【課題】薄膜を形成する際、基板カートに堆積する生成物を洗浄する処理のサイクル期間を長くして、作業効率の向上を図る。
【解決手段】基板カートＫは、多数の太陽電池搭載部４１が形成された複数のトレイＴを有する。各トレイＴの周囲における角部には、位置決め用のピン３３が立設されている。複数のトレイＴは、連結板３１、締結部材３２により一体化されている。基板カートＫにおける表面には、太陽電池搭載部４１を除いて、ブラスト処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】 様々な試料における粒子径の分布を容易に算出することができる粒子径測定装置を提供する。
【解決手段】 被測定粒子群を媒体中に含有する試料を収容するセル１と、電圧を印加する電源３と、電源３からの電圧印加によりセル１内に空間周期的に変化する温度分布を形成する電熱線２と、温度分布により媒体中で被測定粒子群を熱泳動現象で移動させた状態で、試料に測定光を照射する光源４と、試料に測定光を照射することにより発生する回折光による回折光強度を検出する検出器１５１と、電源３から電熱線２に印加する電圧を停止することにより、媒体中の被測定粒子群を拡散させることで、回折光に変化を生じさせる印加電圧制御部３１と、電圧を停止したときの拡散開始時間の回折光強度からの回折光強度の時間変化に基づいて、被測定粒子群の粒子径の分布を算出する粒子径算出部３５とを備える。 （もっと読む）

【課題】微小試料の測定室への落下による装置の不具合と故障を、未然に防止することができる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】測定部に備えられた撮像装置７によって、試料３下部の透明な落下防止板１１を通して試料３の被測定部位を、例えば０．５秒に一回撮影する。この画像を画像記憶装置１６によって記憶し、画像比較装置１５直近の２つの画像を比較する画像に差がある場合は、表示装置１７に警報を表示するとともに、制御装置１４を介して落下防止板１１の動作を停止する。 （もっと読む）

【課題】積層ウェハの隙間内に接着剤を注入する注入工程中において、注入状態を確認する。
【解決手段】少なくとも２枚の複数枚のシリコンウェハを貼り合わせた積層ウェハの隣接するウェハ間の隙間に接着剤を注入する装置および方法において、積層ウェハを構成するシリコンウェハを透過する波長を有する近赤外線を用いることによって、積層ウェハの隙間の接着剤の有無を検出することで、注入工程中に注入状態を確認することを可能とする。反射光あるいは透過光の光量を検出し、この光量に基づいて隙間への接着剤の注入が完了したか否かの注入状態を検出する。この注入状態の検出は、積層ウェハの隙間内に接着剤を注入する注入工程中に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 反射電子像と光学像とを同時に取得することができる電子線分析装置の提供。
【解決手段】 試料表面上の分析位置に所定方向から電子線を照射する電子線源２０と、試料表面上の分析位置で反射した反射電子による信号を検出する反射電子検出器４０と、試料表面上の分析位置を含む領域に前記所定方向から可視光を照射する落射光用光源部６０と、試料表面上の分析位置を含む領域から前記所定方向と逆方向に反射した可視光が入射して、試料表面上の分析位置を含む領域の光学像を取得する画像取得部５１ｂ、７１と、試料表面上の一次元又は二次元範囲内で分析位置を走査させることにより、反射電子検出器４０で信号を収集し、信号の強度に基づいて試料表面上の一次元又は二次元範囲の反射電子像を取得する制御部５１とを備える電子線分析装置１であって、落射光用光源部６０は、赤色領域の光を出射しないものとする。 （もっと読む）

【課題】 正確で明るい偏光像を取得できる電子線分析装置の提供。
【解決手段】 電子線源２０と、落射光用光源部６０と、透過光用光源部８０と、可視光又は偏光光が検出面に入射して、試料表面上の分析位置を含む領域の光学像又は偏光像を取得する画像取得部５１ｂ、７１と、落射光用光源部６０からの可視光を所定方向に反射するとともに、所定方向と逆方向からの光を透過して画像取得部７１の検出面に導くハーフミラー９２とを備える電子線分析装置１であって、ハーフミラー９２は、落射光用光源部６０から可視光が出射された際には、落射光用光源部６０からの可視光を所定方向に反射するとともに、所定方向と逆方向からの光を透過して画像取得部７１の検出面に導く第一位置に配置され、一方、透過光用光源部８０から偏光光が出射された際には、所定方向と逆方向からの光が通過しない第二位置に配置されるように移動可能とする。 （もっと読む）

【課題】シリコーン樹脂からなる部材と接合される部材がシリコーン樹脂以外の材料からなる部材である場合にも強固な接合強度が得られるようにする。
【解決手段】シリコーン樹脂以外の材料からなるベースプレート１０の表面上にシリコーン樹脂塗布層１２を介してシリコーン樹脂からなる流路プレート１４が接合されてマイクロチップが構成されている。その流路プレート１４は、シリコーン樹脂塗布層１２との接合面に流路１６となる溝と、その溝につながる少なくとも１つの貫通孔１８，２０が形成された成型品であり、それにより流路プレート１４とシリコーン樹脂塗布層１２との接合面に、その溝とシリコーン樹脂塗布層１２とからなる内面がシリコーン樹脂で囲まれた流路１６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】分離能を低下させることなくデッドボリュームを削減することが可能なイオン化用エミッタを提供する。
【解決手段】このイオン化用エミッタ（２）は、柱状又は錐状の多孔質自立構造体からなるティップ（１）と、ティップ（１）の基端側からティップ（１）内に溶液試料を供給する流路とを備えている。流路は管路に充填材が充填されたものであり、ティップ（１）は流路の管路から露出しており、充填材とティップ（１）を構成する多孔質自立構造体は同時に形成された同一多孔質体からなる一体構造になっている。 （もっと読む）

【課題】モータの回転動力を作動部に伝達する駆動伝達機構の不具合を装置自身で解消し得るようにする。
【解決手段】演算・制御部１１は、動力伝達機構４に不具合が生じたときに動力伝達機構４に衝撃を与えてその不具合を解消するための振動手段１６を備えている。振動手段１６はモータ６の駆動を開始してから所定時間内にエンコーダ８のカウント数が収束状態にならないときに振動動作を実行するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】分析装置を操作するための分析装置制御用システムにおいて、分析装置制御サーバに障害が発生すると、分析装置は正常に稼働していても、実行中の分析を中断し、改めて再分析を行うことが必要である。
【解決手段】分析装置制御サーバから、制御している分析に関する分析条件情報と分析データとを所定の時間間隔で、システム制御サーバに送信する。システム制御サーバが分析装置制御サーバの障害を検知すると、システム制御サーバは正常に稼働している他の分析装置制御サーバの中から新しい割当先を決定し、分析情報保存部に保存してある分析条件情報と分析データとをこの割当先の分析装置制御サーバに対して送信するとともに、その分析装置制御サーバに対して、分析装置の分析の制御を引継実行する命令を送信する。 （もっと読む）