【課題】装置構成を大規模にすることなく、タクトタイムを短縮可能な有機ＥＬ製造技術を提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ製造装置１は、第１〜第４の搬送室２ａ〜２ｄ間を真空中で基板７を順次搬送するように構成された搬送ユニット２と、搬送ユニット２の各搬送室２ａ〜２ｄに接続された第１〜第８の成膜ユニット１０〜８０とを備え、各成膜ユニット１０〜８０は、マスク付きパレット９を収容するマスクストック室１１〜８１と、基板７とマスク付きパレット９のマスク８とを位置合わせする位置合わせ室１５〜８５と、マスク付きパレット９に装着された基板７上に成膜を行う成膜室１３〜８３とを有する。マスクストック室１４〜８４と成膜室１３〜８３とが同一の成膜搬送ラインＭ上に配置される一方で、アライメント室１５〜８５が、成膜搬送ラインＭから分岐した退避位置に配置される。 （もっと読む）

【課題】封着材の塗布後に封着材から放出される水分を低減することができる封着パネルの製造方法及びそれを用いたプラズマディスプレイの製造方法を提供する。また、水分の発生が少ない紫外線硬化性樹脂を提供する。
【解決手段】背面基板における前面基板との対向面に、紫外線硬化性樹脂からなる封着材を塗布する塗布工程を有し、塗布工程に先立って、封着材を３５℃以上８５℃以下で加熱しつつ、０．１Ｐａ以下の減圧雰囲気下で２０時間以上１２０時間以下保持する第２脱ガス工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】保護網の形状の安定化を図ることによって保護網や回転翼の機械的な損傷を抑えた真空ポンプと、その真空ポンプの製造方法とを提供する。
【解決手段】吸気口に取付けられた円環状の鍔部２２と鍔部２２の内側に形成された網部２３とからなる保護網とを備えた真空ポンプであって、網部２３は、鍔部２２の径方向において区画されて、軸Ｃに近づくに連れて回転翼との間の距離が大きくなるように、軸Ｃの方向における位置を異にする複数の平坦部２３ｆと、軸Ｃの径方向において隣り合う平坦部２３ｆを軸Ｃの略軸方向に沿って連結する複数の段差部２３ｓとを備えた。 （もっと読む）

【課題】熱遷移効果が反映した圧力測定を行なう技術を提供する。
【解決手段】真空槽１１と、枝管１４を介して真空槽１１に接続された隔膜真空計１３にそれぞれ第一、第二の温度計２１、２２を取り付け、第一、第二の温度計２１、２２の測定結果と隔膜真空計１３の測定結果を圧力測定装置２０に入力させる。圧力測定装置２０の内部には、真空槽１１の温度と隔膜真空計１３の温度と隔膜真空計１３の測定値と、真空槽１１の内部圧力との関係が記憶されており、圧力測定装置２０は入力された測定結果から真空槽１１の内部圧力を求め、表示装置２８によって表示する。熱遷移効果が反映された圧力測定を行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】電力における包絡線の波形のパルス周波数を高くし、かつ高いパワーにて低周波電力をプロセスチャンバーの電極に伝達させ、異常放電を抑制して従来と同様の速度により成膜するプラズマＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】本発明のプラズマ発生装置は、それぞれ異なった基本周波数の電力を出力する複数の交流電源と、前記交流電源各々の出力に設けられた複数の整合回路と、２つの電極が対向して設けられたプラズマ反応器の対向電極と、該対向電極のいずれか一方の電極と、前記整合回路各々との間に設けられ、それぞれ対応する前記交流電源の前記基本周波数を通過帯域の中心周波数とする複数のバンドパスフィルタとを有する。 （もっと読む）

【課題】触媒線を用いた成膜室における成膜処理と、触媒線を退避させた成膜室におけるクリーニング処理とを円滑に実行可能にした成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】触媒ＣＶＤチャンバは、水平方向へ往復移動することにより連通孔３３ｈを開閉するシャッター３７と、シャッター３７に形成されて水平方向へ延びる開放スリット３７ａとを有する。そして、触媒ＣＶＤチャンバは、ホルダ３４が第二位置にある場合には、開放スリット３７ａが直線部分３６ｂを出し入れようにシャッター３７を往復移動することによって連通孔３３ｈを開閉する。 （もっと読む）

【課題】平面度の高い状態で基板を保持できる基板貼り合せ装置及び基板貼り合せ装置の制御方法を提供すること。
【解決手段】上定盤の下面における支持棹（吸着パッド）の間に粘着機構部５２を設けた。粘着機構部５２は、隣接する支持棹（吸着パッド）の間に複数の貫通孔７２が形成された加圧板７１と、下面７３よりも下方に突出するように設けられた粘着部材７４とを備えた。また、粘着機構部５２は、各貫通孔７２内に配置されるとともに加圧板７１の下面７３から出没可能に支持され、上基板保持装置により粘着機構部５２の近傍まで移動された第１の基板を上面側から吸着保持する吸着ヘッド７５を備えた。さらに、粘着機構部５２は、該吸着ヘッド７５に吸着された第１の基板を粘着部材７４に粘着させるように上昇させるアクチュエータ７６及び支持部材８２を備えた。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】複数枚の基板を温度制御しながら処理する。
【解決手段】基板トレイ３１には、支持板３２の貫通孔３５を覆うように複数の基板７が配置される。基板トレイ３１と載置台２１の間にはリング状の弾性部材４１が配置され、各貫通孔３５は弾性部材４１のリング内側の空間と対面するから、そのリング内側の空間に熱媒体ガスを供給すると、各基板７が熱媒体ガスと接触して冷却又は加熱され、各基板７を温度制御しながらエッチング等の処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 例えば焼結磁石の磁気特性の向上など製品機能を高めつつ高い量産性をもって低コストで製造できるようにした焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】 原料粉末を圧縮成形して成形体を得る工程と、前記成形体を処理室内に配置して加熱すると共に、同一または他の処理室内に配置した蒸発材料を蒸発させ、前記蒸発した金属原子を成形体表面に付着させ、前記付着した金属原子を結晶粒界及び／または結晶粒界相に拡散させながら液相焼結する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 保磁力などの磁気特性が効果的に向上または回復し、かつ、耐食性や耐候性を有する永久磁石を高い量産性で製造できる永久磁石の製造方法を提供する。
【解決手段】 処理室７０を画成する処理箱７内に焼結磁石と、Ｄｙ、Ｔｂの少なくとも一方を含む金属蒸発材料ｖとを配置した後、真空チャンバ３内に収納する。そして、真空中にて処理箱を加熱して金属蒸発材料を蒸発させ、蒸発した金属原子を焼結磁石表面に付着させ、前記付着した金属原子を焼結磁石の結晶粒界及び／または結晶粒界相に拡散させる。処理室内の昇温過程で金属蒸発材料が蒸発しないように処理室内に不活性ガスを導入する。 （もっと読む）