説明

栗田工業株式会社により出願された特許

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【課題】2座以上配位可能な窒素原子を含む芳香族複素環式化合物を含み、十分なガス吸蔵能を有するガス吸蔵用多孔質有機金属錯体を提供する。
【解決手段】本発明のガス吸蔵用多孔質有機金属錯体は、[1]金属イオンと、[2]ジカルボン酸化合物(配位子)と、[3]上記金属イオンが2座以上配位可能な窒素原子を含む芳香族複素環式化合物との配位結合によって構成される。[1]金属イオンとしては、特に制限はないが、Mg,Al,Ca,Ti,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn等のイオンが挙げられる。好ましくは、Cuイオンが好ましい。また、[2]ジカルボン酸化合物としては、式(1)〜(6)で表わされる芳香族ジカルボン酸が好ましい。さらに、[3]上記金属イオンが2座以上配位可能な窒素原子を含む芳香族複素環式化合物としては、式(7)〜(15)で表されるものを用いることができる。 (もっと読む)


【課題】混合効率が高く、しかも夾雑物が引っ掛っても容易に除去することができる流体混合装置及び方法を提供。
【解決手段】配管1を流れる液体に対し配管2から液体又は粉体等を添加した後、半開状態の複数のボールバルブ3A〜3Cを通過させて混合する。各ボールバルブ3A〜3Cは、軸心回りの位相に角度差θがつけられている。複雑な形のスタティックミキサーを設置する必要がなく良好な混合が可能である。さらに、夾雑物で閉塞した時には、バルブを開とすることで夾雑物を解き放つことができる。 (もっと読む)


【課題】長期間停止後、ガス供給配管に生じた凝縮水を除去してガス流量制御装置への流入等を防止し得るガス溶解水製造装置を提供する。
【解決手段】超純水が電解装置3に流入し、水の電気分解により水素ガスが生じる。この水素ガスは、除湿膜9、ガスフィルタ11及びMFC10を経て気体溶解膜モジュール2に向けて導かれる。この水素ガスは、気相室2cに流入し、ガス透過膜2aを通過して液相室2b内に入り込み、ここで超純水に溶解して水素溶解水が得られる。ガス溶解水製造装置を長期間停止すると、電解装置3と除湿膜9との間のガス供給配管8内に凝縮水が貯まるので、ガス溶解水製造装置を再度立ち上げたときに、その凝縮水が気体溶解膜モジュール2に向かってガス供給配管8内を移動するが、凝縮水はガスフィルタ11で除去されるので、MFC10ガス流量制御装置に到達することがない。 (もっと読む)


【課題】煩雑な操作を必要とすることなく、比較的簡単な操作で、ウエハの洗浄に使用する超純水中にng/L(ppt)レベルの金属イオンが存在していても、ウエハ表面を金属元素で汚染させることのないウエハの洗浄技術を提供する。
【解決手段】金属イオンと親和性のある物質を超純水に添加してなるウエハ用洗浄水。このウエハ用洗浄水を用いたウエハの洗浄方法。ウエハ洗浄用の超純水中に、金属イオンと親和性のある物質を添加しておくことにより、これが超純水中の金属イオンを捕捉して水中に安定に存在させることにより、洗浄時にウエハ表面へ移行して付着することを有効に防止することができる。 (もっと読む)


【課題】樹脂基材の基材表面にオゾンガス処理を最適な条件で行うことにより、無電解めっき処理において、めっきの析出を確実なものとし、さらには析出しためっき被膜が、安定した密着強度を有することができるオゾンガス処理方法を提供する。
【解決手段】樹脂基材の表面にオゾンガスを接触させることにより、前記基材表面にオゾンガス処理を行う方法であって、以下の式 I=D×t×exp((−L/(273.15+T))、(ただし、Dはオゾンガス濃度(g/Nm)、tは処理時間(分)、Tはオゾンガス温度(℃)、Lは温度係数である)で求められるオゾンガス暴露量Iを指標として、オゾンガス濃度D、処理時間t、オゾンガス温度Tの条件を設定する条件設定工程と、前記設定した条件に応じて、前記基材表面を前記オゾンガスに暴露する暴露工程と、前記暴露した基材表面にアルカリ処理を行う工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】安全性の高い酸化剤であるオゾンを使用してダイオキシン類を含有する液を効率よく処理することができるダイオキシン類含有液処理方法及びそのための装置を提供する。
【解決手段】主プラント1からのダイオキシン類含有液は排液輸送ポンプ3により排液導出配管2を経て混合器4に送られ、オゾン発生器5からオゾンを注入されて吸着剤充填塔6に導入される。吸着剤充填塔内で導入液中のダイオキシン類及びオゾンが吸着剤層6bに共吸着し、高濃度の状態で反応してダイオキシン類が分解され、処理液排出配管7から排出される。必要により吸着剤充填塔内の処理液出口側に仕切6cを介してオゾン分解剤層6bを設ける。 (もっと読む)


【課題】 発生した蒸気の復水がボイラ給水として再利用されるとともに、復水系やボイラ装置内の腐食が防止されることにより、ボイラ装置内でスライムが発生しやすい状況が形成されている場合であっても、スライムによる障害が発生するのを容易に防止する。
【解決手段】 給水タンク3に、補給水W1と、負荷側で使用された発生蒸気Sの復水W3とを受け入れて、これらをボイラ給水W2として使用しているボイラ装置1の運転方法であって、ボイラ装置1内に、アミン系復水処理剤F、又はヒドラジン以外の防食剤K、又はアミン系復水処理剤F及びヒドラジン以外の防食剤Kの何れかが注入されている場合に、給水タンク3内の水温を、微生物の繁殖を抑制する温度以上となるように制御する。 (もっと読む)


【課題】化学工業、産業廃棄物処理工業等から排出されるトリクロロベンゼンを含有する排水、トリクロロベンゼンを含有する排水、地下水に化学量論的に必要なオゾンを注入して、トリクロロベンゼン、オゾンを吸着する高シリカゼオライト系吸着剤に供給し、オゾン吸着反応でトリクロロベンゼンを高効率に処理する方法および装置を提供する。
【解決手段】トリクロロベンゼンは難生物分解化合物のため、生物活性処理による処理は困難であり、活性炭等による吸着除去は多量の吸着剤を消費し、高コストとなる。そこで、トリクロロベンゼンを含有する排水、地下水に化学量論的に必要なオゾンを注入して、トリクロロベンゼン、オゾンを吸着する高シリカゼオライト系吸着剤6aに供給し、オゾン吸着反応でトリクロロベンゼンを高効率に処理する。 (もっと読む)


【課題】イオン交換装置とその下流側に配置された膜分離装置とを備えた超純水製造システムのイオン交換装置よりも上流側の通水部を構成する、ポンプや熱交換器、弁類、計器類の部材を超純水製造システムに取り付ける際に、取り付けた部材による系内汚染及びそれによる超純水の水質低下を防止して、要求水質を満たす高純度の超純水を安定に製造するための超純水製造システムの構成部材の取付方法を提供する
【解決手段】取り付ける部材に超純水を通水した際に該部材に通水された超純水中の微粒子数が所定値以下となるように、予め該部材を洗浄した後に超純水製造システムに取り付けることを特徴とする超純水製造システムの構成部材の取付方法。 (もっと読む)


【課題】洗浄に有効な酸化性物質濃度を正確に把握することができる有効酸化性物質の濃度測定方法を提供する。
【解決手段】過硫酸含有硫酸溶液を含む試料液中の全酸化性物質の濃度を測定する工程と、前記試料液中の過酸化水素の濃度を測定する工程と、前記全酸化性物質の濃度と前記過酸化水素の濃度とから有効酸化性物質の濃度を求める工程とを有しているので、試料液中の有効酸化性物質の濃度だけを正確に測定することができる。全酸化性物質の濃度測定には好適にはヨウ素滴定法を用い、過酸化水素の濃度測定には好適には過マンガン酸カリウム滴定法を用いることができる。有効酸化性物質の濃度は、全酸化性物質濃度から過酸化水素濃度を減じて算出することにより得られる。 (もっと読む)


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