【課題】高い耐久性を有し、平面、曲面を問わず製作可能であり、Ｂ５サイズ以上の面積の大きな面積であっても作製可能な入れ子を備え、しかも、成形品の離型性に問題を生じ難い構造を有する金型組立体を提供する。
【解決手段】金型組立体10は、（Ａ）第１金型部11、第２金型部12、溶融樹脂射出部14、キャビティ13を備えた金型、（Ｂ）入れ子20A, 20B、並びに、（Ｃ）表面に凹凸部を有し、入れ子20A, 20B上に配設された厚さ０．０３ｍｍ乃至０．５ｍｍの金属膜40A, 4Bを備えており、入れ子20A, 20Bは、金属製ブロック31A, 31B、厚さ０．０３ｍｍ乃至１ｍｍの金属下地層32A, 32B、及び、金属下地層32A, 32B上に形成された、セラミックスから成る溶射皮膜33A, 33Bから構成されており、金属膜40A, 40Bの表面には、１０原子％乃至４５原子％の水素原子を含有する炭素水素固形物から成る炭素水素固形物被膜が形成されている。 （もっと読む）

【課題】高い耐久性を有し、平面、曲面を問わず製作可能であり、Ｂ５サイズ以上の面積の大きな面積であっても作製可能な入れ子を備え、極めて高い平滑性を有する成形品を成形するための金型組立体を提供する。
【解決手段】金型組立体10は、（Ａ）第１金型部11、第２金型部12、溶融樹脂射出部14A, 14B、キャビティ13を備えた金型、並びに、（Ｂ）入れ子20A, 20Bを備えており、入れ子20A, 20Bは、（ａ）金属製ブロック31A, 31B、（ｂ）厚さ０．０３ｍｍ乃至１ｍｍの金属下地層32A, 32B、及び、（ｃ）金属下地層32A, 32B上に形成された、セラミックスから成る溶射皮膜33A, 33Bから構成されており、溶射皮膜は厚さ方向に変化した気孔率を有し、気孔率は溶射皮膜表面に近い側ほど低い値であり、溶射皮膜の表面には、１０原子％乃至４５原子％の水素原子を含有する炭素水素固形物から成る炭素水素固形物被膜が形成されている。 （もっと読む）

【課題】鋼板と溶融金属メッキ浴用ロールとの間に侵入したドロスを速やかに排出することによって、溶融金属メッキ浴用ロールを円滑に回転させ、鋼板のスリップ傷を防止できる溶融金属メッキ浴用ロールとその製造方法を提供する。
【解決手段】ロール１表面に深さ0.05〜１mmの連続する延伸溝２を有し、延伸溝がピッチ0.5〜３mmで互いに平行であるとともにロール胴長方向に対して±20°以内の傾き角を有し、ロール表面における延伸溝を除く円筒曲面部３の面積Ｓ_C（mm²）と延伸溝の開口部の面積Ｓ_D（mm²）との合計であるロール表面の総面積Ｓ_R＝Ｓ_C＋Ｓ_Dに対する円筒曲面部の面積Ｓ_Cの比率Ｑ＝100×Ｓ_C／Ｓ_Rを25〜70％の範囲内とする。 （もっと読む）

【課題】半導体加工処理容器内部材は、ハロゲンガスを含む環境でプラズマエッチング加工されると、早期に腐食損傷を受けるとともに、微小なパーティクルを発生して処理容器内を汚染して、半導体の加工生産能力を甚しく低下させる問題がある。
【解決手段】めっき皮膜やＰＶＤ皮膜等からなるアンダーコート層を有する基材の表面に、そのアンダーコート層中に炭素と水素を主成分とする超微小固体粒子を侵入させると共に、該アンダーコート層材表面にも、これらの超微小固体粒子の集合体からなる皮膜を被覆形成してなる半導体加工装置用部材である。 （もっと読む）

【課題】浸炭性雰囲気で使用される金属部材の耐摩耗性と耐焼付き性を向上しかつ優れた耐浸炭性を有する溶射皮膜を表面に形成した金属部材を提供する。
【解決手段】Cr炭化物，Ｗ炭化物およびTi炭化物の中から選ばれる１種または２種以上の炭化物を30〜95質量％含有し、残部がNi，CoおよびFeの中から選ばれる１種または２種以上を含有する合金と不可避的不純物からなる溶射皮膜２をトップコートとして表面に有する金属部材。 （もっと読む）

【課題】半導体加工装置の反応容器等に好適な優れた外観を有する溶射皮膜被覆部材、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の表面がＲＥＭ酸化物の溶射皮膜で被覆され、溶射皮膜の外表面から深さ50μｍ以下の領域に形成される緻密な組織の気孔率が１％以下であり、かつ緻密な組織が透明または白色を呈するとともに、溶射皮膜の外表面の粗さがＲa１〜３μｍの範囲内を満足する優れた外観を有する溶射皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】基台上面を平坦にでき、基台部と静電チャック部とを良好に固定できるプラズマ処理装置用基板載置台、プラズマ処理装置および絶縁皮膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】被処理基板を吸着するための静電チャック部８と、静電チャック部８を保持する基台７とを含み、基台７は、高さの高い凸部７２と、凸部７２の周囲に凸部７２よりも所定高さ低い位置に外周面７１とを有し、外周面７１上に、凸部７２と外周面７１との高さに等しい膜圧の溶射皮膜７６を積層して凸部７２と溶射皮膜７６の面とが連続するように平坦に形成し、絶縁性部材８１，８３，８４の間に電極８２を配設して静電チャック部８を構成し、凸部７２の上面と溶射皮膜７６の面との境目を覆うように、基台７に接着剤９で静電チャック部８を固定する。 （もっと読む）

【課題】プレス金型のコーティング皮膜の耐焼付き性，耐摩耗性を向上し、かつその摩耗を目視で簡便に判定する技術を提供する。
【解決手段】プレス金型の表面に第１コーティング皮膜を形成し、第１コーティング皮膜の上面にその第１コーティング皮膜と異なる色調を有する第２コーティング皮膜を形成し、第２コーティング皮膜が摩耗して第１コーティング皮膜が露出するまでプレス金型を使用する。 （もっと読む）

【課題】表面で発生する腐食・エロージョン損傷の抑制に加え、粉じん類の付着堆積にともなう圧縮機の性能低下を抑制する圧縮機翼と、その製造方法と、この圧縮機翼を備えた火力発電用ガスタービンを提供する。
【解決手段】圧縮機翼１の表面付近の一部拡大部分１１は、金属製の基材１２と、この基材１２の表面に形成された炭素と水素とを主成分とし、金属又は半金属の酸化物の超微粒子を分散含有しているアモルファス状膜１３とを備えてなる。アモルファス状膜１３は、厚さが１μｍ〜５０μｍの範囲、硬さがＨＶ８００〜２２００の範囲、表面の算術平均粗さＲａが０．５μｍ以下、且つ、十点平均粗さＲｚが２．０μｍ以下であることが好ましい。また、アモルファス状膜１３における水素原子の割合が１５〜３１原子％の範囲、超微粒子の割合が３〜３５原子％、残りが炭素原子で組成されているものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】白色のＹ_２Ｏ_３溶射粉末材料を用いて、黒色の酸化イットリウム溶射皮膜を形成するための技術を提案する。
【解決手段】白色の溶射用Ｙ_２Ｏ_３粉末材料を用い、プラズマ・ジェット発生用作動ガスとして、Ａｒ、Ｈｅなどの不活性ガス中に水素ガスを添加した混合ガスによるプラズマ溶射法によって、プラズマ熱源中に含まれる原子状の水素が有する強い還元作用で、Ｙ_２Ｏ_３粉末の酸素の一部が消失したＹ_２Ｏ_３−ｘの黒色粒子に変化させて、基材表面に、黒色酸化イットリウム溶射皮膜を形成する。 （もっと読む）