【解決課題】 珪酸アルカリに含まれている金属性不純物の除去効果が高く、金属性不純物の含有量が極めて少ない高純度活性珪酸水溶液の製造方法を提供すること。
【解決手段】 活性珪酸水溶液に、窒素原子又は燐原子を有するキレート化剤を混合することにより、又は珪酸アルカリ水溶液に、キレート化剤を混合し、次いで、キレート化剤を含有する珪酸アルカリ水溶液を、Ｈ形陽イオン交換体に接触させることにより、キレート化剤を含有する活性珪酸水溶液を得、次いで、キレート化剤を含有する活性珪酸水溶液を陰イオン交換体に接触させることを特徴とする高純度活性珪酸水溶液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】有価物の再利用の観点からも優れたリン酸カルシウムを有効成分として含有する飼料添加剤を提供すること。
【解決手段】次亜リン酸ナトリウムの製造の際に副生する亜リン酸カルシウムを主成分とする副生物を加熱処理し、得られるリン酸カルシウムを有効成分とする加熱処理物を含有する飼料用添加剤。 （もっと読む）

【課題】充放電サイクル特性に優れ、且つクーロン効率、放電容量維持率および５Ｖ放電容量領域／（５Ｖ放電容量領域＋４Ｖ放電容量領域）の比率が高いリチウム二次電池とすることのできるリチウムマンガンニッケル系複合酸化物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表わされるリチウムマンガンニッケル系複合酸化物の製造方法であって、
Ｌｉ_ｘＭｎ_{１．５−ｙ}Ｎｉ_{０．５−ｚ}Ｍ_ｙ＋ｚＯ_４−ｗ （１）
（式中、０．９＜ｘ＜１．１、ｙ＞０、ｚ＞０、０＜ｙ＋ｚ＜０．１、０≦ｗ＜２であり、Ｍは、マグネシウム、アルミニウム、チタン及びジルコニウムから選ばれる少なくとも１種の金属元素を示す。）
リチウム、マンガン、ニッケル及びＭを含む混合物を９５０〜１０５０℃で焼成し、冷却して前駆体を得た後、該前駆体を５５０〜６５０℃で再焼成することを特徴とする前記リチウムマンガンニッケル系複合酸化物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 リチウム二次電池の正極活物質として有用な改質リチウムマンガンニッケル系複合酸化物、その製造方法、リチウム二次電池正極活物質及びサイクル特性及びクーロン効率に優れたリチウム二次電池を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）；Ｌｉ_xＭｎ_1.5Ｎｉ_0.5Ｏ_4-w （１）
（式中、０＜ｘ＜２、０≦ｗ＜２である。）で表わされるリチウムマンガンニッケル系複合酸化物の粒子表面をＭｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ及びＺｎから選ばれる少なくとも１種以上の金属元素を含む金属酸化物で被覆されていることを特徴とする改質リチウムマンガンニッケル系複合酸化物、その製造方法、リチウム二次電池正極活物質、及びリチウム二次電池。 （もっと読む）

【解決課題】 絶縁性樹脂の安定剤として非鉛系安定剤を用いる場合に、該絶縁性樹脂に高い絶縁性能を付与することができる絶縁性向上剤及び絶縁性向上剤組成物並びに絶縁性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 比表面積が３００〜１０００ｍ^２／ｇ、嵩密度が０．１５〜０．４ｇ／ｃｍ^３、細孔分布曲線の主ピークの細孔直径が４ｎｍ以下であるシリカゲル粉末であって、絶縁性向上剤として用いることを特徴とするシリカゲル粉末。 （もっと読む）

【解決課題】 絶縁性樹脂の安定剤として非鉛系安定剤を用いる場合に、該絶縁性樹脂に高い絶縁性能を付与することができる絶縁性向上剤及び絶縁性向上剤組成物、並びに絶縁性に優れる絶縁性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 比表面積が１〜５０ｍ^２／ｇ、水分の含有量が５重量％以下、平均粒径が０．１〜１０μｍである非晶質アルミノシリケート粒子であって、絶縁性向上剤として用いることを特徴とする非晶質アルミノシリケート粒子。 （もっと読む）

【課題】 環境汚染や労働衛生の観点から安全であり、従来のリン系皮なめし剤と比較して、ホルムアルデヒドの発生がなく、皮のなめし効果に優れた皮なめし剤及び皮なめし方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の皮なめし剤は、下記一般式（１）で表わされるホスホニウム塩を有効量含有することを特徴とする。一般式（１）で表わされるホスホニウム塩は、下記一般式（２）で表わされるトリスヒドロキシプロピルホスフィンと、酸との反応により得られる生成物であることが好ましい。一般式（１）中のＸは酸残基のアニオンであることが好ましい。
【化１】


【化２】
（もっと読む）

本発明は、シリコンウエハの表面または外周部、または表面を酸化膜や窒化膜等で被覆した表面または外周部の研磨加工を行なう研磨用組成物に関し、高速研磨ができ且つ非加工部位のエッチングによるシミの発生を防止できる研磨用組成物の提供および該研磨用組成物を用いた研磨方法に関する。 本発明の研磨用組成物は、水、酸化珪素粒子および界面活性剤を含有し、かつアルカリ性化合物によってｐＨ８．７〜１２．０の間に調整されてなることを特徴とするシリコンウエハ用研磨用組成物であり、この研磨用組成物は加工速度が速いだけではなく非加工部位に対してエッチングを起こさず、特にウエハを保持するための吸引治具周辺部で研磨剤が接触している局所で発生するシミを防止する。 （もっと読む）

工業的に有利な３−クロロメチル−３−セフェム誘導体結晶の製造方法を提供する。 チアゾリンアゼチジノン誘導体（１）と、スルホニルハライド（２）とを酸の存在下に溶媒中で反応させて、アゼチジノン誘導体（３）を得る第一工程、該アゼチジノン誘導体（３）と塩素化剤とを有機溶媒中で反応させて、塩素化アゼチジノン誘導体（４）を得る第二工程、該塩素化アゼチジノン誘導体（４）と、アルコラート（５）をアルコールとエーテルを含む溶媒中でｐＨ８以下で反応させて、３−クロロメチル−３−セフェム誘導体（６）を結晶として回収する第三工程を含む３−クロロメチル−３−セフェム誘導体の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、中心金属に配位する際に安定した不斉空間が構築され、不斉水素化反応などの触媒的不斉合成の際に用いられる遷移金属触媒の配位子として有用な新規光学活性リンキラルジホスフェタン化合物、該化合物の中間体、及び該化合物を配位子とする遷移金属錯体触媒を提供する。
本発明に係る化合物は、一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒは直鎖状、分岐状または環状の炭素数２〜２０のアルキル基を示す）で表わされる構造を有する光学活性ジホスフェタン化合物である。 （もっと読む）