説明

株式会社アルバックにより出願された特許

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【課題】油回転真空ポンプの運転中のベーンの変形を防止することが可能なベーンの製造方法を提供する。
【解決手段】このベーンの製造方法は、油回転真空ポンプに使用される、少なくとも一部が樹脂材料で構成されたベーン30の製造方法であって、最終形状品30を最終形状に仕上げる(d)最終加工工程の前に、前記油回転真空ポンプに使用される油90に減圧環境で粗加工品32を浸漬する(c)油含浸工程を有する。 (もっと読む)


【課題】環境負荷が低減され、発光輝度及び寿命共に優れた酸化物蛍光体の製造方法を提供すること。
【解決手段】母体元素を含有する化合物と、付活剤元素を含有する化合物と、ゲル化剤と、水とを混合して水溶液を調製した後にゲル状混合物を得、次いで得られたゲル状混合物に水を添加して水溶液とした後に再度ゲル化する工程を1回以上経てから、得られたゲル状混合物を酸化性雰囲気中で焼成して酸化物蛍光体を製造する。 (もっと読む)


【要 約】
【課題】プラズマのインピーダンス測定を行なうことができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空槽11に測定室12を接続し、測定室12内に探針31,32を配置しておく。真空槽11には複数のプラズマ形成装置16が設けられており、真空槽11と測定室12との間のシャッタ35を開け、一台のプラズマ形成装置16を選択して高周波電圧を印加し、真空槽11内にプラズマを形成し、形成されたプラズマを負荷として、探針31,32から測定信号を印加し、そのプラズマのインピーダンスを求める。プラズマ形成装置16毎にインピーダンス整合を行なうことができる。真空処理を行なう際にはシャッタ35を閉じておくことができるので、エッチングガス等の処理ガスのプラズマによって探針31,32が損傷を受けないで済む。 (もっと読む)


【課題】成膜速度が向上し、プラズマのエネルギよるダメージがないカソード電極の製造方法、及び薄膜固体リチウムイオン2次電池の製造方法の提供。
【解決手段】スパッタリング法により、コバルト酸リチウム焼結体からなるターゲットを用い、このターゲットに高周波電力及びDC電力を重畳印加させながら、希ガスを供給して、0.1〜1.0Paの圧力下、薄膜固体リチウムイオン2次電池用の負極活物質層として機能するコバルト酸リチウム薄膜からなるカソード電極を形成する。このカソード電極を備えた薄膜固体リチウムイオン2次電池を製造する。 (もっと読む)


【課題】構成の簡素化及び製造コストを低減した上で、スパッタ雰囲気の異なる複数のスパッタ室間における反応ガス等の流入を防ぎ、雰囲気分離を確実に行うことができるスパッタ装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】隣接するスパッタ室13,14の間に雰囲気分離部40が形成され、雰囲気分離部40における基板Wの搬送方向に垂直な断面が、隣接するスパッタ室13,14における基板Wの搬送方向に垂直な断面より小さく形成され、雰囲気分離部40には、隣接するスパッタ室13,14で使用される不活性ガスを吐出する複数のガス吐出部42が設けられ、隣接するスパッタ室13,14を挟んで雰囲気分離部40の反対側には、隣接するスパッタ室13,14の排気を行う排気手段が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【要 約】
【課題】基板の処理速度の面内分布を均一にする。
【解決手段】支持板20の表面には、第一、第二のオーリング31、32が配置されており、基板7を第一、第二のオーリング31、32に密着させると、第一のオーリング31の内側の第一の空間41と、第一、第二のオーリング31、32の間の第二の空間42が密閉される。基板7裏面の中央部分と縁部分は、第一、第二の空間41、42にそれぞれ露出するから、第一、第二の空間41、42に異なる温度のガスを充満させれば、基板7の中央部分と縁部分を別々に温度制御できる。 (もっと読む)


【課題】金属の高濃度化を実現しつつ、低温焼成によって実用的な導電率を達成できる、安定した金属ナノ粒子の製造方法、並びに金属細線及び金属膜及びその形成方法の提供。
【解決手段】脂肪酸の有機金属化合物、直鎖若しくは分枝構造を有する脂肪族アミンの金属錯体、又は有機金属化合物と金属錯体との混合物の1種を非極性溶媒に溶解せしめ、この液に還元剤を添加して還元処理し、金属ナノ粒子を得る金属ナノ粒子の製造方法であって、さらに、還元処理を、還元剤を添加し、水素ガス、一酸化炭素ガス、水素含有ガス、又は一酸化炭素含有ガスを液中に導入しながら行い、還元処理の後、液中に脱イオン水を添加し、得られた混合物を攪拌し、次いで静置して液中に存在する不純物を極性溶媒に移行させ、非極性溶媒中の不純物濃度を低減させて金属ナノ粒子を得る。金属ナノ粒子の分散液を基材に塗布し、乾燥後低温焼成して導電性を有する金属細線又は金属膜を得る。 (もっと読む)


【課題】基板上に特徴パターンを形成するた流体材料の小滴をマイクロデポジションするシステムおよび方法の提供。
【解決手段】基板上に特徴パターンを画定するため流体材料の小滴をマイクロデポジションする。基板に対して特徴パターンが画定される。マスクは、マイクロデポジションヘッドの機能不良ノズルのために起こる欠陥の密度を低減する特徴パターンに対して形成される。流体材料の小滴は特徴パターンの副特徴を画定するためにマスクに基いて基板上にマイクロデポジションされる。マイクロデポジションヘッドの複数のノズルの一つは特徴パターンにおける複数の副特徴の各々に割り当てられる。ノズルはランダムに又は他の機能を用いて割り当てられ得る。マスクにおける割り当てられたノズルはマイクロデポジションヘッドの複数のパスの一つに割り当てられる。 (もっと読む)


【課題】カソード電極側の蒸着材料が消耗することによってトリガ放電が発生しなくならないように、蒸着材料を自動的に供給可能な同軸型真空アーク蒸着源。
【解決手段】本発明の蒸着源5は、蒸着材料11と一体的な棒状のカソード電極12と、カソード電極12の周囲に配置されたアノード電極と、蒸着材料11に近接した位置に配置されたトリガ電極13と、蒸着材料11を軸方向に移動させる手段と、カソード電極12とアノード電極12の間における放電を制御する電源装置6と、電源装置6の出力に基いて直線駆動機構62の駆動制御を行う放電コントローラ65とを備えた同軸型真空アーク蒸着源である。蒸着材料11と一体的な棒状のカソード電極12は、放電コントローラ65からの信号を受けた直線駆動機構62により、アーク放電に同期して自動的に駆動される。 (もっと読む)


【課題】電流供給時における触媒線の変位を回避させた成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】基板Sの成膜面Saを立てて基板Sを保持する成膜ステージと、成膜面Saと対向するように吊下げられる触媒線15と、触媒線15を加熱するために触媒線15へ電流を供給する電源とを備え、加熱される触媒線15へ原料ガスを供給することにより成膜種を生成し、成膜種を成膜面Saに堆積させることによって成膜面Saに薄膜を成膜する。そして、触媒線15を流れる荷電粒子に作用して触媒線15を成膜面Saに沿って拘束する拘束磁場を形成して触媒線15に拘束磁場を加える拘束線20を備える。 (もっと読む)


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