【課題】工業的に有利で、且つ環境負荷の少ない方法によるラクトン等の環状化合物の効率的製造法の提供。
【解決手段】一般式（１）


（式中、Ｘは、ＣＯＯＨ基、ＯＨ基等。ｎは２、３）で表されるアルケン化合物を、アルミノシリケートと接触させて分子内環化し、生成される環状化合物が、例えばＸがＣＯＯＨ基のとき、式（２）で表される化合物であることを特徴とする環状化合物の製造方法。
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【解決課題】全粒径に亘ってＢａ／Ｔｉモル比のバラツキが小さいシュウ酸バリウムチタニルを提供すること。更に、本発明は結晶性に優れたチタン酸バリウムを提供すること。
【解決手段】シュウ酸及び四塩化チタンを水に混合して得られる水溶液（Ａ１液）と、塩化バリウム水溶液（Ｂ１液）と、を反応容器に供給しつつ、反応液を該反応容器から排出しながら、シュウ酸バリウムチタニルの生成反応を行うことを特徴とするシュウ酸バリウムチタニルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】粒径が小さく、かつ単相のカルシウム−マンガン複合酸化物の粒子を容易に製造することができる方法を提供すること。
【解決手段】本発明のカルシウム−マンガン複合酸化物の製造方法は、カルシウム源及びマンガン源を分散媒と混合してスラリーを調製し、このスラリーをメディアミルによって湿式粉砕し、粉砕後のスラリーをスプレードライ法に付して乾燥粉体となし、この乾燥粉体を焼成することを特徴とする。焼成は７５０〜１２００℃で行うことが好適である。 （もっと読む）

【課題】環境負荷が少なく且つ工業的に有利な方法で、光学純度が高い光学活性なアミノオキシ化合物を高収率で製造する方法の提供。
【解決手段】アルコール、触媒量のスズ化合物、ビフェニル骨格を有する光学活性なジホスフィン化合物及び銀化合物の存在下で、下記一般式（１）で表されるニトロソ化合物と、下記一般式（２）で表されるエノラート化合物と、を反応させることを特徴とする下記一般式（３）で表される光学活性なアミノオキシ化合物の製造方法。
［化１］
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【課題】環境負荷が少なく且つ工業的に有利な方法で、アミノオキシ化合物を高収率で製造でき、光学純度が高い光学活性なアミノオキシ化合物も製造できる方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるニトロソ化合物と、下記一般式（２）で表されるスズエノラート化合物とを、下記一般式（３）で表されるピラジン誘導体と銀化合物との錯体の存在下で反応させることを特徴とする下記一般式（４）で表されるアミノオキシ化合物の製造方法。
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【課題】デバイスウエハ等の平面及びエッジ部分の研磨において、ウエハ等の平面部にパーティクル汚染、金属汚染を起こしにくい半導体ウエハ研磨用組成物を提供すること。
【解決手段】テトラアルコキシシランを酸触媒で加水分解して得た活性珪酸水溶液に、水酸化第４アンモニウムを加えてｐＨをアルカリとし、加熱してシリカ粒子を成長させて得られたコロイダルシリカを含有する半導体ウエハ研磨用組成物であって、前記シリカ粒子が、電子顕微鏡観察による短軸方向の平均直径が５〜５０ｎｍであり、長軸方向の長さが短軸の１．２〜１０倍である非球状の形状を有し、ＢＥＴ法より算出される平均粒子径が５〜１００ｎｍであり、かつ、前記半導体ウエハ研磨用組成物がｐＨ緩衝溶液を含むことにより、２５℃においてｐＨ８〜１１の間で緩衝作用を有することを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。 （もっと読む）

【課題】リチウム系複合酸化物を正極活物質又は負極活物質として用いるリチウム二次電池であって、サイクル特性、急速充放電特性及び保存安定性に優れるリチウム二次電池を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）：Ｍ^１_（ａ）Ｘ_（ｂ）（１）（式中、Ｍ^１は、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｔｉ及びＺｒのうちの１種又は２種以上の多価のカチオンである。Ｘは、リチウムイオン二次電池の電解質用リチウム塩のアニオンである。ａ＞０であり、ｂ＞０である。）で表わされる表面処理剤で表面処理したリチウム系複合酸化物を活物質とするリチウムイオン二次電池。 （もっと読む）

【課題】電気伝導率が高くかつ耐熱性及び難燃性に優れる導電性高分子用のドーパントを提供すること。
【解決手段】導電性高分子用ドーパントは下記一般式（１）で表される四級ホスホニウム塩からなることを特徴とする。式中、Ｒ₁、Ｒ₂及びＲ₃は、炭素数１〜８のアルキル基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｒ₁とＲ₂が結合して環を形成してもよい。ｎはメチレン基の数を表し、ｎ＝１〜６である。Ｒ₄〜Ｒ₈は、水素又は置換基を表し、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｘ^-はアニオンを表す。
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【課題】電子材料用研磨材等に有用な研磨用組成物を提供すること。
【解決手段】珪酸アルカリ水溶液からアルカリを除去して得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか１種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカを主成分とし、水酸化第４アンモニウムを含有することで、２５℃におけるｐＨが８．５〜１１．０に調製されていることを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。 （もっと読む）

【課題】光学活性ホスフィン配位子の製造に有用で、対掌体のいずれをも容易に製造可能な光学活性ホスフィンボラン化合物及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｐ−１）で表されるホスフィンボラン化合物。下記一般式（Ｐ−２）で表される水素−ホスフィンボラン化合物と下記一般式（３）で表される光学活性イソシアネート化合物とをカップリング反応に付す上記ホスフィンボラン化合物の製造方法。下記式中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ水素原子、炭化水素又は置換炭化水素基を示し、それらが存在することによりリン原子に不斉が生じるように選択してもよく又は不斉が生じないように選択してもよく、Ｒ³は不斉炭化水素基又は不斉炭化水素基を示す。
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