【課題】低コストの装置構成で処理精度の向上を図ることのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｋの面における任意箇所に所定の処理を施す処理ヘッド７３と、基板Ｋと処理ヘッド７３とを相対的に移動させる駆動手段７４Ｘ,７４Ｙとを備え、基板Ｋと処理ヘッド７３とを相対的に移動させることで基板Ｋに１次元または２次元的な所定の処理を施す基板処理装置であって、前記駆動手段７４Ｘ,７４Ｙに見かけ上の真直進性を持たせるための制御データＤ６Ｘ，Ｄ６Ｙを記憶した記憶手段９２を備え、基板Ｋと処理ヘッド７３との相対的な移動に伴い前記制御データＤ６Ｘ，Ｄ６Ｙに基づき駆動手段７４Ｘ,７４Ｙを補正駆動するように構成する。 （もっと読む）

【課題】 アンダーフィル剤の吐出量や吐出位置精度を精度良く安定化してチップ部品と基板の間隙に充填することができるディスペンス装置を提供する。
【解決手段】 真空チャンバーで形成した真空雰囲気に備えられたディスペンス装置であって、シリンダと、シリンダ内を移動するピストンと、ピストンに連結されるニードルを備え、前記ピストンにより仕切られたシリンダの各筒室の圧力を可変させることにより前記ピストンを動作させ、前記ニードルが塗布液を蓄えたニードルバルブの中を移動することにより塗布液をニードルバルブの先端に設けられた吐出孔より吐出する構成であって、前記シリンダの内部を前記ピストンで仕切ることにより形成される筒室の一方が大気開放される換気口に接続され、他方の筒室が前記ピストンを駆動する流体圧力源に切替弁を介して接続されていることを特徴とするディスペンス装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】前段のプロセスでレーザ光により基板に形成したパターンと、後段のプロセスでレーザ光によりこの基板に形成するパターンとが接触や間隔ずれを起こさないようにする。
【解決手段】基板（Ｋ）とレーザ光（ｂ２）とを相対駆動することで基板（Ｋ）に所定のパターンを加工形成するレーザ加工方法であって、前段のプロセスで基板（Ｋ）に形成された第１パターン（ＬＡ１）の形状を特定するデータを倣元線データ（Ｄ２）として取得する倣元線データ取得ステップ（Ｓ２００）と、倣元線データ（Ｄ２）に基づいて、後段のプロセスでレーザ光（ｂ２）が辿る軌跡が第１パターン（ＬＡ１）の形状に倣う形状となるように、基板（Ｋ）とレーザ光（ｂ２）とを相対駆動して第２パターン（Ｌ１）を形成する第２パターン形成ステップ（Ｓ３００）とを備える。 （もっと読む）

【課題】 薄膜太陽電池の製造装置においては、従来の技術例として開示されている基板上の成膜面を下に向けた状態で該基板をレーザスクライブ加工する方が望ましい。
【解決手段】 片面に薄板が形成された基板を前記薄膜形成面を下向きになるように基板の上面を吸着して前記基板を把持する搬送装置を用いて搬入する搬入方法において、隙間を設けて配置されたエアー浮上ユニットの吹き出し口の隙間や外周に基板昇降用リフトピンを備えた基板搬送をおこなう場合に、基板の下面に形成された薄膜面を具備した基板加工後の機能に支障の無い位置に配備したリフトピンで支えた後、基板の下面に形成された薄膜に支障の無い位置に配備したエアー浮上ユニットに低速で基板を降下させ受け渡す。 （もっと読む）

【課題】低コストの装置構成で処理時間の短縮化及び処理精度の向上を図ることのできる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板における面の任意箇所に対して所定の処理を施す処理ヘッドと、基板を第１方向に駆動する第１駆動手段と、処理ヘッドを第１方向に直交する第２方向に駆動する第２駆動手段とを備え、基板を第１方向に駆動する動作と、処理ヘッドを第２方向に駆動する動作とを組み合わせて、処理ヘッドにより基板の面に対して２次元的な処理を施す基板処理装置であって、処理ヘッドを第１方向に駆動する第３駆動手段を備え、第１駆動手段が基板を第１方向に一定速度で駆動した状態を維持しつつ、第３駆動手段が処理ヘッドを第１方向に上記一定速度で駆動し且つ第２駆動手段が処理ヘッドを第２方向に駆動する。 （もっと読む）

【課題】ローラ外周面に付着した塗布液を掻き取るスクレーパがローラの長手方向に亘って自律的に接触することができる予備塗布装置及び、それを備える塗布装置を提供する。
【解決手段】予備塗布装置は、ローラの外周面にスクレーパを当接させることによりローラの外周面に付着した塗布液を掻き取るローラ表面掻取装置を備えており、このローラ表面掻取装置が、スクレーパがローラの軸方向に沿ってローラの外周面に当接するようにスクレーパの姿勢変化を許容するスクレーパ姿勢自律調整手段を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】インクジェットノズルを用いた塗布動作を中断して待機するに際して、乾燥雰囲気中にあってもインクジェットノズル先端部に保持されているインクが乾燥することなく、作業効率を低下させることなく、吐出不良を引き起こすことのない塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】複数のインクジェットノズルを有するインクジェットヘッドと塗布対象物を相対的に移動させて、前記塗布対象物にインクを塗布する塗布装置であって、塗布が中断された際にインクジェットヘッドを待機させておく場所に蒸気発生手段を設け、使用しているインクの主溶剤の蒸気圧より高い蒸気圧の溶剤を用いて、インクジェットヘッド付近に溶剤雰囲気を作る。 （もっと読む）

【課題】基板に形成された薄膜面への損傷の心配がなく、基板の搬送においても支障なく行えるレーザスクライブ加工装置及びその加工方法を提供する。
【解決手段】下向きの状態にある基板の薄膜形成面へエアーを吹き付けてその基板を浮上させるエアー浮上ユニットからなるステージと、このステージと前記基板の薄膜形成面とが非接触の状態で基板の片側縁端部を保持する保持手段を備え、片側縁端部が保持された状態で前記基板の薄膜がレーザスクライブ加工され、前記保持手段によって基板が搬送される構成になっている。 （もっと読む）

【課題】計算負荷が低く、処理時間が短くて済む周波数推定方法、周波数推定装置、表面形状測定方法及び表面形状測定装置を提供すること。
【解決手段】干渉縞や電気信号などの有周期性の観測データにおける周波数を推定する周波数推定方法であって、観測データを取得するステップと、仮定した任意周波数の正弦波状関数をモデル信号として前記観測データに適合させるステップと、前記観測データと前記モデル信号との部分的な位相のずれ量を求めるステップと、前記モデル信号の周波数と、前記位相のずれ量についての位相勾配とに基づいて、前記観測データの周波数を算出するステップとを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】インクジェットノズルを用いた塗布動作を中断して待機するに際して、乾燥雰囲気中にあってもインクジェットノズル先端部に保持されているインクの乾燥を遅らせ、作業効率を低下させることなく、吐出不良を引き起こすことのない塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布装置は、複数のインクジェットノズル１３を有するインクジェットヘッド１２と塗布対象物を相対的に移動させて、前記塗布対象物にインクを塗布する塗布装置であって、前記インクジェットノズル１３にインクを供給するインクタンク１８、１９と、前記インクジェットノズル１３内のインクの負圧を制御する圧力調整手段１７と、塗布動作後に所定の信号が入力されると、前記圧力調整手段１３に塗布時の負圧より大気圧に近い負圧とする指示を出す制御手段と、を備える。 （もっと読む）