ＰＥ、ＰＰ＋ニトリルゴムなどであり、通常必要な相溶化剤の添加が無くとも本発明の方法を用いると高分子の高次構造が小さくなるなど良好な結果が得られる。特に以下に示す組み合わせで使用されると本発明の効果が顕著に現れるので好ましい。中でも（１）の組み合わせでは、ＰＰＳ樹脂の高難燃性とナイロン樹脂の高靭性を備えることが可能となる。
（１）ＰＰＳ＋ＰＡ；
（２）ＰＣ＋ＡＢＳ。
【００１７】
上記組み合わせにおいてそれらの高分子は一般に互いに相溶性が低いために、十分に均一に混合・分散させることが困難であるが、そのような組み合わせであっても、十分に均一に混合・分散され得る。
【００１８】
上記組み合わせにおいて各種樹脂の割合は特に制限されることなく、均一な混合・分散を達成できる。特に、例えば組み合わせ（１）においてＰＰＳ樹脂／ナイロン樹脂の含有比率は重量比で９９／１〜７０／３０、特に９７／３〜８５／１５が好ましい。また例えば組み合わせ（２）においてポリカーボネート樹脂／ＡＢＳ樹脂の含有比率は重量比で２０／８０〜８０／２０、特に２０／８０〜６０／４０が好ましい。
【００１９】
高分子混合物には、得られる高分子組成物の用途に応じて、各種添加剤が含まれてよい。添加剤が含まれても、当該添加剤は十分に均一に混合・分散され得る。添加剤は各種用途で公知のものが使用可能であり、例えば、導電剤（導電性付与剤）、強化剤、酸化防止剤、熱安定剤、結晶核剤、紫外線防止剤、着色剤、難燃剤などが挙げられる。
【００２０】
導電剤としては、含有されることによって導電性を付与できるものであれば特に制限されない。例えば、電子写真用転写ベルトの分野で従来から使用されている公知の導電剤が使用可能である。そのような導電剤の具体例として、例えば、カーボン；アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化スズ、酸化第二スズゾル、酸化亜鉛、導電性ペロブスカイト等の導電性金属酸化物微粒子；ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリアニリンの導電性高分子等が挙げられる。経済的に導電性を付与するにはカーボンが好ましく使用される。カーボンは一般に樹脂中において分散され難いが、本発明においてはカーボンを十分に均一に分散させ得るためである。
【００２１】
導電剤の含有量は特に制限されず、通常はポリマー成分合計量１００重量部に対して２〜３０重量部であり、特に高分子組成物の表面抵抗を１０１０Ω／□程度にする観点からは、２〜２０重量部が好ましい。２種類以上の導電剤が含有される場合、それらの合計量が上記範囲内であればよい。
【００２２】
強化剤は強度、剛性、耐熱性、寸法安定性などのさらなる向上を達成するものである。強化剤としては繊維状および／または粒状の強化剤が使用できる。
【００２３】
繊維状強化剤としては、ガラス繊維、シラスガラス繊維、アルミナ繊維、炭化珪素繊維、セラミック繊維、アスベスト繊維、石コウ繊維、金属繊維などの無機繊維および炭素繊維等が挙げられる。
粒状の強化剤としては、ワラステナイト、セリサイト、カオリン、マイカ、クレー、ベントナイト、アスベスト、タルク、アルミナシリケートなどの珪酸塩、アルミナ、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタンなどの金属酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ドロマイトなどの炭酸塩、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどの硫酸塩、ガラス・ビーズ、窒化ホウ素、炭化珪素、シリカなどが挙げられ、これらは中空であってもよい。
【００２４】
強化剤の含有量は特に制限されず、通常はポリマー成分合計量１００重量部に対して１〜４０重量部であり、靭性の観点からは、１〜２０重量部が好ましい。２種類以上の強化剤が含有される場合、それらの合計量が上記範囲内であればよい。
【００２５】
添加剤の総含有量は、分散性、耐酸化性、難燃性などの機能のさらなる向上の観点から、ポリマー成分合計量１００重量部に対して１〜２０重量部、特に１〜１５重量部が好ましい。
【００２６】
本発明においては上記した高分子混合物を溶融状態で間隙通過処理する。
【００２７】
間隙通過処理とは、高分子混合物を溶融状態で、平行な２つの面の間隙に通過させる処理であり、本発明において当該間隙通過処理を２回以上、好ましくは３〜１０００回行う。これによって、高分子混合物に含まれる各成分の十分に均一な混合・分散が達成される。間隙を１回だけ通過させても、均一な混合・分散は十分に達成できない。たとえ、間隙における高分子混合物の移動方向の距離を長くしても、当該間隙を１回通過させただけでは、均一な混合・分散は十分に達成できない。間隙通過処理は、一軸あるいは二軸混練機で混練後行うことによりその回数を減らすことが可能で、例えば二軸混練機の先に取り付けた装置で連続的に行う場合には、３から１０回まで回数を減らすことができる。
【００２８】
本発明の効果が得られるメカニズムの詳細は明らかではないが、以下のメカニズムに基づくものと考えられる。溶融状態の高分子混合物が間隙に入るとき、高分子混合物が受ける圧力および高分子混合物の移動速度が大きく変化する。このとき、溶融物に対して剪断作用、伸長作用および折りたたみ作用が有効に働くものと考えられる。そのため、そのような変化を高分子混合物が２回以上受けることにより、結果として各成分の十分に均一な混合・分散が有効に達成されるものと考えられる。
【００２９】
間隙通過処理は、間隙を２ヶ所以上で有する装置において当該間隙を１回ずつ通過させることによって達成されてもよいし、または間隙を１ヶ所だけ有する装置を用いて２回以上処理を繰り返すことによって達成されてもよい。連続運転の効率性の観点からは、間隙通過処理は、間隙を２ヶ所以上で有する装置において当該間隙を１回ずつ通過させることによって達成されることが好ましい。
【００３０】
２以上の間隙における平行な２つの面間距離ｘはそれぞれ独立して７ｍｍ以下、特に０．０５〜７ｍｍであり、より均一な混合・分散、装置の小型化、およびベントアップの防止の観点からは、０．５〜５ｍｍが好ましく、より好ましくは０．５〜３ｍｍである。面間距離が大きすぎる間隙を通過させても、十分に均一な混合・分散は達成できない。
【００３１】
２以上の間隙における高分子混合物の移動方向ＭＤの距離ｙはそれぞれ独立して２ｍｍ以上であればよく、処理の効果のさらなる向上の観点からは、３ｍｍ以上が好ましく、より好ましくは５ｍｍ以上、さらに好ましくは１０ｍｍ以上である。距離ｙの上限値は特に制限されるものではないが、長すぎると、効率が悪いだけでなく、高分子混合物を移動方向ＭＤで移動させるための圧力を大きくする必要があり経済的ではない。よって距離ｙはそれぞれ独立して２〜１００ｍｍが好ましく、より好ましくは３〜５０ｍｍ、さらに好ましくは５〜３０ｍｍである。
【００３２】
２以上の間隙における幅方向ＷＤの距離ｚは特に制限されず、例えば、２０ｍｍ以上であり、通常は１００〜１０００ｍｍである。
【００３３】
高分子混合物が溶融状態で間隙を通過するときの流速は間隙の断面積１ｃｍ２あたりの値で１ｇ／分以上であればよく、本発明の効果において上限は特に制限はないが、あまり大きくなると装置の設置面積が大きくなり経済的ではない。好ましくは１０〜５０００ｇ／分、より好ましくは１０〜５００ｇ／分である。
【００３４】
本明細書中、断面積とは、移動方向ＭＤに対する垂直断面における面積を意味するものとする。
流速は吐出口から吐出される高分子混合物の吐出量（ｇ／分）を間隙の断面積（ｃｍ２）で除することによって測定できる。
【００３５】
間隙通過処理時の高分子混合物の粘度は、上記間隙通過時の流速が達成される限り特に制限されず、加熱温度によって制御できる。当該粘度は例えば、１〜１００００Ｐａ・ｓであり、好ましくは１０〜８０００Ｐａ・ｓである。
高分子混合物の粘度は粘弾性測定装置ＭＡＲＳ（ハーケー社製）によって測定された値を用いている。
【００３６】
溶融状態の高分子混合物を移動方向ＭＤに移動させるための圧力は、上記間隙通過時の流速が達成される限り特に制限されず、大気圧力との差圧で示される樹脂圧力で０．１ＭＰａ以上が好ましい。樹脂圧力は間隙における樹脂の吐出口から１ｍｍ以上内側で計測した高分子混合物の圧力であり、圧力計で直接計測することによって測定できる。圧力は高いほど効果的であるが樹脂圧力が高すぎると著しい剪断発熱が生じ、高分子の分解に至る場合があるので、樹脂圧力は５００ＭＰａ以下が好ましく、より好ましくは５０ＭＰａ以下である。この樹脂圧力については、良好な物性を示す高分子組成物を製造するための目安を示したもので、記載した樹脂圧力以外で本発明の目的を達成できるならばこれに制限を加えるものではない。
【００３７】
間隙通過処理時の高分子混合物の温度は、上記間隙通過時の流速が達成される限り特に制限されないが、４００℃を超える高温度では高分子の分解が生じるので４００℃以下が推奨される。また当該高分子混合物温度は、高分子のＴｇ以上の温度であると樹脂圧力が著しく高くならないので好ましい。２種類以上の高分子を使用する場合、それらの割合と各Ｔｇから加重平均により算出される値をＴｇとする。例えば、高分子ＡのＴｇがＴｇＡ（℃）、使用割合がＲＡ（％）であり、高分子ＢのＴｇがＴｇＢ（℃）、使用割合がＲＢ（％）であるとき（ＲＡ＋ＲＢ＝１００）、「（ＴｇＡ×ＲＡ／１００）＋（ＴｇＢ×ＲＢ／１００）」をＴｇとする。
間隙通過処理時の高分子混合物温度は、当該処理を行う装置の加熱温度を調整することによって制御できる。
【００３８】
本発明において通常は、間隙通過処理の直前に、高分子混合物を押出混練機により溶融・混練し、混練後に押し出された溶融状態の高分子混合物に対して間隙通過処理を所定回数で行う。溶融・混練方法は特に制限されず、例えば、剪断力を利用した公知の押出混練機が使用できる。具体的には、例えば、二軸押出混練機ＫＴＸ４６（神戸製鋼社製）等のような押出混練機を用いることができる。
溶融・混練条件は、特に制限されず、例えばスクリュー回転数は５０〜１０００ｒｐｍが採用可能であり、溶融混練温度は上記した間隙通過処理時の高分子混合物の温度と同様の温度が採用可能である。
【００３９】
以下、間隙通過処理を行う高分子組成物の製造装置を示す図面を用いて、間隙通過処理方法について具体的に説明する。そのような高分子組成物の製造装置は、被処理物を流入させるための流入口および処理された物を吐出させるための吐出口を備え、当該流入口と吐出口との間の被処理物の流路において、平行な２つの面の間隙を２ヶ所以上で有するものである。
【００４０】
例えば、間隙通過処理を２回行う高分子組成物の製造装置の一例を図１に示す。図１（Ａ）は、間隙通過処理を２回行う高分子組成物の製造装置について上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。図１の装置は全体として略直方体形状を有するものである。図１の装置は流入口５を押出混練機（図示しない）の吐出口に連結させておくことによって、当該押出混練機の押出力を、高分子混合物の移動の推進力として利用し、溶融状態の高分子混合物を全体として移動方向ＭＤに移動させ、間隙２ａ、２ｂを通過させることができる。このように図１の装置は押出混練機の吐出口に連結させて使用されるため、ダイと呼ぶこともできる。
【００４１】
図１の装置は、具体的には、被処理物を流入させるための流入口５および処理された物を吐出させるための吐出口６を備え、流入口５と吐出口６との間の被処理物の流路において、平行な２つの平面からなる間隙を２ヶ所（２ａ、２ｂ）で有する。通常はさらに、間隙２ａ、２ｂそれぞれの直前に断面積が当該間隙の断面積よりも大きい溜まり部１ａ、１ｂを有する。処理時において押出混練機から押し出された高分子混合物は溶融状態で、当該押出混練機の押出力に基づいて、図１の装置１０Ａにおける流入口５から溜まり部１ａに流入し、幅方向ＷＤに広がる。次いで、高分子混合物は移動方向ＭＤおよび幅方向ＷＤで連続的に、間隙２ａを通過して溜まり部１ｂに移動し、その後、さらに間隙２ｂを通過し、吐出口６から吐出される。
本明細書中、溜まり部の断面積は、移動方向ＭＤに対する垂直断面における当該溜まり部の最大の断面積を意味する。
【００４２】
図１において間隙２ａ、２ｂにおける平行な２つの面間距離ｘ１、ｘ２は前記距離ｘに相当し、それぞれ独立して前記距離ｘと同様の範囲内であればよい。
【００４３】
図１において間隙２ａにおける移動方向ＭＤの距離ｙ１および間隙２ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｙ２は前記距離ｙに相当し、それぞれ独立して前記距離ｙと同様の範囲内であればよい。
【００４４】
図１において間隙２ａ、２ｂにおける幅方向ＷＤの距離ｚ１は前記距離ｚに相当し、それぞれ独立して前記距離ｚと同様の範囲内であればよく、通常は共通の値である。
【００４５】
図１において溜まり部１ａ、１ｂにおける最大高さｈ１、ｈ２はそれぞれ、直後の間隙２ａ、２ｂの面間距離ｘ１、ｘ２より大きい値であり、通常はそれぞれ独立して３〜１００ｍｍ、好ましくは３〜５０ｍｍである。
【００４６】
本明細書中、溜まり部の最大高さは、直方体形状の装置の場合、幅方向ＷＤに対する垂直断面における最大高さを意味するものとする。
【００４７】
図１において間隙２ａの断面積Ｓ２ａとその直前の溜まり部１ａの最大断面積Ｓ１ａとの比率Ｓ１ａ／Ｓ２ａおよび間隙２ｂの断面積Ｓ２ｂとその直前の溜まり部１ｂの最大断面積Ｓ１ｂとの比率Ｓ１ｂ／Ｓ２ｂはそれぞれ独立して１．１以上、特に１．１〜１０００であり、より均一な混合・分散、装置の小型化、およびベントアップの防止の観点からは２〜１００が好ましく、より好ましくは３〜１５である。それらの断面積比率が小さすぎると、十分に均一な混合・分散は達成できない。
【００４８】
図１において溜まり部１ａにおける移動方向ＭＤの距離ｍ１および溜まり部１ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｍ２はそれぞれ独立して１ｍｍ以上であればよく、連続運転の効率の観点からは、２ｍｍ以上が好ましく、より好ましくは５ｍｍ以上、さらに好ましくは１０ｍｍ以上である。距離ｍ１およびｍ２の上限値は特に制限されるものではないが、長すぎると、効率が悪いだけでなく、流入口５に連結される押出混練機の押出力を大きくする必要があり経済的ではない。よって距離ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立して１〜３００ｍｍが好ましく、より好ましくは２〜１００ｍｍ、さらに好ましくは５〜５０ｍｍである。
【００４９】
また例えば、間隙通過処理を３回行う高分子組成物の製造装置の一例を図２に示す。図２（Ａ）は、間隙通過処理を３回行う高分子組成物の製造装置について上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、図２（Ｂ）は、図２（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。図２の装置は全体として略直方体形状を有するものである。図２の装置は流入口５を押出混練機（図示しない）の吐出口に連結させておくことによって、当該押出混練機の押出力を、高分子混合物の移動の推進力として利用し、溶融状態の高分子混合物を全体として移動方向ＭＤに移動させ、間隙２ａ、２ｂ、２ｃを通過させることができる。このように図２の装置もまた押出混練機の吐出口に連結させて使用されるため、ダイと呼ぶことができる。
【００５０】
図２の装置は、具体的には、被処理物を流入させるための流入口５および処理された物を吐出させるための吐出口６を備え、流入口５と吐出口６との間の被処理物の流路において、平行な２つの平面からなる間隙を３ヶ所（２ａ、２ｂ、２ｃ）で有する。通常はさらに、間隙２ａ、２ｂ、２ｃそれぞれの直前に、断面積が直後の間隙の断面積よりも大きい溜まり部１ａ、１ｂ、１ｃを有する。処理時において押出混練機から押し出された高分子混合物は溶融状態で、当該押出混練機の押出力に基づいて、図２の装置１０Ｂにおける流入口５から溜まり部１ａに流入し、幅方向ＷＤに広がる。次いで、高分子混合物は移動方向ＭＤおよび幅方向ＷＤで連続的に、間隙２ａを通過して溜まり部１ｂに移動し、その後、さらに間隙２ｂを通過して溜まり部１ｃに移動し、最後に間隙２ｃを通過し、吐出口６から吐出される。
【００５１】
図２において間隙２ａ、２ｂ、２ｃにおける平行な２つの面間距離ｘ１、ｘ２、ｘ３は前記距離ｘに相当し、それぞれ独立して前記距離ｘと同様の範囲内であればよい。
【００５２】
図２において間隙２ａにおける移動方向ＭＤの距離ｙ１、間隙２ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｙ２および間隙２ｃにおける移動方向ＭＤの距離ｙ３は前記距離ｙに相当し、それぞれ独立して前記距離ｙと同様の範囲内であればよい。
【００５３】
図２において間隙２ａ、２ｂ、２ｃにおける幅方向ＷＤの距離ｚ１は前記距離ｚに相当し、それぞれ独立して前記距離ｚと同様の範囲内であればよく、通常は共通の値である。
【００５４】
図２において溜まり部１ａ、１ｂ、１ｃにおける最大高さｈ１、ｈ２、ｈ３はそれぞれ、直後の間隙２ａ、２ｂ、２ｃの面間距離ｘ１、ｘ２、ｘ３より大きい値であり、通常はそれぞれ独立して、図１における最大高さｈ１、ｈ２と同様の範囲内である。
【００５５】
図２において間隙２ａの断面積Ｓ２ａとその直前の溜まり部１ａの最大断面積Ｓ１ａとの比率Ｓ１ａ／Ｓ２ａ、間隙２ｂの断面積Ｓ２ｂとその直前の溜まり部１ｂの最大断面積Ｓ１ｂとの比率Ｓ１ｂ／Ｓ２ｂおよび間隙２ｃの断面積Ｓ２ｃとその直前の溜まり部１ｃの最大断面積Ｓ１ｃとの比率Ｓ１ｃ／Ｓ２ｃはそれぞれ独立して、図１における比率Ｓ１ａ／Ｓ２ａおよび比率Ｓ１ｂ／Ｓ２ｂと同様の範囲内である。
【００５６】
図２において溜まり部１ａにおける移動方向ＭＤの距離ｍ１、溜まり部１ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｍ２および溜まり部１ｃにおける移動方向ＭＤの距離ｍ３はそれぞれ独立して、図１における距離ｍ１および距離ｍ２と同様の範囲内である。
【００５７】
本明細書中、「平行」は、２つの平面の間で達成される平行関係だけでなく、２つの曲面の間で達成される平行関係も含む概念で用いるものとする。すなわち、図１および図２において間隙２ａ、２ｂ、２ｃは平行な２つの平面からなっているが、これに制限されるものではなく、例えば、図３に示す間隙２ａや図４に示す間隙２ａ、２ｂ、２ｃのように、平行な２つの曲面からなっていてもよい。「平行」は、２つの面の関係において、それらの間の距離が一定であることを意味し、装置製造時の精度を考慮して、厳密に「一定」であることを要さず、実質的に「一定」であればよい。従って、「平行」は本発明の目的が達成される範囲内で「略平行」であってよい。略直方体形状の装置において、幅方向ＷＤに対する垂直断面における間隙の形状および位置は幅方向において変わらないものとする。略円柱体形状の装置において、軸を通る断面における間隙の形状および位置は装置の軸を軸とした周方向において変わらないものとする。
【００５８】
図３は、間隙通過処理を２回行う高分子組成物の製造装置の一例を示す。図３（Ａ）は、間隙通過処理を２回行う高分子組成物の製造装置について上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。図３の装置は全体として略直方体形状を有するものである。図３の装置は流入口５を押出混練機（図示しない）の吐出口に連結させておくことによって、当該押出混練機の押出力を、高分子混合物の移動の推進力として利用し、溶融状態の高分子混合物を全体として移動方向ＭＤに移動させ、間隙２ａ、２ｂを通過させることができる。このように図３の装置もまた押出混練機の吐出口に連結させて使用されるため、ダイと呼ぶことができる。
【００５９】
図３の装置は、間隙２ａが平行な２つの曲面からなること以外、図１の装置と同様であるため、図３の装置の詳しい説明を省略する。
【００６０】
図４は、間隙通過処理を３回行う高分子組成物の製造装置の一例を示す。図４（Ａ）は、間隙通過処理を３回行う高分子組成物の製造装置の概略見取り図であり、図４（Ｂ）は、図４（Ａ）の装置の軸を通るＰ−Ｑ断面における概略断面図である。図４の装置は全体として略円柱体形状を有し、装置の小型化を可能にする。図４の装置は流入口５を押出混練機（図示しない）の吐出口に連結させておくことによって、当該押出混練機の押出力を、高分子混合物の移動の推進力として利用し、溶融状態の高分子混合物を全体として移動方向ＭＤに移動させ、間隙２ａ、２ｂ、２ｃを通過させることができる。このように図４の装置もまた押出混練機の吐出口に連結させて使用されるため、ダイと呼ぶことができる。
【００６１】
図４の装置は、具体的には、被処理物を流入させるための流入口５および処理された物を吐出させるための吐出口６を備え、流入口５と吐出口６との間の被処理物の流路において、平行な２つの曲面からなる間隙を３ヶ所（２ａ、２ｂ、２ｃ）で有する。通常はさらに、間隙２ａ、２ｂ、２ｃそれぞれの直前に、断面積が直後の間隙の断面積よりも大きい溜まり部１ａ、１ｂ、１ｃを有する。処理時において押出混練機から押し出された高分子混合物は溶融状態で、当該押出混練機の押出力に基づいて、図４の装置１０Ｄにおける流入口５から溜まり部１ａに流入し、半径方向に広がる。次いで、高分子混合物は移動方向ＭＤおよび周方向ＰＤで連続的に、間隙２ａを通過して溜まり部１ｂに移動し、その後、さらに間隙２ｂを通過して溜まり部１ｃに移動し、最後に間隙２ｃを通過し、吐出口６から吐出される。
【００６２】
図４において間隙２ａ、２ｂ、２ｃにおける平行な２つの面間距離ｘ１、ｘ２、ｘ３は前記距離ｘに相当し、それぞれ独立して前記距離ｘと同様の範囲内であればよい。
【００６３】
図４において間隙２ａにおける移動方向ＭＤの距離ｙ１、間隙２ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｙ２および間隙２ｃにおける移動方向ＭＤの距離ｙ３は前記距離ｙに相当し、それぞれ独立して前記距離ｙと同様の範囲内であればよい。
【００６４】
図４において溜まり部１ａにおける最大高さｈ１は特に制限されるものではなく、通常は１〜１００ｍｍ、好ましくは１〜５０ｍｍである。
図４において溜まり部１ｂ、１ｃにおける最大高さｈ２、ｈ３はそれぞれ、直後の間隙２ｂ、２ｃの面間距離ｘ２、ｘ３より大きい値であり、通常はそれぞれ独立して、図１における最大高さｈ１、ｈ２と同様の範囲内である。
本明細書中、溜まり部の最大高さは、略円柱体形状の装置の場合、装置の軸を通る断面における直径方向の最大高さを意味するものとする。
【００６５】
図４において間隙２ａの断面積Ｓ２ａとその直前の溜まり部１ａの最大断面積Ｓ１ａとの比率Ｓ１ａ／Ｓ２ａは１．２以上、特に１．２〜１０であり、より均一な混合・分散、装置の小型化、およびベントアップの防止の観点からは１．２〜７が好ましく、より好ましくは１．２〜５である。それらの断面積比率が小さすぎると、十分に均一な混合・分散は達成できない。
【００６６】
図４において間隙２ｂの断面積Ｓ２ｂとその直前の溜まり部１ｂの最大断面積Ｓ１ｂとの比率Ｓ１ｂ／Ｓ２ｂおよび間隙２ｃの断面積Ｓ２ｃとその直前の溜まり部１ｃの最大断面積Ｓ１ｃとの比率Ｓ１ｃ／Ｓ２ｃはそれぞれ独立して、図１における比率Ｓ１ａ／Ｓ２ａおよび比率Ｓ１ｂ／Ｓ２ｂと同様の範囲内である。
【００６７】
図４において溜まり部１ａにおける移動方向ＭＤの距離ｍ１、溜まり部１ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｍ２および溜まり部１ｃにおける移動方向ＭＤの距離ｍ３はそれぞれ独立して、図１における距離ｍ１および距離ｍ２と同様の範囲内である。
【００６８】
図１〜図４に記載の装置は、通常、樹脂の混練装置および押出装置の分野で従来から吐出口に取り付けて使用されるダイの製造に使用される材料から製造される。
【００６９】
間隙通過処理後は、間隙通過処理された高分子混合物を急冷する。間隙通過処理によって達成された各種成分の十分に均一な混合・分散形態が急冷によって、有効に維持される。
【００７０】
急冷は、間隙通過処理によって得られた溶融状態の高分子組成物をそのまま０〜６０℃の水に浸漬することによって達成できる。−４０℃〜６０℃の気体で冷却するか、−４０℃〜６０℃の金属に接触させることによって、急冷を達成してもよい。急冷は必ずしも行わなければならないというわけではなく、例えば放置冷却するだけでも、各種成分の十分に均一な混合・分散形態は維持できる。
【００７１】
冷却された高分子組成物は、次工程での処理を容易にするために、通常、粉砕によってペレタイズされる。
【００７２】
本発明においては、高分子混合物を間隙通過処理する直前に行われる溶融・混練処理のさらに前に、高分子混合物を構成する少なくとも一部の成分を予め混合処理してもよい。例えば、２種類以上の高分子および添加剤を含む高分子組成物を製造する場合、まず、少なくとも１種類の高分子および添加剤を予め混合処理した後で、所望により少なくとも１種類の高分子をさらに添加する。次いで、間隙通過処理直前の溶融・混練処理を行い、さらにその後で間隙通過処理を所定回数で行う。また例えば、全成分を予め混合処理した後で、間隙通過処理直前の溶融・混練処理を行い、さらにその後で間隙通過処理を所定回数で行う。これによって、各種成分の混合・分散がより一層有効に達成される。
【００７３】
混合方法としては、所定の成分を単に乾式で混合するドライブレンド法を採用してもよいし、または所定の成分を従来の溶融混練方法によって溶融混練、冷却および粉砕する溶融混練法を採用してもよい。溶融混練法を採用する場合、前記と同様の押出混練機が使用可能で、このとき押出混練機は吐出口に従来から公知のダイが取り付けられて使用されてよい。
【００７４】
（高分子組成物の用途）
以上の方法で製造された本発明の高分子組成物を、射出成形法、押出成形法、圧縮成形法、吹込成形法、射出圧縮成形法などの公知の各種成形法に適用することによって、任意の形状が付与された成形体を製造できる。例えば、ベルト（特にシームレス環状ベルト）、フィルム、パイプ、繊維などの形状を有する成形体を製造できる。成形法は、特に射出成形法、押出成形法が好適である。本発明においては、いずれの成形法を採用する場合も、成形後は急冷を行うことが好ましい。高分子組成物において達成された各種成分の十分に均一な混合・分散形態が、成形体においてもより一層有効に維持されるためである。
【００７５】
特に、本発明の高分子組成物が電子写真用転写ベルトの製造に使用される場合、高分子組成物には通常、導電剤が含有される。本発明の高分子組成物および当該組成物を用いて製造された成形体は添加剤の均一分散性が向上するので、導電剤が配合されると、導電剤の均一な分散が達成される。その結果、成形体は全体にわたって均一な導電性を有する。特に成形体が電子写真用シームレス環状転写ベルトである場合は、当該転写ベルトの周方向において比較的均一な電気抵抗値を有し得る。
【００７６】
本発明の高分子組成物を用いて製造された成形体は各種用途に適用できる。そのような用途の一例を以下に示す。例えば、発電機、電動機、変圧器、変流器、電圧調整器、整流器、インバーター、継電器、電力用接点、開閉器、機遮断機、ナイフスイッチ、他極ロッド、電気部品キャビネットなどの電気機器部品、センサー、ＬＥＤランプ、コネクター、ソケット、抵抗器、リレーケース、小型スイッチ、コイルボビン、コンデンサー、バリコンケース、光ピックアップ、発振子、各種端子板、変成器、プラグ、プリント基板、チューナー、スピーカー、マイクロフォン、ヘッドフォン、小型モーター、磁気ヘッドベース、パワーモジュール、半導体、液晶、ＦＤＤキャリッジ、ＦＤＤシャーシ、モーターブラッシュホルダー、パラボラアンテナ、コンピューター関連部品等に代表される電子部品；ＶＴＲ部品、テレビ部品、アイロン、ヘアードライヤー、炊飯器部品、電子レンジ部品、音響部品、オーディオ・レーザーディスク・コンパクトディスク等の音声機器部品、照明部品、冷蔵庫部品、エアコン部品、タイプライター部品、ワードプロセッサー部品等に代表される家庭・事務電気製品部品；オフィスコンピューター関連部品、電話器関連部品、ファクシミリ関連部品、複写機関連部品、洗浄用治具、モーター部品、ライター、タイプライターなどに代表される機械関連部品：顕微鏡、双眼鏡、カメラ、時計等に代表される光学機器・精密機械関連部品；オルタネーターターミナル、オルタネーターコネクター、ＩＣレギュレーター、ライトディヤー用ポテンシオメーターベース、排気ガスバルブ等の各種バルブ、燃料関係・排気系・吸気系各種パイプ、エアーインテークノズルスノーケル、インテークマニホールド、燃料ポンプ、エンジン冷却水ジョイント、キャブレターメインボディー、キャブレタースペーサー、排気ガスセンサー、冷却水センサー、油温センサー、ブレーキパットウェアーセンサー、スロットルポジションセンサー、クランクシャフトポジションセンサー、エアーフローメーター、ブレーキパッド摩耗センサー、エアコン用サーモスタットベース、暖房温風フローコントロールバルブ、ラジエーターモーター用ブラッシュホルダー、ウォーターポンプインペラー、タービンベイン、ワイパーモーター関係部品、デュストリビューター、スタータースイッチ、スターターリレー、トランスミッション用ワイヤーハーネス、ウィンドウォッシャーノズル、エアコンパネルスイッチ基板、燃料関係電磁気弁用コイル、ヒューズ用コネクター、ホーンターミナル、電装部品絶縁板、ステップモーターローター、ランプソケット、ランプリフレクター、ランプハウジング、ブレーキピストン、ソレノイドボビン、エンジンオイルフィルター、点火装置ケース等の自動車・車両関連部品等々。
【００７７】
本発明の高分子組成物に導電剤、特にカーボンを配合させ、当該組成物を電子写真用転写ベルトの製造に用いると、本発明の効果をさらに有効に得ることができる。電子写真用転写ベルトにおいて導電剤は均一に分散させることが困難であったが、本発明においては簡便に均一に分散させることができるためである。電子写真用転写ベルトは、感光体上に形成されたトナー像を自己の表面に一旦、転写させた後、転写されたトナー像を紙等の記録材にさらに転写させるための中間転写ベルトであってもよいし、または紙を自己の表面に静電気により吸着し、感光体上に形成されたトナー像をその紙に転写する直接転写ベルトであってもよい。
【００７８】
転写ベルトはシームレス環状形状を有することが好ましい。そのような形状を有する転写ベルトは、成形の際に環状金型ダイの内部において溶融樹脂が合流する領域が他の領域と比較して導電剤含有割合が高くなり、電気抵抗値が低くなる傾向があるが、本発明の転写ベルトはそのような合流領域においても、他の領域と略同程度の電気抵抗値を達成できるためである。
【００７９】
転写ベルトは、前記高分子組成物からなるベルトをそのまま用いても良いが、転写効率を高めるために、表面だけを硬くすると、本発明の効果をさらに有効に得ることができる。表面だけを硬くする方法として無機材料をコーティングする方法がよいが、その方法は特に限定されるものではない。例えば、「ゾル−ゲル法応用技術の新展開」（ＣＭＣ出版）に記載されているような塗布による方法、「薄膜材料入門」（裳華房）に記載されたＣＶＤ，ＰＶＤ，プラズマコーティングなどの物理化学的方法など、公知の方法を採用できる。表面にコーティングされる無機材料は、本発明の目的を達成できる限り特に制限されず、物性と経済性を考慮すると、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃを含む酸化物系材料が特に好ましい。例えば、アモルファスシリカ薄膜、アモルファスアルミナ薄膜、アモルファスシリカアルミナ薄膜、アモルファスダイヤモンド薄膜などが推奨される。このように硬度が比較的高い無機薄膜をベルトにコーティングすることにより、ブレードとの摩擦磨耗寿命が改善されたり、転写性が向上する。
【００８０】
転写ベルトは、中間転写方式の画像形成装置に用いられる転写ベルトであり、特に継ぎ目のないシームレスベルトであることが好ましい。転写ベルトは、現像装置に単色トナーのみを持つモノカラー画像形成装置、１つの潜像担持体に対してＹ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）、Ｂ（ブラック）の現像器が備わり、各色の現像器ごとに潜像担持体上での現像およびトナー像の転写ベルトへの一次転写を行うサイクル方式フルカラー画像形成装置、１つの潜像担持体に対して１つの現像器が備わった各色の画像形成ユニットが直列に配置され、各色の画像形成ユニットごとに潜像担持体上での現像およびトナー像の転写ベルトへの一次転写を行うタンデム方式フルカラー画像形成装置などに適用することができる。本発明の転写ベルトを適用することにより文字の中抜けやトナーの飛び散りを抑制できる画像形成装置とすることができる。
【００８１】
例えば、図５に示すようなタンデム方式フルカラー画像形成装置において、転写ベルト１は数本のローラー５２、５３、５４等に張架され、当該転写ベルト５１に沿って直列に、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）およびＢ（ブラック）の画像形成ユニット５５，５６，５７，５８が配置されている。転写ベルト５１は矢印の方向に回転され、各画像形成ユニットで潜像担持体（感光体）（５９，６０，６１，６２）上に形成されたトナー像が一次転写ローラ（６３，６４，６５，６６）により転写ベルト５１上に順次、一次転写される。その後、転写ベルト５１上に形成された４色トナー像は二次転写ローラ６７と押圧ローラ５２との間で記録材（記録紙）６８に二次転写されるようになっている。
【００８２】
各画像形成ユニット（５５、５６、５７、５８）では、潜像担持体（５９、６０、６１、６２）は表面を帯電器（例えば、６９）により一様に帯電され、露光器（例えば、７０）により画像に対応する静電潜像を形成される。形成された静電潜像は現像器（例えば、７１）で現像され、トナー像が一次転写ローラ（例えば、６３）によって転写ベルトに転写された後は、図示しないクリーナ等により残留トナーを除去されるようになっている。
【実施例】
【００８３】
（実施例１）
ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド；東レ社製、Ｔｇ＝９７℃）８４ｋｇおよび酸性カーボン（デグサ社製）１０ｋｇの混合物を二軸押出混練機で内部温度３００℃および吐出量３０ｋｇ／時の条件にて溶融混練した（予備混合工程）。上記押出混練機のダイは直径５ｍｍの棒状に押し出すストランドダイであった。その後、混練物を３０℃の水に浸漬することによって急冷し、ペレット化して、高分子組成物を得た。この高分子組成物９４ｋｇと６ナイロン（東レ社製、Ｔｇ＝４８℃）６ｋｇの混合物を、図２に示すダイを吐出口に取り付けた二軸押出混練機（ＫＴＸ４６；神戸製鋼社製）で内部温度２９５℃、吐出量３０ｋｇ／時および樹脂圧力４ＭＰａの条件にて溶融混練した（混練工程および間隙通過工程）。詳しくは二軸押出混練機から吐出された高分子組成物は溶融状態で、図２のダイ１０における流入口５から溜まり部１ａに流入した後、間隙２ａを通過して溜まり部１ｂに移動した。その後、間隙２ｂを通過して溜まり部１ｃに移動し、最後に間隙２ｃを通過した。間隙２ｃを通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で８３．３ｇ／分であった。間隙２ｃから吐出した混練物を３０℃の水に浸漬することによって急冷し、ペレタイザーによりペレット状に粉砕して、高分子組成物を得た。
【００８４】
図２に示すダイは以下に示す寸法を有するもので、二軸押出混練機の内部温度と同様の温度に加熱して用いた。
【００８５】
溜まり部１ａ；最大高さｈ１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ａ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１＝２０ｍｍ；
間隙２ａ；面間距離ｘ１＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ａ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｂ；最大高さｈ２＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｂ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ２＝２０ｍｍ；
間隙２ｂ；面間距離ｘ２＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｂ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ２＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｃ；最大高さｈ３＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｃ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ３＝２０ｍｍ；
間隙２ｃ；面間距離ｘ３＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｃ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ３＝３０ｍｍ。
【００８６】
得られた高分子組成物を、２９０℃に加温した環状金型ダイ及び７５℃に設定した冷却用サイジングダイを取り付けた急冷可能な成形機にて押出成形して、シームレス環状形状の中間転写ベルト（厚み０．１ｍｍ）を得た（成形工程）。この中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で、抵抗計（ハイレスタ；三菱油化電子社製）により測定したところ、平均値は２×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１００．２であった。周方向の抵抗ばらつきとは、測定値について最大値／最小値を算出した値である。表面抵抗の測定電圧は５００Ｖ、測定時間は１０秒間であった。
【００８７】
ＭＩＴ値は１８０００であった。ＭＩＴ値はＭＩＴ揉疲労試験機（ＭＩＴ−Ｄ；東洋精機製）を用いて、加重２５０ｇ、振り角９０°、回数１７５回／分にて計測した。数値は破断したときの振り回数で示し、５サンプルの平均値である。
【００８８】
（実施例２）
以下に示す寸法を有する図２のダイを用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。間隙２ｃを通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で１６６．７ｇ／分であった。
【００８９】
溜まり部１ａ；最大高さｈ１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ａ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１＝２０ｍｍ；
間隙２ａ；面間距離ｘ１＝１ｍｍ、断面積Ｓ２ａ３ｃｍ２、移動方向距離ｙ１＝２ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｂ；最大高さｈ２＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｂ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ２＝２０ｍｍ；
間隙２ｂ；面間距離ｘ２＝１ｍｍ、断面積Ｓ２ｂ３ｃｍ２、移動方向距離ｙ２＝２ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｃ；最大高さｈ３＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｃ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ３＝２０ｍｍ；
間隙２ｃ；面間距離ｘ３＝１ｍｍ、断面積Ｓ２ｃ３ｃｍ２、移動方向距離ｙ３＝２ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ。
【００９０】
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は２．５×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１００．３であった。
ＭＩＴ値は２２０００であった。
【００９１】
（実施例３）
以下に示す寸法を有する図２のダイを用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。間隙２ｃを通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で８３．３ｇ／分であった。
【００９２】
溜まり部１ａ；最大高さｈ１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ａ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１＝５０ｍｍ；
間隙２ａ；面間距離ｘ１＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ａ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｂ；最大高さｈ２＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｂ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ２＝５０ｍｍ；
間隙２ｂ；面間距離ｘ２＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｂ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ２＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｃ；最大高さｈ３＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｃ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ３＝５０ｍｍ；
間隙２ｃ；面間距離ｘ３＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｃ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ３＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ。
【００９３】
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は３×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１００．２であった。
ＭＩＴ値は１９５００であった。
【００９４】
（実施例４）
以下に示す寸法を有する図１のダイを用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。間隙２ｂを通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で８３．３ｇ／分であった。
【００９５】
溜まり部１ａ；最大高さｈ１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ａ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１＝５０ｍｍ；
間隙２ａ；面間距離ｘ１＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ａ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１＝１０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｂ；最大高さｈ２＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｂ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ２＝５０ｍｍ；
間隙２ｂ；面間距離ｘ２＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｂ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ２＝１０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ。
【００９６】
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は２．５×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１００．５であった。
ＭＩＴ値は１７０００であった。
【００９７】
（比較例１）
図２に示すダイを吐出口に取り付けた二軸押出混練機の代わりに、吐出口にダイを有さない二軸押出混練機を用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は１×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１０２．５であった。
ＭＩＴ値は３５００であった。
【００９８】
（実施例５）
以下の方法で得られた混合物を、以下に示す寸法を有する図２のダイを吐出口に取り付けた二軸押出混練機ＫＴＸ３０；神戸製鋼社製でシリンダー温度２２０℃、吐出量１２ｋｇ／時および樹脂圧力３ＭＰａの条件にて溶融混練したこと以外、実施例１と同様の方法により、高分子組成物を得た。間隙２ｃを通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で３３．３ｇ／分であった。
【００９９】
ポリカーボネート（帝人化成（株）製；商品名パンライトＬ−１２５０、Ｔｇ＝１５０℃）およびＡＢＳ樹脂（日本合成ゴム（株）製；商品名ＡＢＳ−１５、Ｔｇ＝１０５℃）を１：１の重量比でドライブレンドして、混合物を得た。
【０１００】
溜まり部１ａ；最大高さｈ１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ａ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１＝２０ｍｍ；
間隙２ａ；面間距離ｘ１＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ａ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｂ；最大高さｈ２＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｂ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ２＝２０ｍｍ；
間隙２ｂ；面間距離ｘ２＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｂ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ２＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｃ；最大高さｈ３＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｃ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ３＝２０ｍｍ；
間隙２ｃ；面間距離ｘ３＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｃ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ３＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ。
【０１０１】
得られた高分子組成物の透過電子顕微鏡写真では１μｍ以上の組織は観察されなかった。透過電子顕微鏡写真を図６に示す。
【０１０２】
（比較例２）
図２に示すダイを吐出口に取り付けた二軸押出混練機の代わりに、吐出口にダイを有さない二軸押出混練機を用いたこと以外、実施例５と同様の方法により、高分子組成物を得た。
得られた高分子組成物の透過電子顕微鏡写真では６μｍ以上の組織が観察された。透過電子顕微鏡写真を図７に示す。
【０１０３】
（比較例３）
以下に示す寸法を有する図８のダイを用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。間隙１０２を通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で８３．３ｇ／分であった。
【０１０４】
溜まり部１０１；最大高さｈ１０１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１０１＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１０１＝２ｍｍ；
間隙１０２；面間距離ｘ１０２＝２ｍｍ、断面積Ｓ１０２６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１０２＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１０２＝３００ｍｍ；
【０１０５】
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は２×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１０１．８であった。
ＭＩＴ値は５５００であった。
【０１０６】
（比較例４）
以下に示す寸法を有する図８のダイを用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。間隙１０２を通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で８３．３ｇ／分であった。
【０１０７】
溜まり部１０１；最大高さｈ１０１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１０１＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１０１＝２ｍｍ；
間隙１０２；面間距離ｘ１０２＝２ｍｍ、断面積Ｓ１０２６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１０２＝６０ｍｍ、幅方向距離ｚ１０２＝３００ｍｍ；
【０１０８】
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は４×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１０１．３であった。
ＭＩＴ値は８２００であった。
【産業上の利用可能性】
【０１０９】
本発明の高分子組成物の製造方法および製造装置は、電気、電子部品、自動車部品、一般機械部品など種々の広い分野に適用できる。特に、本発明の方法により製造された高分子組成物を用いて得られた転写ベルトは、電子写真式画像形成装置に用いられる直接転写ベルトもしくは中間転写ベルトに応用した場合にベルトの周方向の抵抗安定性と強度に優れたベルトを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】（Ａ）は、本発明の高分子組成物の製造方法を採用した製造装置の一例について、上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。
【図２】（Ａ）は、本発明の高分子組成物の製造方法を採用した製造装置の一例について、上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。
【図３】（Ａ）は、本発明の高分子組成物の製造方法を採用した製造装置の一例について、上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。
【図４】（Ａ）は、本発明の高分子組成物の製造方法を採用した製造装置の一例の概略見取り図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の装置の軸を通るＰ−Ｑ断面における概略断面図である。
【図５】本発明の方法により製造された高分子組成物の用途を説明するための画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図６】実施例５で得られた高分子組成物の透過電子顕微鏡写真である。
【図７】比較例２で得られた高分子組成物の透過電子顕微鏡写真である。
【図８】（Ａ）は、比較例３および比較例４で使用した高分子組成物の製造装置について、上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。
【符号の説明】
【０１１１】
１ａ：１ｂ：１ｃ：溜まり部、２ａ：２ｂ：２ｃ：間隙、５：流入口、６：吐出口、１０Ａ：１０Ｂ：１０Ｃ：１０Ｄ：本発明の高分子組成物の製造装置。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般消費用、工業用または食用として広範な用途に用いられる高分子組成物の製造方法および製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
少なくとも１種類の高分子を含む２種以上の化合物を混練して高分子組成物を製造する方法として、バンバリーミキサー、ニーダー、ロールなどのバッチ式装置を用いるバッチ式製造法や、一軸混練装置、二軸混練装置、石臼式混練装置などの連続式装置を用いる連続式製造法が知られている。これらの装置の中では、伸張流動と剪断流動が起こり、高分子およびその配合剤あるいは複数の高分子のブレンド、ポリマーアロイなどの高分子組成物が製造される。例えば、特許文献１では樹脂やゴムなど高分子組成物を製造するための公知の技術がまとめられている。
【０００３】
しかしながら、高分子組成物を公知の混練装置あるいは混練方法を用いて製造しても、高分子組成物を構成する各成分の均一混合が困難であり、特に高分子組成物に含まれる添加剤の均一分散が困難であった。そのため、得られた高分子組成物を用いて製造された成形体の物性をその用途で要求されるレベルまで制御できないという問題があった。
【０００４】
例えば、導電剤を絶縁体高分子に分散させて半導体高分子を製造するときに、半導体高分子の抵抗をばらつきが小さくなるように制御することは困難であった。また例えば、いわゆる相溶性が互いに低い２種類の高分子をブレンドしてポリマーアロイを製造するときに、ポリマーアロイ中で分散されるポリマー粒子の粒径を１μ未満で制御したりすることは困難であった。
【特許文献１】「混練・分散の基礎と先端的応用技術」（２００３／１１／３０発行、テクノシステム）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、均一分散性に優れた高分子組成物を製造するための方法および装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、少なくとも１種類の高分子を含む高分子混合物を溶融状態で、平行な２つの面の間隙に２回以上通過させることを特徴とする高分子組成物の製造方法に関する。
【０００７】
本発明はまた、被処理物を流入させるための流入口および処理された物を吐出させるための吐出口を備え、該流入口と吐出口との間の被処理物の流路において、平行な２つの面の間隙を２ヶ所以上有することを特徴とする高分子組成物の製造装置に関する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、各種成分が十分に均一に分散された高分子組成物を製造できる。そのため、電気的特性や、靭性、剛性、および弾性等力学的特性の各種物性に優れた製品または半製品を容易に製造できる。
【０００９】
例えば、導電剤を絶縁体高分子に分散させて半導体高分子を製造するとき、本発明によれば、１０−９Ｓ／ｍ以下の低導電率領域、あるいは環状ベルト形状であった場合にその表面抵抗が１０９Ω／□以上の高抵抗領域でも、抵抗ばらつきが十分に低減された半導体高分子を製造できる。
【００１０】
また例えば、いわゆる相溶性が互いに低い２種類の高分子をブレンドしてポリマーアロイを製造するとき、本発明によれば、ポリマーアロイ中で分散されるポリマー粒子の粒径が１μ未満で制御されたポリマーアロイを製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
（高分子組成物の製造方法および製造装置）
本発明に係る高分子組成物の製造方法は、溶融状態の高分子混合物に対して間隙通過処理を行うことを特徴とする。
【００１２】
高分子混合物は少なくとも１種類の高分子を含む２種類以上の化合物の混合物である。高分子混合物に含まれる高分子としては、特に制限されず、公知の高分子が使用可能である。例えば、ポリフェニレンスルフィド樹脂（以下、ＰＰＳ樹脂という）、ナイロン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（以下、ＡＢＳ樹脂という）などの（社）高分子学会高分子ＡＢＣ研究会編 ポリマーＡＢＣハンドブック（２００１年１月１日発行、エヌティーエス）に記載された高分子である。
【００１３】
高分子のガラス転移点は、間隙通過処理時の高分子混合物の粘度が加熱によって後述する範囲内に制御できれば特に制限されるものではなく、例えば−７０〜３００℃、好ましくは１０〜２５０℃である。
本明細書中、ガラス転移点は示差走査熱量計（セイコーインスツルメンツ株式会社製）によって測定された値を用いている。
【００１４】
高分子混合物には２種類以上の高分子が含まれてよい。２種類以上の高分子が含まれても、それらの高分子は十分に均一に混合・分散される。
【００１５】
高分子混合物に含まれる２種類以上の高分子は、熱可塑性樹脂、エラストマー、熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）の中から選ばれる。例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、エチレンー酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポレチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ＡＢＳ樹脂（ＡＢＳ）、ＡＳ樹脂（ＡＳ）、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ナイロン（ポリアミド、ＰＡ）、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリオレフェニレンオキシド（ＰＰＯ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、変性ポリフェニレネーテル（ｍ−ＰＰＥ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、フッ素樹脂（ＦＲ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリイミド（ＰＩ）、天然ゴム（ＮＲ）、ポリブタジエン（ＢＲ）、ポリスチレンブタジエン（ＳＢＲ）、ポリイソプレン（ＩＲ）、熱可塑性ポリウレタンゴムなど（社）高分子学会高分子ＡＢＣ研究会編ポリマーＡＢＣハンドブック（ＮＴＳ）に記載された高分子の中から選ばれる組合せである。
【００１６】
有効な組合せとしては、ＰＰＳ＋ＰＡ、ＰＰＳ＋ＰＴＦＥ，ＰＰＳ＋ＰＰＥ、ＰＰＳ＋ＰＥＳ、ＰＰＳ＋ＰＥＥＫ、ＰＰＳ＋ＰＡＩ、ＰＰＳ＋ＰＳＦ、ＰＰＳ＋ＰＫＳ、ＰＰＳ＋ＰＣ、ＰＰＳ＋ＰＥＩ、ＰＰＳ＋ＰＥＴをはじめＰＰＳとポリエステル系樹脂との組合せ、ＰＰＳ＋ＰＥをはじめＰＰＳとポリオレフィン系樹脂の組合せ、ＰＰＳとエポキシ樹脂の組合せ、ＰＥ＋ＰＭＭＡ、ＰＥ＋ＥＶＡ、ＰＳ＋ＰＥをはじめＰＳとポリオレフィン系樹脂との組合せ、ＰＳ＋ＰＶＣ、ＰＳ＋ＰＰＥ、ＰＳ＋ＴＭＰＣ、ＡＳ＋ＴＭＰＣ、ＡＳ＋ＰＭＭＡ、ＡＳ＋ＰＶＣ、ＡＳ＋ＭＭＡ、ＰＣ＋ＡＢＳ、ＰＣ＋ＰＳ、ＰＣ＋ＰＡ、ＰＣ＋ＰＭＭＡ、ＰＣ＋ＰＢＴ、ＰＣ＋ＰＥＴ、ＰＡ＋ＰＥをはじめとするＰＡとポリオレフィン系樹脂、ＰＡ＋ＰＰＯ、ＰＶＣ＋ＥＶＡ、ＰＶＣ＋ＰＥをはじめとするＰＶＣとポリオレフィン系樹脂、ＰＶＣ＋ＮＢＲ、ＰＶＣ＋ＴＰＦＥ、ＰＰ＋ＰＥ、ＰＰ＋ニトリルゴムなどであり、通常必要な相溶化剤の添加が無くとも本発明の方法を用いると高分子の高次構造が小さくなるなど良好な結果が得られる。特に以下に示す組み合わせで使用されると本発明の効果が顕著に現れるので好ましい。中でも（１）の組み合わせでは、ＰＰＳ樹脂の高難燃性とナイロン樹脂の高靭性を備えることが可能となる。
（１）ＰＰＳ＋ＰＡ；
（２）ＰＣ＋ＡＢＳ。
【００１７】
上記組み合わせにおいてそれらの高分子は一般に互いに相溶性が低いために、十分に均一に混合・分散させることが困難であるが、そのような組み合わせであっても、十分に均一に混合・分散され得る。
【００１８】
上記組み合わせにおいて各種樹脂の割合は特に制限されることなく、均一な混合・分散を達成できる。特に、例えば組み合わせ（１）においてＰＰＳ樹脂／ナイロン樹脂の含有比率は重量比で９９／１〜７０／３０、特に９７／３〜８５／１５が好ましい。また例えば組み合わせ（２）においてポリカーボネート樹脂／ＡＢＳ樹脂の含有比率は重量比で２０／８０〜８０／２０、特に２０／８０〜６０／４０が好ましい。
【００１９】
高分子混合物には、得られる高分子組成物の用途に応じて、各種添加剤が含まれてよい。添加剤が含まれても、当該添加剤は十分に均一に混合・分散され得る。添加剤は各種用途で公知のものが使用可能であり、例えば、導電剤（導電性付与剤）、強化剤、酸化防止剤、熱安定剤、結晶核剤、紫外線防止剤、着色剤、難燃剤などが挙げられる。
【００２０】
導電剤としては、含有されることによって導電性を付与できるものであれば特に制限されない。例えば、電子写真用転写ベルトの分野で従来から使用されている公知の導電剤が使用可能である。そのような導電剤の具体例として、例えば、カーボン；アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化スズ、酸化第二スズゾル、酸化亜鉛、導電性ペロブスカイト等の導電性金属酸化物微粒子；ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリアニリンの導電性高分子等が挙げられる。経済的に導電性を付与するにはカーボンが好ましく使用される。カーボンは一般に樹脂中において分散され難いが、本発明においてはカーボンを十分に均一に分散させ得るためである。
【００２１】
導電剤の含有量は特に制限されず、通常はポリマー成分合計量１００重量部に対して２〜３０重量部であり、特に高分子組成物の表面抵抗を１０１０Ω／□程度にする観点からは、２〜２０重量部が好ましい。２種類以上の導電剤が含有される場合、それらの合計量が上記範囲内であればよい。
【００２２】
強化剤は強度、剛性、耐熱性、寸法安定性などのさらなる向上を達成するものである。強化剤としては繊維状および／または粒状の強化剤が使用できる。
【００２３】
繊維状強化剤としては、ガラス繊維、シラスガラス繊維、アルミナ繊維、炭化珪素繊維、セラミック繊維、アスベスト繊維、石コウ繊維、金属繊維などの無機繊維および炭素繊維等が挙げられる。
粒状の強化剤としては、ワラステナイト、セリサイト、カオリン、マイカ、クレー、ベントナイト、アスベスト、タルク、アルミナシリケートなどの珪酸塩、アルミナ、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタンなどの金属酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ドロマイトなどの炭酸塩、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどの硫酸塩、ガラス・ビーズ、窒化ホウ素、炭化珪素、シリカなどが挙げられ、これらは中空であってもよい。
【００２４】
強化剤の含有量は特に制限されず、通常はポリマー成分合計量１００重量部に対して１〜４０重量部であり、靭性の観点からは、１〜２０重量部が好ましい。２種類以上の強化剤が含有される場合、それらの合計量が上記範囲内であればよい。
【００２５】
添加剤の総含有量は、分散性、耐酸化性、難燃性などの機能のさらなる向上の観点から、ポリマー成分合計量１００重量部に対して１〜２０重量部、特に１〜１５重量部が好ましい。
【００２６】
本発明においては上記した高分子混合物を溶融状態で間隙通過処理する。
【００２７】
間隙通過処理とは、高分子混合物を溶融状態で、平行な２つの面の間隙に通過させる処理であり、本発明において当該間隙通過処理を２回以上、好ましくは３〜１０００回行う。これによって、高分子混合物に含まれる各成分の十分に均一な混合・分散が達成される。間隙を１回だけ通過させても、均一な混合・分散は十分に達成できない。たとえ、間隙における高分子混合物の移動方向の距離を長くしても、当該間隙を１回通過させただけでは、均一な混合・分散は十分に達成できない。間隙通過処理は、一軸あるいは二軸混練機で混練後行うことによりその回数を減らすことが可能で、例えば二軸混練機の先に取り付けた装置で連続的に行う場合には、３から１０回まで回数を減らすことができる。
【００２８】
本発明の効果が得られるメカニズムの詳細は明らかではないが、以下のメカニズムに基づくものと考えられる。溶融状態の高分子混合物が間隙に入るとき、高分子混合物が受ける圧力および高分子混合物の移動速度が大きく変化する。このとき、溶融物に対して剪断作用、伸長作用および折りたたみ作用が有効に働くものと考えられる。そのため、そのような変化を高分子混合物が２回以上受けることにより、結果として各成分の十分に均一な混合・分散が有効に達成されるものと考えられる。
【００２９】
間隙通過処理は、間隙を２ヶ所以上で有する装置において当該間隙を１回ずつ通過させることによって達成されてもよいし、または間隙を１ヶ所だけ有する装置を用いて２回以上処理を繰り返すことによって達成されてもよい。連続運転の効率性の観点からは、間隙通過処理は、間隙を２ヶ所以上で有する装置において当該間隙を１回ずつ通過させることによって達成されることが好ましい。
【００３０】
２以上の間隙における平行な２つの面間距離ｘはそれぞれ独立して７ｍｍ以下、特に０．０５〜７ｍｍであり、より均一な混合・分散、装置の小型化、およびベントアップの防止の観点からは、０．５〜５ｍｍが好ましく、より好ましくは０．５〜３ｍｍである。面間距離が大きすぎる間隙を通過させても、十分に均一な混合・分散は達成できない。
【００３１】
２以上の間隙における高分子混合物の移動方向ＭＤの距離ｙはそれぞれ独立して２ｍｍ以上であればよく、処理の効果のさらなる向上の観点からは、３ｍｍ以上が好ましく、より好ましくは５ｍｍ以上、さらに好ましくは１０ｍｍ以上である。距離ｙの上限値は特に制限されるものではないが、長すぎると、効率が悪いだけでなく、高分子混合物を移動方向ＭＤで移動させるための圧力を大きくする必要があり経済的ではない。よって距離ｙはそれぞれ独立して２〜１００ｍｍが好ましく、より好ましくは３〜５０ｍｍ、さらに好ましくは５〜３０ｍｍである。
【００３２】
２以上の間隙における幅方向ＷＤの距離ｚは特に制限されず、例えば、２０ｍｍ以上であり、通常は１００〜１０００ｍｍである。
【００３３】
高分子混合物が溶融状態で間隙を通過するときの流速は間隙の断面積１ｃｍ２あたりの値で１ｇ／分以上であればよく、本発明の効果において上限は特に制限はないが、あまり大きくなると装置の設置面積が大きくなり経済的ではない。好ましくは１０〜５０００ｇ／分、より好ましくは１０〜５００ｇ／分である。
【００３４】
本明細書中、断面積とは、移動方向ＭＤに対する垂直断面における面積を意味するものとする。
流速は吐出口から吐出される高分子混合物の吐出量（ｇ／分）を間隙の断面積（ｃｍ２）で除することによって測定できる。
【００３５】
間隙通過処理時の高分子混合物の粘度は、上記間隙通過時の流速が達成される限り特に制限されず、加熱温度によって制御できる。当該粘度は例えば、１〜１００００Ｐａ・ｓであり、好ましくは１０〜８０００Ｐａ・ｓである。
高分子混合物の粘度は粘弾性測定装置ＭＡＲＳ（ハーケー社製）によって測定された値を用いている。
【００３６】
溶融状態の高分子混合物を移動方向ＭＤに移動させるための圧力は、上記間隙通過時の流速が達成される限り特に制限されず、大気圧力との差圧で示される樹脂圧力で０．１ＭＰａ以上が好ましい。樹脂圧力は間隙における樹脂の吐出口から１ｍｍ以上内側で計測した高分子混合物の圧力であり、圧力計で直接計測することによって測定できる。圧力は高いほど効果的であるが樹脂圧力が高すぎると著しい剪断発熱が生じ、高分子の分解に至る場合があるので、樹脂圧力は５００ＭＰａ以下が好ましく、より好ましくは５０ＭＰａ以下である。この樹脂圧力については、良好な物性を示す高分子組成物を製造するための目安を示したもので、記載した樹脂圧力以外で本発明の目的を達成できるならばこれに制限を加えるものではない。
【００３７】
間隙通過処理時の高分子混合物の温度は、上記間隙通過時の流速が達成される限り特に制限されないが、４００℃を超える高温度では高分子の分解が生じるので４００℃以下が推奨される。また当該高分子混合物温度は、高分子のＴｇ以上の温度であると樹脂圧力が著しく高くならないので好ましい。２種類以上の高分子を使用する場合、それらの割合と各Ｔｇから加重平均により算出される値をＴｇとする。例えば、高分子ＡのＴｇがＴｇＡ（℃）、使用割合がＲＡ（％）であり、高分子ＢのＴｇがＴｇＢ（℃）、使用割合がＲＢ（％）であるとき（ＲＡ＋ＲＢ＝１００）、「（ＴｇＡ×ＲＡ／１００）＋（ＴｇＢ×ＲＢ／１００）」をＴｇとする。
間隙通過処理時の高分子混合物温度は、当該処理を行う装置の加熱温度を調整することによって制御できる。
【００３８】
本発明において通常は、間隙通過処理の直前に、高分子混合物を押出混練機により溶融・混練し、混練後に押し出された溶融状態の高分子混合物に対して間隙通過処理を所定回数で行う。溶融・混練方法は特に制限されず、例えば、剪断力を利用した公知の押出混練機が使用できる。具体的には、例えば、二軸押出混練機ＫＴＸ４６（神戸製鋼社製）等のような押出混練機を用いることができる。
溶融・混練条件は、特に制限されず、例えばスクリュー回転数は５０〜１０００ｒｐｍが採用可能であり、溶融混練温度は上記した間隙通過処理時の高分子混合物の温度と同様の温度が採用可能である。
【００３９】
以下、間隙通過処理を行う高分子組成物の製造装置を示す図面を用いて、間隙通過処理方法について具体的に説明する。そのような高分子組成物の製造装置は、被処理物を流入させるための流入口および処理された物を吐出させるための吐出口を備え、当該流入口と吐出口との間の被処理物の流路において、平行な２つの面の間隙を２ヶ所以上で有するものである。
【００４０】
例えば、間隙通過処理を２回行う高分子組成物の製造装置の一例を図１に示す。図１（Ａ）は、間隙通過処理を２回行う高分子組成物の製造装置について上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。図１の装置は全体として略直方体形状を有するものである。図１の装置は流入口５を押出混練機（図示しない）の吐出口に連結させておくことによって、当該押出混練機の押出力を、高分子混合物の移動の推進力として利用し、溶融状態の高分子混合物を全体として移動方向ＭＤに移動させ、間隙２ａ、２ｂを通過させることができる。このように図１の装置は押出混練機の吐出口に連結させて使用されるため、ダイと呼ぶこともできる。
【００４１】
図１の装置は、具体的には、被処理物を流入させるための流入口５および処理された物を吐出させるための吐出口６を備え、流入口５と吐出口６との間の被処理物の流路において、平行な２つの平面からなる間隙を２ヶ所（２ａ、２ｂ）で有する。通常はさらに、間隙２ａ、２ｂそれぞれの直前に断面積が当該間隙の断面積よりも大きい溜まり部１ａ、１ｂを有する。処理時において押出混練機から押し出された高分子混合物は溶融状態で、当該押出混練機の押出力に基づいて、図１の装置１０Ａにおける流入口５から溜まり部１ａに流入し、幅方向ＷＤに広がる。次いで、高分子混合物は移動方向ＭＤおよび幅方向ＷＤで連続的に、間隙２ａを通過して溜まり部１ｂに移動し、その後、さらに間隙２ｂを通過し、吐出口６から吐出される。
本明細書中、溜まり部の断面積は、移動方向ＭＤに対する垂直断面における当該溜まり部の最大の断面積を意味する。
【００４２】
図１において間隙２ａ、２ｂにおける平行な２つの面間距離ｘ１、ｘ２は前記距離ｘに相当し、それぞれ独立して前記距離ｘと同様の範囲内であればよい。
【００４３】
図１において間隙２ａにおける移動方向ＭＤの距離ｙ１および間隙２ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｙ２は前記距離ｙに相当し、それぞれ独立して前記距離ｙと同様の範囲内であればよい。
【００４４】
図１において間隙２ａ、２ｂにおける幅方向ＷＤの距離ｚ１は前記距離ｚに相当し、それぞれ独立して前記距離ｚと同様の範囲内であればよく、通常は共通の値である。
【００４５】
図１において溜まり部１ａ、１ｂにおける最大高さｈ１、ｈ２はそれぞれ、直後の間隙２ａ、２ｂの面間距離ｘ１、ｘ２より大きい値であり、通常はそれぞれ独立して３〜１００ｍｍ、好ましくは３〜５０ｍｍである。
【００４６】
本明細書中、溜まり部の最大高さは、直方体形状の装置の場合、幅方向ＷＤに対する垂直断面における最大高さを意味するものとする。
【００４７】
図１において間隙２ａの断面積Ｓ２ａとその直前の溜まり部１ａの最大断面積Ｓ１ａとの比率Ｓ１ａ／Ｓ２ａおよび間隙２ｂの断面積Ｓ２ｂとその直前の溜まり部１ｂの最大断面積Ｓ１ｂとの比率Ｓ１ｂ／Ｓ２ｂはそれぞれ独立して１．１以上、特に１．１〜１０００であり、より均一な混合・分散、装置の小型化、およびベントアップの防止の観点からは２〜１００が好ましく、より好ましくは３〜１５である。それらの断面積比率が小さすぎると、十分に均一な混合・分散は達成できない。
【００４８】
図１において溜まり部１ａにおける移動方向ＭＤの距離ｍ１および溜まり部１ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｍ２はそれぞれ独立して１ｍｍ以上であればよく、連続運転の効率の観点からは、２ｍｍ以上が好ましく、より好ましくは５ｍｍ以上、さらに好ましくは１０ｍｍ以上である。距離ｍ１およびｍ２の上限値は特に制限されるものではないが、長すぎると、効率が悪いだけでなく、流入口５に連結される押出混練機の押出力を大きくする必要があり経済的ではない。よって距離ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立して１〜３００ｍｍが好ましく、より好ましくは２〜１００ｍｍ、さらに好ましくは５〜５０ｍｍである。
【００４９】
また例えば、間隙通過処理を３回行う高分子組成物の製造装置の一例を図２に示す。図２（Ａ）は、間隙通過処理を３回行う高分子組成物の製造装置について上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、図２（Ｂ）は、図２（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。図２の装置は全体として略直方体形状を有するものである。図２の装置は流入口５を押出混練機（図示しない）の吐出口に連結させておくことによって、当該押出混練機の押出力を、高分子混合物の移動の推進力として利用し、溶融状態の高分子混合物を全体として移動方向ＭＤに移動させ、間隙２ａ、２ｂ、２ｃを通過させることができる。このように図２の装置もまた押出混練機の吐出口に連結させて使用されるため、ダイと呼ぶことができる。
【００５０】
図２の装置は、具体的には、被処理物を流入させるための流入口５および処理された物を吐出させるための吐出口６を備え、流入口５と吐出口６との間の被処理物の流路において、平行な２つの平面からなる間隙を３ヶ所（２ａ、２ｂ、２ｃ）で有する。通常はさらに、間隙２ａ、２ｂ、２ｃそれぞれの直前に、断面積が直後の間隙の断面積よりも大きい溜まり部１ａ、１ｂ、１ｃを有する。処理時において押出混練機から押し出された高分子混合物は溶融状態で、当該押出混練機の押出力に基づいて、図２の装置１０Ｂにおける流入口５から溜まり部１ａに流入し、幅方向ＷＤに広がる。次いで、高分子混合物は移動方向ＭＤおよび幅方向ＷＤで連続的に、間隙２ａを通過して溜まり部１ｂに移動し、その後、さらに間隙２ｂを通過して溜まり部１ｃに移動し、最後に間隙２ｃを通過し、吐出口６から吐出される。
【００５１】
図２において間隙２ａ、２ｂ、２ｃにおける平行な２つの面間距離ｘ１、ｘ２、ｘ３は前記距離ｘに相当し、それぞれ独立して前記距離ｘと同様の範囲内であればよい。
【００５２】
図２において間隙２ａにおける移動方向ＭＤの距離ｙ１、間隙２ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｙ２および間隙２ｃにおける移動方向ＭＤの距離ｙ３は前記距離ｙに相当し、それぞれ独立して前記距離ｙと同様の範囲内であればよい。
【００５３】
図２において間隙２ａ、２ｂ、２ｃにおける幅方向ＷＤの距離ｚ１は前記距離ｚに相当し、それぞれ独立して前記距離ｚと同様の範囲内であればよく、通常は共通の値である。
【００５４】
図２において溜まり部１ａ、１ｂ、１ｃにおける最大高さｈ１、ｈ２、ｈ３はそれぞれ、直後の間隙２ａ、２ｂ、２ｃの面間距離ｘ１、ｘ２、ｘ３より大きい値であり、通常はそれぞれ独立して、図１における最大高さｈ１、ｈ２と同様の範囲内である。
【００５５】
図２において間隙２ａの断面積Ｓ２ａとその直前の溜まり部１ａの最大断面積Ｓ１ａとの比率Ｓ１ａ／Ｓ２ａ、間隙２ｂの断面積Ｓ２ｂとその直前の溜まり部１ｂの最大断面積Ｓ１ｂとの比率Ｓ１ｂ／Ｓ２ｂおよび間隙２ｃの断面積Ｓ２ｃとその直前の溜まり部１ｃの最大断面積Ｓ１ｃとの比率Ｓ１ｃ／Ｓ２ｃはそれぞれ独立して、図１における比率Ｓ１ａ／Ｓ２ａおよび比率Ｓ１ｂ／Ｓ２ｂと同様の範囲内である。
【００５６】
図２において溜まり部１ａにおける移動方向ＭＤの距離ｍ１、溜まり部１ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｍ２および溜まり部１ｃにおける移動方向ＭＤの距離ｍ３はそれぞれ独立して、図１における距離ｍ１および距離ｍ２と同様の範囲内である。
【００５７】
本明細書中、「平行」は、２つの平面の間で達成される平行関係だけでなく、２つの曲面の間で達成される平行関係も含む概念で用いるものとする。すなわち、図１および図２において間隙２ａ、２ｂ、２ｃは平行な２つの平面からなっているが、これに制限されるものではなく、例えば、図３に示す間隙２ａや図４に示す間隙２ａ、２ｂ、２ｃのように、平行な２つの曲面からなっていてもよい。「平行」は、２つの面の関係において、それらの間の距離が一定であることを意味し、装置製造時の精度を考慮して、厳密に「一定」であることを要さず、実質的に「一定」であればよい。従って、「平行」は本発明の目的が達成される範囲内で「略平行」であってよい。略直方体形状の装置において、幅方向ＷＤに対する垂直断面における間隙の形状および位置は幅方向において変わらないものとする。略円柱体形状の装置において、軸を通る断面における間隙の形状および位置は装置の軸を軸とした周方向において変わらないものとする。
【００５８】
図３は、間隙通過処理を２回行う高分子組成物の製造装置の一例を示す。図３（Ａ）は、間隙通過処理を２回行う高分子組成物の製造装置について上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。図３の装置は全体として略直方体形状を有するものである。図３の装置は流入口５を押出混練機（図示しない）の吐出口に連結させておくことによって、当該押出混練機の押出力を、高分子混合物の移動の推進力として利用し、溶融状態の高分子混合物を全体として移動方向ＭＤに移動させ、間隙２ａ、２ｂを通過させることができる。このように図３の装置もまた押出混練機の吐出口に連結させて使用されるため、ダイと呼ぶことができる。
【００５９】
図３の装置は、間隙２ａが平行な２つの曲面からなること以外、図１の装置と同様であるため、図３の装置の詳しい説明を省略する。
【００６０】
図４は、間隙通過処理を３回行う高分子組成物の製造装置の一例を示す。図４（Ａ）は、間隙通過処理を３回行う高分子組成物の製造装置の概略見取り図であり、図４（Ｂ）は、図４（Ａ）の装置の軸を通るＰ−Ｑ断面における概略断面図である。図４の装置は全体として略円柱体形状を有し、装置の小型化を可能にする。図４の装置は流入口５を押出混練機（図示しない）の吐出口に連結させておくことによって、当該押出混練機の押出力を、高分子混合物の移動の推進力として利用し、溶融状態の高分子混合物を全体として移動方向ＭＤに移動させ、間隙２ａ、２ｂ、２ｃを通過させることができる。このように図４の装置もまた押出混練機の吐出口に連結させて使用されるため、ダイと呼ぶことができる。
【００６１】
図４の装置は、具体的には、被処理物を流入させるための流入口５および処理された物を吐出させるための吐出口６を備え、流入口５と吐出口６との間の被処理物の流路において、平行な２つの曲面からなる間隙を３ヶ所（２ａ、２ｂ、２ｃ）で有する。通常はさらに、間隙２ａ、２ｂ、２ｃそれぞれの直前に、断面積が直後の間隙の断面積よりも大きい溜まり部１ａ、１ｂ、１ｃを有する。処理時において押出混練機から押し出された高分子混合物は溶融状態で、当該押出混練機の押出力に基づいて、図４の装置１０Ｄにおける流入口５から溜まり部１ａに流入し、半径方向に広がる。次いで、高分子混合物は移動方向ＭＤおよび周方向ＰＤで連続的に、間隙２ａを通過して溜まり部１ｂに移動し、その後、さらに間隙２ｂを通過して溜まり部１ｃに移動し、最後に間隙２ｃを通過し、吐出口６から吐出される。
【００６２】
図４において間隙２ａ、２ｂ、２ｃにおける平行な２つの面間距離ｘ１、ｘ２、ｘ３は前記距離ｘに相当し、それぞれ独立して前記距離ｘと同様の範囲内であればよい。
【００６３】
図４において間隙２ａにおける移動方向ＭＤの距離ｙ１、間隙２ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｙ２および間隙２ｃにおける移動方向ＭＤの距離ｙ３は前記距離ｙに相当し、それぞれ独立して前記距離ｙと同様の範囲内であればよい。
【００６４】
図４において溜まり部１ａにおける最大高さｈ１は特に制限されるものではなく、通常は１〜１００ｍｍ、好ましくは１〜５０ｍｍである。
図４において溜まり部１ｂ、１ｃにおける最大高さｈ２、ｈ３はそれぞれ、直後の間隙２ｂ、２ｃの面間距離ｘ２、ｘ３より大きい値であり、通常はそれぞれ独立して、図１における最大高さｈ１、ｈ２と同様の範囲内である。
本明細書中、溜まり部の最大高さは、略円柱体形状の装置の場合、装置の軸を通る断面における直径方向の最大高さを意味するものとする。
【００６５】
図４において間隙２ａの断面積Ｓ２ａとその直前の溜まり部１ａの最大断面積Ｓ１ａとの比率Ｓ１ａ／Ｓ２ａは１．２以上、特に１．２〜１０であり、より均一な混合・分散、装置の小型化、およびベントアップの防止の観点からは１．２〜７が好ましく、より好ましくは１．２〜５である。それらの断面積比率が小さすぎると、十分に均一な混合・分散は達成できない。
【００６６】
図４において間隙２ｂの断面積Ｓ２ｂとその直前の溜まり部１ｂの最大断面積Ｓ１ｂとの比率Ｓ１ｂ／Ｓ２ｂおよび間隙２ｃの断面積Ｓ２ｃとその直前の溜まり部１ｃの最大断面積Ｓ１ｃとの比率Ｓ１ｃ／Ｓ２ｃはそれぞれ独立して、図１における比率Ｓ１ａ／Ｓ２ａおよび比率Ｓ１ｂ／Ｓ２ｂと同様の範囲内である。
【００６７】
図４において溜まり部１ａにおける移動方向ＭＤの距離ｍ１、溜まり部１ｂにおける移動方向ＭＤの距離ｍ２および溜まり部１ｃにおける移動方向ＭＤの距離ｍ３はそれぞれ独立して、図１における距離ｍ１および距離ｍ２と同様の範囲内である。
【００６８】
図１〜図４に記載の装置は、通常、樹脂の混練装置および押出装置の分野で従来から吐出口に取り付けて使用されるダイの製造に使用される材料から製造される。
【００６９】
間隙通過処理後は、間隙通過処理された高分子混合物を急冷する。間隙通過処理によって達成された各種成分の十分に均一な混合・分散形態が急冷によって、有効に維持される。
【００７０】
急冷は、間隙通過処理によって得られた溶融状態の高分子組成物をそのまま０〜６０℃の水に浸漬することによって達成できる。−４０℃〜６０℃の気体で冷却するか、−４０℃〜６０℃の金属に接触させることによって、急冷を達成してもよい。急冷は必ずしも行わなければならないというわけではなく、例えば放置冷却するだけでも、各種成分の十分に均一な混合・分散形態は維持できる。
【００７１】
冷却された高分子組成物は、次工程での処理を容易にするために、通常、粉砕によってペレタイズされる。
【００７２】
本発明においては、高分子混合物を間隙通過処理する直前に行われる溶融・混練処理のさらに前に、高分子混合物を構成する少なくとも一部の成分を予め混合処理してもよい。例えば、２種類以上の高分子および添加剤を含む高分子組成物を製造する場合、まず、少なくとも１種類の高分子および添加剤を予め混合処理した後で、所望により少なくとも１種類の高分子をさらに添加する。次いで、間隙通過処理直前の溶融・混練処理を行い、さらにその後で間隙通過処理を所定回数で行う。また例えば、全成分を予め混合処理した後で、間隙通過処理直前の溶融・混練処理を行い、さらにその後で間隙通過処理を所定回数で行う。これによって、各種成分の混合・分散がより一層有効に達成される。
【００７３】
混合方法としては、所定の成分を単に乾式で混合するドライブレンド法を採用してもよいし、または所定の成分を従来の溶融混練方法によって溶融混練、冷却および粉砕する溶融混練法を採用してもよい。溶融混練法を採用する場合、前記と同様の押出混練機が使用可能で、このとき押出混練機は吐出口に従来から公知のダイが取り付けられて使用されてよい。
【００７４】
（高分子組成物の用途）
以上の方法で製造された本発明の高分子組成物を、射出成形法、押出成形法、圧縮成形法、吹込成形法、射出圧縮成形法などの公知の各種成形法に適用することによって、任意の形状が付与された成形体を製造できる。例えば、ベルト（特にシームレス環状ベルト）、フィルム、パイプ、繊維などの形状を有する成形体を製造できる。成形法は、特に射出成形法、押出成形法が好適である。本発明においては、いずれの成形法を採用する場合も、成形後は急冷を行うことが好ましい。高分子組成物において達成された各種成分の十分に均一な混合・分散形態が、成形体においてもより一層有効に維持されるためである。
【００７５】
特に、本発明の高分子組成物が電子写真用転写ベルトの製造に使用される場合、高分子組成物には通常、導電剤が含有される。本発明の高分子組成物および当該組成物を用いて製造された成形体は添加剤の均一分散性が向上するので、導電剤が配合されると、導電剤の均一な分散が達成される。その結果、成形体は全体にわたって均一な導電性を有する。特に成形体が電子写真用シームレス環状転写ベルトである場合は、当該転写ベルトの周方向において比較的均一な電気抵抗値を有し得る。
【００７６】
本発明の高分子組成物を用いて製造された成形体は各種用途に適用できる。そのような用途の一例を以下に示す。例えば、発電機、電動機、変圧器、変流器、電圧調整器、整流器、インバーター、継電器、電力用接点、開閉器、機遮断機、ナイフスイッチ、他極ロッド、電気部品キャビネットなどの電気機器部品、センサー、ＬＥＤランプ、コネクター、ソケット、抵抗器、リレーケース、小型スイッチ、コイルボビン、コンデンサー、バリコンケース、光ピックアップ、発振子、各種端子板、変成器、プラグ、プリント基板、チューナー、スピーカー、マイクロフォン、ヘッドフォン、小型モーター、磁気ヘッドベース、パワーモジュール、半導体、液晶、ＦＤＤキャリッジ、ＦＤＤシャーシ、モーターブラッシュホルダー、パラボラアンテナ、コンピューター関連部品等に代表される電子部品；ＶＴＲ部品、テレビ部品、アイロン、ヘアードライヤー、炊飯器部品、電子レンジ部品、音響部品、オーディオ・レーザーディスク・コンパクトディスク等の音声機器部品、照明部品、冷蔵庫部品、エアコン部品、タイプライター部品、ワードプロセッサー部品等に代表される家庭・事務電気製品部品；オフィスコンピューター関連部品、電話器関連部品、ファクシミリ関連部品、複写機関連部品、洗浄用治具、モーター部品、ライター、タイプライターなどに代表される機械関連部品：顕微鏡、双眼鏡、カメラ、時計等に代表される光学機器・精密機械関連部品；オルタネーターターミナル、オルタネーターコネクター、ＩＣレギュレーター、ライトディヤー用ポテンシオメーターベース、排気ガスバルブ等の各種バルブ、燃料関係・排気系・吸気系各種パイプ、エアーインテークノズルスノーケル、インテークマニホールド、燃料ポンプ、エンジン冷却水ジョイント、キャブレターメインボディー、キャブレタースペーサー、排気ガスセンサー、冷却水センサー、油温センサー、ブレーキパットウェアーセンサー、スロットルポジションセンサー、クランクシャフトポジションセンサー、エアーフローメーター、ブレーキパッド摩耗センサー、エアコン用サーモスタットベース、暖房温風フローコントロールバルブ、ラジエーターモーター用ブラッシュホルダー、ウォーターポンプインペラー、タービンベイン、ワイパーモーター関係部品、デュストリビューター、スタータースイッチ、スターターリレー、トランスミッション用ワイヤーハーネス、ウィンドウォッシャーノズル、エアコンパネルスイッチ基板、燃料関係電磁気弁用コイル、ヒューズ用コネクター、ホーンターミナル、電装部品絶縁板、ステップモーターローター、ランプソケット、ランプリフレクター、ランプハウジング、ブレーキピストン、ソレノイドボビン、エンジンオイルフィルター、点火装置ケース等の自動車・車両関連部品等々。
【００７７】
本発明の高分子組成物に導電剤、特にカーボンを配合させ、当該組成物を電子写真用転写ベルトの製造に用いると、本発明の効果をさらに有効に得ることができる。電子写真用転写ベルトにおいて導電剤は均一に分散させることが困難であったが、本発明においては簡便に均一に分散させることができるためである。電子写真用転写ベルトは、感光体上に形成されたトナー像を自己の表面に一旦、転写させた後、転写されたトナー像を紙等の記録材にさらに転写させるための中間転写ベルトであってもよいし、または紙を自己の表面に静電気により吸着し、感光体上に形成されたトナー像をその紙に転写する直接転写ベルトであってもよい。
【００７８】
転写ベルトはシームレス環状形状を有することが好ましい。そのような形状を有する転写ベルトは、成形の際に環状金型ダイの内部において溶融樹脂が合流する領域が他の領域と比較して導電剤含有割合が高くなり、電気抵抗値が低くなる傾向があるが、本発明の転写ベルトはそのような合流領域においても、他の領域と略同程度の電気抵抗値を達成できるためである。
【００７９】
転写ベルトは、前記高分子組成物からなるベルトをそのまま用いても良いが、転写効率を高めるために、表面だけを硬くすると、本発明の効果をさらに有効に得ることができる。表面だけを硬くする方法として無機材料をコーティングする方法がよいが、その方法は特に限定されるものではない。例えば、「ゾル−ゲル法応用技術の新展開」（ＣＭＣ出版）に記載されているような塗布による方法、「薄膜材料入門」（裳華房）に記載されたＣＶＤ，ＰＶＤ，プラズマコーティングなどの物理化学的方法など、公知の方法を採用できる。表面にコーティングされる無機材料は、本発明の目的を達成できる限り特に制限されず、物性と経済性を考慮すると、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃを含む酸化物系材料が特に好ましい。例えば、アモルファスシリカ薄膜、アモルファスアルミナ薄膜、アモルファスシリカアルミナ薄膜、アモルファスダイヤモンド薄膜などが推奨される。このように硬度が比較的高い無機薄膜をベルトにコーティングすることにより、ブレードとの摩擦磨耗寿命が改善されたり、転写性が向上する。
【００８０】
転写ベルトは、中間転写方式の画像形成装置に用いられる転写ベルトであり、特に継ぎ目のないシームレスベルトであることが好ましい。転写ベルトは、現像装置に単色トナーのみを持つモノカラー画像形成装置、１つの潜像担持体に対してＹ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）、Ｂ（ブラック）の現像器が備わり、各色の現像器ごとに潜像担持体上での現像およびトナー像の転写ベルトへの一次転写を行うサイクル方式フルカラー画像形成装置、１つの潜像担持体に対して１つの現像器が備わった各色の画像形成ユニットが直列に配置され、各色の画像形成ユニットごとに潜像担持体上での現像およびトナー像の転写ベルトへの一次転写を行うタンデム方式フルカラー画像形成装置などに適用することができる。本発明の転写ベルトを適用することにより文字の中抜けやトナーの飛び散りを抑制できる画像形成装置とすることができる。
【００８１】
例えば、図５に示すようなタンデム方式フルカラー画像形成装置において、転写ベルト１は数本のローラー５２、５３、５４等に張架され、当該転写ベルト５１に沿って直列に、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）およびＢ（ブラック）の画像形成ユニット５５，５６，５７，５８が配置されている。転写ベルト５１は矢印の方向に回転され、各画像形成ユニットで潜像担持体（感光体）（５９，６０，６１，６２）上に形成されたトナー像が一次転写ローラ（６３，６４，６５，６６）により転写ベルト５１上に順次、一次転写される。その後、転写ベルト５１上に形成された４色トナー像は二次転写ローラ６７と押圧ローラ５２との間で記録材（記録紙）６８に二次転写されるようになっている。
【００８２】
各画像形成ユニット（５５、５６、５７、５８）では、潜像担持体（５９、６０、６１、６２）は表面を帯電器（例えば、６９）により一様に帯電され、露光器（例えば、７０）により画像に対応する静電潜像を形成される。形成された静電潜像は現像器（例えば、７１）で現像され、トナー像が一次転写ローラ（例えば、６３）によって転写ベルトに転写された後は、図示しないクリーナ等により残留トナーを除去されるようになっている。
【実施例】
【００８３】
（実施例１）
ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド；東レ社製、Ｔｇ＝９７℃）８４ｋｇおよび酸性カーボン（デグサ社製）１０ｋｇの混合物を二軸押出混練機で内部温度３００℃および吐出量３０ｋｇ／時の条件にて溶融混練した（予備混合工程）。上記押出混練機のダイは直径５ｍｍの棒状に押し出すストランドダイであった。その後、混練物を３０℃の水に浸漬することによって急冷し、ペレット化して、高分子組成物を得た。この高分子組成物９４ｋｇと６ナイロン（東レ社製、Ｔｇ＝４８℃）６ｋｇの混合物を、図２に示すダイを吐出口に取り付けた二軸押出混練機（ＫＴＸ４６；神戸製鋼社製）で内部温度２９５℃、吐出量３０ｋｇ／時および樹脂圧力４ＭＰａの条件にて溶融混練した（混練工程および間隙通過工程）。詳しくは二軸押出混練機から吐出された高分子組成物は溶融状態で、図２のダイ１０における流入口５から溜まり部１ａに流入した後、間隙２ａを通過して溜まり部１ｂに移動した。その後、間隙２ｂを通過して溜まり部１ｃに移動し、最後に間隙２ｃを通過した。間隙２ｃを通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で８３．３ｇ／分であった。間隙２ｃから吐出した混練物を３０℃の水に浸漬することによって急冷し、ペレタイザーによりペレット状に粉砕して、高分子組成物を得た。
【００８４】
図２に示すダイは以下に示す寸法を有するもので、二軸押出混練機の内部温度と同様の温度に加熱して用いた。
【００８５】
溜まり部１ａ；最大高さｈ１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ａ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１＝２０ｍｍ；
間隙２ａ；面間距離ｘ１＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ａ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｂ；最大高さｈ２＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｂ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ２＝２０ｍｍ；
間隙２ｂ；面間距離ｘ２＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｂ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ２＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｃ；最大高さｈ３＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｃ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ３＝２０ｍｍ；
間隙２ｃ；面間距離ｘ３＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｃ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ３＝３０ｍｍ。
【００８６】
得られた高分子組成物を、２９０℃に加温した環状金型ダイ及び７５℃に設定した冷却用サイジングダイを取り付けた急冷可能な成形機にて押出成形して、シームレス環状形状の中間転写ベルト（厚み０．１ｍｍ）を得た（成形工程）。この中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で、抵抗計（ハイレスタ；三菱油化電子社製）により測定したところ、平均値は２×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１００．２であった。周方向の抵抗ばらつきとは、測定値について最大値／最小値を算出した値である。表面抵抗の測定電圧は５００Ｖ、測定時間は１０秒間であった。
【００８７】
ＭＩＴ値は１８０００であった。ＭＩＴ値はＭＩＴ揉疲労試験機（ＭＩＴ−Ｄ；東洋精機製）を用いて、加重２５０ｇ、振り角９０°、回数１７５回／分にて計測した。数値は破断したときの振り回数で示し、５サンプルの平均値である。
【００８８】
（実施例２）
以下に示す寸法を有する図２のダイを用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。間隙２ｃを通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で１６６．７ｇ／分であった。
【００８９】
溜まり部１ａ；最大高さｈ１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ａ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１＝２０ｍｍ；
間隙２ａ；面間距離ｘ１＝１ｍｍ、断面積Ｓ２ａ３ｃｍ２、移動方向距離ｙ１＝２ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｂ；最大高さｈ２＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｂ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ２＝２０ｍｍ；
間隙２ｂ；面間距離ｘ２＝１ｍｍ、断面積Ｓ２ｂ３ｃｍ２、移動方向距離ｙ２＝２ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｃ；最大高さｈ３＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｃ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ３＝２０ｍｍ；
間隙２ｃ；面間距離ｘ３＝１ｍｍ、断面積Ｓ２ｃ３ｃｍ２、移動方向距離ｙ３＝２ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ。
【００９０】
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は２．５×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１００．３であった。
ＭＩＴ値は２２０００であった。
【００９１】
（実施例３）
以下に示す寸法を有する図２のダイを用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。間隙２ｃを通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で８３．３ｇ／分であった。
【００９２】
溜まり部１ａ；最大高さｈ１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ａ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１＝５０ｍｍ；
間隙２ａ；面間距離ｘ１＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ａ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｂ；最大高さｈ２＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｂ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ２＝５０ｍｍ；
間隙２ｂ；面間距離ｘ２＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｂ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ２＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｃ；最大高さｈ３＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｃ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ３＝５０ｍｍ；
間隙２ｃ；面間距離ｘ３＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｃ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ３＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ。
【００９３】
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は３×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１００．２であった。
ＭＩＴ値は１９５００であった。
【００９４】
（実施例４）
以下に示す寸法を有する図１のダイを用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。間隙２ｂを通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で８３．３ｇ／分であった。
【００９５】
溜まり部１ａ；最大高さｈ１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ａ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１＝５０ｍｍ；
間隙２ａ；面間距離ｘ１＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ａ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１＝１０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｂ；最大高さｈ２＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｂ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ２＝５０ｍｍ；
間隙２ｂ；面間距離ｘ２＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｂ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ２＝１０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ。
【００９６】
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は２．５×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１００．５であった。
ＭＩＴ値は１７０００であった。
【００９７】
（比較例１）
図２に示すダイを吐出口に取り付けた二軸押出混練機の代わりに、吐出口にダイを有さない二軸押出混練機を用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は１×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１０２．５であった。
ＭＩＴ値は３５００であった。
【００９８】
（実施例５）
以下の方法で得られた混合物を、以下に示す寸法を有する図２のダイを吐出口に取り付けた二軸押出混練機ＫＴＸ３０；神戸製鋼社製でシリンダー温度２２０℃、吐出量１２ｋｇ／時および樹脂圧力３ＭＰａの条件にて溶融混練したこと以外、実施例１と同様の方法により、高分子組成物を得た。間隙２ｃを通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で３３．３ｇ／分であった。
【００９９】
ポリカーボネート（帝人化成（株）製；商品名パンライトＬ−１２５０、Ｔｇ＝１５０℃）およびＡＢＳ樹脂（日本合成ゴム（株）製；商品名ＡＢＳ−１５、Ｔｇ＝１０５℃）を１：１の重量比でドライブレンドして、混合物を得た。
【０１００】
溜まり部１ａ；最大高さｈ１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ａ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１＝２０ｍｍ；
間隙２ａ；面間距離ｘ１＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ａ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｂ；最大高さｈ２＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｂ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ２＝２０ｍｍ；
間隙２ｂ；面間距離ｘ２＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｂ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ２＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ；
溜まり部１ｃ；最大高さｈ３＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１ｃ＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ３＝２０ｍｍ；
間隙２ｃ；面間距離ｘ３＝２ｍｍ、断面積Ｓ２ｃ６ｃｍ２、移動方向距離ｙ３＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１＝３００ｍｍ。
【０１０１】
得られた高分子組成物の透過電子顕微鏡写真では１μｍ以上の組織は観察されなかった。透過電子顕微鏡写真を図６に示す。
【０１０２】
（比較例２）
図２に示すダイを吐出口に取り付けた二軸押出混練機の代わりに、吐出口にダイを有さない二軸押出混練機を用いたこと以外、実施例５と同様の方法により、高分子組成物を得た。
得られた高分子組成物の透過電子顕微鏡写真では６μｍ以上の組織が観察された。透過電子顕微鏡写真を図７に示す。
【０１０３】
（比較例３）
以下に示す寸法を有する図８のダイを用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。間隙１０２を通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で８３．３ｇ／分であった。
【０１０４】
溜まり部１０１；最大高さｈ１０１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１０１＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１０１＝２ｍｍ；
間隙１０２；面間距離ｘ１０２＝２ｍｍ、断面積Ｓ１０２６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１０２＝３０ｍｍ、幅方向距離ｚ１０２＝３００ｍｍ；
【０１０５】
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は２×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１０１．８であった。
ＭＩＴ値は５５００であった。
【０１０６】
（比較例４）
以下に示す寸法を有する図８のダイを用いたこと以外、実施例１と同様の方法により、中間転写ベルトの製造および評価を行った。間隙１０２を通過するときの流速は間隙断面積１ｃｍ２あたりの値で８３．３ｇ／分であった。
【０１０７】
溜まり部１０１；最大高さｈ１０１＝１０ｍｍ、最大断面積Ｓ１０１＝３０ｃｍ２、移動方向距離ｍ１０１＝２ｍｍ；
間隙１０２；面間距離ｘ１０２＝２ｍｍ、断面積Ｓ１０２６ｃｍ２、移動方向距離ｙ１０２＝６０ｍｍ、幅方向距離ｚ１０２＝３００ｍｍ；
【０１０８】
中間転写ベルトの表面抵抗を周方向において２０ｍｍ間隔にて２４点で測定したところ、平均値は４×１０１０Ω／□であり、周方向の抵抗ばらつきは１０１．３であった。
ＭＩＴ値は８２００であった。
【産業上の利用可能性】
【０１０９】
本発明の高分子組成物の製造方法および製造装置は、電気、電子部品、自動車部品、一般機械部品など種々の広い分野に適用できる。特に、本発明の方法により製造された高分子組成物を用いて得られた転写ベルトは、電子写真式画像形成装置に用いられる直接転写ベルトもしくは中間転写ベルトに応用した場合にベルトの周方向の抵抗安定性と強度に優れたベルトを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】（Ａ）は、本発明の高分子組成物の製造方法を採用した製造装置の一例について、上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。
【図２】（Ａ）は、本発明の高分子組成物の製造方法を採用した製造装置の一例について、上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。
【図３】（Ａ）は、本発明の高分子組成物の製造方法を採用した製造装置の一例について、上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。
【図４】（Ａ）は、本発明の高分子組成物の製造方法を採用した製造装置の一例の概略見取り図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の装置の軸を通るＰ−Ｑ断面における概略断面図である。
【図５】本発明の方法により製造された高分子組成物の用途を説明するための画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図６】実施例５で得られた高分子組成物の透過電子顕微鏡写真である。
【図７】比較例２で得られた高分子組成物の透過電子顕微鏡写真である。
【図８】（Ａ）は、比較例３および比較例４で使用した高分子組成物の製造装置について、上面から装置内部を透視したときの概略透視図であり、（Ｂ）は、（Ａ）の装置のＰ−Ｑ断面における概略断面図である。
【符号の説明】
【０１１１】
１ａ：１ｂ：１ｃ：溜まり部、２ａ：２ｂ：２ｃ：間隙、５：流入口、６：吐出口、１０Ａ：１０Ｂ：１０Ｃ：１０Ｄ：本発明の高分子組成物の製造装置。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種類の高分子を含む高分子混合物を溶融状態で、平行な２つの面の間隙に２回以上通過させることを特徴とする高分子組成物の製造方法。
【請求項２】
前記間隙がそれぞれ独立して、平行な２つの平面の間隙であるか、または平行な２つの曲面の間隙である請求項１に記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項３】
前記間隙における平行な２つの面間距離ｘがそれぞれ独立して７ｍｍ以下である請求項１または２に記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項４】
前記間隙における高分子混合物移動方向の距離ｙがそれぞれ独立して２ｍｍ以上である請求項１〜３のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項５】
前記間隙通過処理の直前に高分子混合物を溶融・混練して押し出し、該押出力によって、高分子混合物の前記間隙通過処理を行う請求項１〜４のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項６】
前記間隙通過処理された高分子混合物を急冷する請求項１〜５のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項７】
前記高分子混合物が２種類以上の高分子を含む請求項１〜６のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項８】
前記高分子混合物がポリフェニレンスルフィド樹脂およびナイロン樹脂を含む請求項１〜７のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項９】
前記高分子混合物がポリカーボネート樹脂およびアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂を含む請求項１〜７のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項１０】
前記高分子混合物が添加剤を含む請求項１〜９のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項１１】
添加剤が導電剤である請求項１０に記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項１２】
導電剤がカーボンである請求項１１に記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項１３】
被処理物を流入させるための流入口および処理された物を吐出させるための吐出口を備え、該流入口と吐出口との間の被処理物の流路において、平行な２つの面の間隙を２ヶ所以上有することを特徴とする高分子組成物の製造装置。
【請求項１４】
前記間隙がそれぞれ独立して、平行な２つの平面の間隙であるか、または平行な２つの曲面の間隙である請求項１３に記載の高分子組成物の製造装置。
【請求項１５】
前記間隙における平行な２つの面間距離ｘがそれぞれ独立して３ｍｍ以下である請求項１３または１４に記載の高分子組成物の製造装置。
【請求項１６】
前記間隙における高分子混合物移動方向の距離ｙがそれぞれ独立して３ｍｍ以上である請求項１３〜１５のいずれかに記載の高分子組成物の製造装置。
【請求項１７】
前記高分子組成物の製造装置の流入口が押出混練機の吐出口に連結されている請求項１３〜１６のいずれかに記載の高分子組成物の製造装置。
【請求項１】
少なくとも１種類の高分子を含む高分子混合物を溶融状態で、平行な２つの面の間隙に２回以上通過させることを特徴とする高分子組成物の製造方法。
【請求項２】
前記間隙がそれぞれ独立して、平行な２つの平面の間隙であるか、または平行な２つの曲面の間隙である請求項１に記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項３】
前記間隙における平行な２つの面間距離ｘがそれぞれ独立して７ｍｍ以下である請求項１または２に記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項４】
前記間隙における高分子混合物移動方向の距離ｙがそれぞれ独立して２ｍｍ以上である請求項１〜３のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項５】
前記間隙通過処理の直前に高分子混合物を溶融・混練して押し出し、該押出力によって、高分子混合物の前記間隙通過処理を行う請求項１〜４のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項６】
前記間隙通過処理された高分子混合物を急冷する請求項１〜５のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項７】
前記高分子混合物が２種類以上の高分子を含む請求項１〜６のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項８】
前記高分子混合物がポリフェニレンスルフィド樹脂およびナイロン樹脂を含む請求項１〜７のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項９】
前記高分子混合物がポリカーボネート樹脂およびアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂を含む請求項１〜７のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項１０】
前記高分子混合物が添加剤を含む請求項１〜９のいずれかに記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項１１】
添加剤が導電剤である請求項１０に記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項１２】
導電剤がカーボンである請求項１１に記載の高分子組成物の製造方法。
【請求項１３】
被処理物を流入させるための流入口および処理された物を吐出させるための吐出口を備え、該流入口と吐出口との間の被処理物の流路において、平行な２つの面の間隙を２ヶ所以上有することを特徴とする高分子組成物の製造装置。
【請求項１４】
前記間隙がそれぞれ独立して、平行な２つの平面の間隙であるか、または平行な２つの曲面の間隙である請求項１３に記載の高分子組成物の製造装置。
【請求項１５】
前記間隙における平行な２つの面間距離ｘがそれぞれ独立して３ｍｍ以下である請求項１３または１４に記載の高分子組成物の製造装置。
【請求項１６】
前記間隙における高分子混合物移動方向の距離ｙがそれぞれ独立して３ｍｍ以上である請求項１３〜１５のいずれかに記載の高分子組成物の製造装置。
【請求項１７】
前記高分子組成物の製造装置の流入口が押出混練機の吐出口に連結されている請求項１３〜１６のいずれかに記載の高分子組成物の製造装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図８】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図８】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−１３７４０５（Ｐ２０１０−１３７４０５Ａ）
【公開日】平成２２年６月２４日（２０１０．６．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３１４４６０（Ｐ２００８−３１４４６０）
【出願日】平成２０年１２月１０日（２００８．１２．１０）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．レーザーディスク
【出願人】（３０３０００３７２）コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 (12,802)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年６月２４日（２０１０．６．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１２月１０日（２００８．１２．１０）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．レーザーディスク
【出願人】（３０３０００３７２）コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 (12,802)
【Ｆターム（参考）】
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