説明

日本化学工業株式会社により出願された特許

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【解決課題】通常使用において放電容量が低下し難く且つ過放電による性能の劣化を少なくすることができるリチウム二次電池正極副活物質を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1):LiMnO(1)(式中、0.90≦x≦1.05である。)で表され、L表色系における、L値が25.0〜32.0、aが−1.50〜−0.15、bが2.50〜8.00であること、を特徴とするリチウム二次電池正極副活物質用マンガン酸リチウム。 (もっと読む)


【課題】ミクロ領域とメソ領域の中間域の細孔径を有し、細孔径分布が狭い無機質多孔体であって、高分子量の分子や嵩高い分子を対象とする触媒、吸着体に用い得る耐熱性の優れた吸着、触媒材料を提供すること。
【解決手段】マガディアイト又はケニヤアイトからなる層状珪酸の層間が金属酸化物により架橋されており、且つ20〜40Åの範囲に細孔径分布の主ピークを有する無機質多孔体。ここで、金属酸化物は、シリカ、アルミナ、チタニア及びジルコニアからなる群から選択される1種以上であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】銀系ゼオライト抗菌剤の変色問題や、銀イオンによる樹脂の変色問題などの解決を目指し、経時による変色傾向がないか又は少なく、樹脂成形製品や塗料製品等への配合に適した抗菌剤を提供すること。
【解決手段】本発明の抗菌剤は下記一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール銀化合物を含有することを特徴とする。粒子径が0.05〜50μmの粉粒体であり、水分が5重量%以下に調整されていることが好ましい。更に、銅含有化合物又は/及び亜鉛含有化合物を含有することも好ましい。
【化1】
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【課題】本発明の目的は、リチウム二次電池の正極活物質とした場合、放電容量およびサイクル特性に優れる高エネルギー密度を与えることができるリチウム二次電池用正極活物質として有用なリチウムマンガン複合酸化物及び該リチウムマンガン複合酸化物を正極活物質として用いたリチウム二次電池を提供することにある。
【解決手段】本発明は、下記の一般式(1)
LiMn2−yMe4−z (1)
(式中、Meはマンガン以外の原子番号11以上の金属元素又は遷移金属元素を表し、xは0<x<2.0の範囲内にあり、yは0≦y≦0.6の範囲内にあり、zは0≦z<2.0の範囲内にある)
で表されるリチウムマンガン複合酸化物において、X線回折によるリートベルト解析法による8aサイトに占めるリチウム含有率が90%以上で、かつ上記リチウムマンガン複合酸化物の純度が90%以上であることを特徴とするリチウムマンガン複合酸化物に係る。 (もっと読む)


【課題】不純物の少ない高純度の有機酸クロム(III)水溶液及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】一般式Crm(Axn(式中、Aは有機酸からプロトンを除いた残基を表し、xはAの電荷を表し、m及びnは3m+xn=0を満たす整数をそれぞれ表す。)で表される有機酸クロム(III)を含む。水溶液中の有機酸クロム(III)の濃度がCrm(Axnとして6重量%以上である。且つ不純物イオンの濃度がCrm(Axnとして20重量%換算あたりNa≦30ppm、Fe≦20ppm、Cl≦0.001%、SO4≦0.03%、NO3≦20ppmである。更に、クロム(VI)を実質的に含んでいない。 (もっと読む)


【課題】導電性液晶半導体を用いて半導体塗液の塗布や室温域での真空蒸着等の単純なプロセスにより情報記録部を作製することができる新規なメモリ素子、これを用いたデータ記録方法及びICタグを提供すること。
【解決手段】本発明のメモリ素子は、液晶化合物を含む導電性液晶半導体材料層にレーザー光をスポット照射して選択的に加熱処理を行い該液晶化合物の液晶状態の分子配向を利用して情報を記憶するメモリ素子であって、互いに平行な複数本の線状の電極から形成された第1の電極群と、前記第1の電極群を覆うように形成された、長い直線的共役構造部分を持ち液晶相としてスメクチック相を有する液晶化合物を含む導電性液晶半導体材料層と、前記導電性液晶半導体材料層上に前記第1の電極群の電極と交差する方向に延びる互いに平行な複数本の線状の透明電極から形成された第2の電極群と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【解決課題】新規な化学構造を有し、且つ抗癌活性が高い抗癌剤を提供することにある。
【解決手段】下記一般式(1):


で表されることを特徴とするホスフィン遷移金属錯体、及び前記一般式(1)で表されるホスフィン遷移金属錯体を含有することを特徴とする抗癌剤。 (もっと読む)


【課題】フェロセン骨格を有するホスフィン遷移金属錯体を含有する抗癌剤の提供。
【解決手段】下記一般式(3)で表されるフェロセン骨格を有するホスフィン遷移金属錯体、該錯体を含有する抗癌剤。
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【課題】半導体ウエハ表面に生じる砥粒の残存(パーティクルの発生)を抑制し、かつ高い研磨速度を維持しつつ、良好な面粗さが得られる半導体ウエハの平面およびエッジ部分の鏡面研磨に使用される半導体ウエハ研磨用エッチング液組成物およびそれを用いた研磨用組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】25℃における酸解離定数の逆数の対数値(pKa)が8.0〜12.5の弱酸および第4アンモニウムを組み合わせた緩衝溶液組成の水溶液、または25℃における酸解離定数の逆数の対数値(pKa)が8.0〜12.5の弱酸並びに第4アンモニウム及びカリウムを組み合わせた緩衝溶液組成の水溶液であって、100倍に希釈したときpH9.5〜12の間で緩衝作用を有することを特徴とする半導体ウエハ研磨用エッチング液組成物。 (もっと読む)


【課題】熱可塑性樹脂等の添加剤あるいはエポキシ樹脂等の熱硬化型樹脂硬化剤として使用され、熱可塑性プラスチックスあるいは熱硬化型樹脂の難燃性を著しく改良することができる新規なリン変性ノボラック型フェノール系樹脂を提供する。
【解決手段】ノボラック型フェノール系樹脂に含有する少なくとも一つ以上の水酸基が芳香環を含むリン酸エステル残基で置換されたリン変性フェノール系樹脂。 (もっと読む)


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