【課題】 複雑な演算処理を要することなく、多孔電極を有するイオン源のイオン引出し孔から出射される際のイオンビームが持つ特性を測定することができる装置および方法を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム測定装置４０ａは、イオン源２の多孔電極６から引き出されたイオンビーム１０の一部を通過させる開口１４を有する遮蔽板１２と、開口１４を通過したイオンビーム１０のビーム電流を検出する検出器１８と、それをｘ方向に移動させる検出器駆動装置２４とを備えている。かつ、多孔電極６と検出器１８間の距離をＬ、遮蔽板１２と検出器１８間の距離をｄ、ｘ方向に関して、多孔電極６の各イオン引出し孔８の寸法をａ、その間隔をｐ、開口１４の寸法をｂ、検出器１８の寸法をｗとすると、次式の関係を満たしている。
｛ｗ（Ｌ−ｄ）＋ｂＬ｝／ｄ＜（ｐ−ａ） （もっと読む）

【課題】 平行性の良いイオンビームを引き出すことができるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源は、プラズマ生成容器３０と、フィラメント４２と、電子を反射させると共にイオン５２を引き出す反射電極４８と、プラズマ生成容器３０と同電位に保たれる制御電極４６と、イオン５２を減速する減速電極５０とを備えている。これらは、ｙｚ平面に平行な面状をしている。更に、プラズマ生成容器３０内にｘ軸に平行な磁界を発生させる第１コイル５４と、イオン５２を加速してイオンビーム９０として引き出す引出し電極系７６と、引出し電極系７６付近にｘ軸に平行な磁界を発生させると共に、第１コイル５４と協働して、減速電極５０と引出し電極系７６間の領域に、イオン５２の進行方向に向けて減衰している磁界を発生させる第２コイル８６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 基板位置での２次元のイオンビーム電流分布の均一性を向上させることができる装置を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、イオンビーム４を発生するイオン源２と、イオン源２内で２次元で走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇと、それ用の電源１４と、基板相当位置におけるイオンビーム４の２次元のビーム電流分布を測定するイオンビームモニタ１０と、制御装置１２とを備えている。制御装置１２は、モニタ１０からの測定データに基づいて電源１４を制御することによって、モニタ１０で測定したビーム電流が多いモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を相対的に大きくし、測定したビーム電流が少ないモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を小さくして、モニタ１０で測定される２次元のビーム電流分布を均一化する機能を有している。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームのエネルギーを変えることなく、イオンビームのＹ方向における軌道状態を所望のものにすることができる装置を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、ターゲットの上流側に設けられていて、入口電極２２、中間電極２４、出口電極２６を有する電界レンズ２０ａを備えている。中間電極２４は、イオンビーム４の進行方向の上流側および下流側の面に、Ｙ方向において湾曲した凸表面４０、４２を有している。入口電極２２、出口電極２６は、中間電極２４の凸表面に対向する面に当該凸表面に沿う凹表面３８、４４を有している。入口電極２２、出口電極２６は互いに同電位に保たれ、中間電極２４は入口電極２２および出口電極２６とは異なる電位であって、電界レンズ２０ａから導出されるイオンビーム４のＹ方向における軌道状態を所望のものにする電位に保たれる。 （もっと読む）

【課題】 カソードの着脱が容易であり、しかもカソードからカソードホルダーへの伝熱損失を低減してカソードの加熱効率を高めることができるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源は、前部２２、後部２４および両者をつなぐ連結部２６、２７を有しておりかつ後部２４が二つの張出し部２４ａを有しているカソード２０と、先端部が鉛直方向Ｇの下に向くように配置されていてその先端部付近内に、カソードの後部２４が通る貫通穴３４を有する棚部３２を備えている筒状のカソードホルダー３０と、カソードの後部２４に対応した形状をしていて後部２４が通る貫通穴４４を有しているロック板４０とを備えている。そして、カソードの後部２４を、カソードホルダーの貫通穴３４およびカソードホルダー内に入れたロック板の貫通穴４４に通し、カソード２０とロック板４０を相対的に回転させてカソードの後部２４とロック板４０とを係合させて、ロック板４０を介してカソード２０を棚部３２で支持している。 （もっと読む）

【課題】 基板の面内に様々なドーズ量分布を形成することができる方法を提供する。
【解決手段】 このイオン注入方法は、イオンビーム４が基板２に入射する領域内で、イオンビーム４の走査速度をステップ状に変化させて基板にイオン注入を行う注入工程を複数回実施すると共に、各注入工程の合間であってイオンビームが基板に当たっていない間に、基板２をその中心部を中心にして所定の回転角度だけ回転させる回転工程をそれぞれ実施し、かつ注入工程として、イオンビーム４の走査速度を、基板２の一端から他端にかけて、第１の走査速度、それとは異なる第２の走査速度および第１の走査速度にステップ状に変化させる注入工程をｎ回（ｎは２以上の整数）実施すると共に、回転工程として、基板を３６０／ｎ度ずつ回転させる回転工程を実施することによって、基板２の面内において、中央領域とそれを囲む外周領域とでドーズ量の互いに異なるドーズ量分布を形成する。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームの平行度や発散角に悪影響を与えることなく、イオンビームのｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させる。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、ターゲット８近傍におけるイオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタ１４と、ターゲット位置よりも上流側におけるイオンビーム経路を挟んで相対向するようにｙ方向に並べて配置されていて互いに独立してｘ方向に可動の複数の可動遮蔽板１６をそれぞれ有する可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂと、それらを構成する各可動遮蔽板１６を互いに独立してｘ方向に往復駆動する遮蔽板駆動装置２２ａ、２２ｂと、モニタ１４による測定情報に基づいて遮蔽板駆動装置２２ａ、２２ｂを制御して、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くして、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる遮蔽板制御装置２４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 磁極間空間からのＥ×Ｂドリフトによる電子の損失を軽減して磁極間空間における電子の閉じ込めを良くして、閉じ込めた電子によってイオンビームの空間電荷を効率良く中和して、イオンビームの発散を抑制する。
【解決手段】 この偏向電磁石３０ａは、イオンビーム４が通過する磁極間空間３４をあけて相対向する第１および第２の磁極３２ａ、３２ｂを有している。更に、磁極間空間３４に、磁極３２ａ、３２ｂと同方向からイオンビーム４の経路を挟むように配置された一対の電位調整電極５２と、この電位調整電極５２に正の電圧Ｖ₁ を印加する直流の電位調整電源５４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 イオン源ガスとして三フッ化ホウ素を含むガスを用いてイオンビームを引き出すときに、イオンビーム中のＢ⁺ の比率を高めることができる方法および装置を提供する。
【解決手段】 イオン源２のプラズマ室容器２０内に供給するイオン源ガス５０として三フッ化ホウ素を含むガスを用いてイオン源２からイオンビーム４を引き出すときに、バイアス回路６４によって、イオン源２のプラズマ室容器２０に対するプラズマ電極３１のバイアス電圧Ｖ_B を正電圧にする。 （もっと読む）

【課題】 磁極間空間からのＥ×Ｂドリフトによる電子の損失を軽減して磁極間空間における電子の閉じ込めを良くして、閉じ込めた電子によってイオンビームの空間電荷を効率良く中和して、イオンビームの発散を抑制する。
【解決手段】 この偏向電磁石３０ａは、イオンビーム４が通過する磁極間空間３４をあけて相対向する第１および第２の磁極３２ａ、３２ｂを有している。更に、磁極間空間３４に、そのイオンビーム通過方向における中央付近で磁場が弱く、中央付近よりも入口寄りおよび出口寄りで磁場が強いミラー磁場を形成する永久磁石群５４を備えている。永久磁石群５４は、磁極間空間３４の中央よりも入口寄りに配置された第１の対の永久磁石５４ａと、出口寄りに配置された第２の対の永久磁石５４ｂとを備えている。 （もっと読む）