イオンビーム照射装置およびビーム均一性調整方法
【課題】 イオンビームの平行度や発散角に悪影響を与えることなく、イオンビームのｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させる。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、ターゲット８近傍におけるイオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタ１４と、ターゲット位置よりも上流側におけるイオンビーム経路を挟んで相対向するようにｙ方向に並べて配置されていて互いに独立してｘ方向に可動の複数の可動遮蔽板１６をそれぞれ有する可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂと、それらを構成する各可動遮蔽板１６を互いに独立してｘ方向に往復駆動する遮蔽板駆動装置２２ａ、２２ｂと、モニタ１４による測定情報に基づいて遮蔽板駆動装置２２ａ、２２ｂを制御して、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くして、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる遮蔽板制御装置２４とを備えている。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、ターゲット８近傍におけるイオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタ１４と、ターゲット位置よりも上流側におけるイオンビーム経路を挟んで相対向するようにｙ方向に並べて配置されていて互いに独立してｘ方向に可動の複数の可動遮蔽板１６をそれぞれ有する可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂと、それらを構成する各可動遮蔽板１６を互いに独立してｘ方向に往復駆動する遮蔽板駆動装置２２ａ、２２ｂと、モニタ１４による測定情報に基づいて遮蔽板駆動装置２２ａ、２２ｂを制御して、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くして、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる遮蔽板制御装置２４とを備えている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、進行方向と交差する面内におけるｙ方向（長手方向）の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい、いわゆるリボン状（これはシート状または帯状と呼ばれることもある。以下同様）の形をしたイオンビームをターゲットに照射して、例えばイオン注入等の処理を施すイオンビーム照射装置および当該イオンビームのｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させるビーム均一性調整方法に関する。この明細書において、リボン状のイオンビームには、ｙ方向の走査を経ることなくリボン状をしているイオンビームと、ｙ方向の走査を経てリボン状をしているイオンビームとが含まれている。
【背景技術】
【０００２】
上記のようなリボン状のイオンビームをターゲット（例えば半導体基板、ガラス基板等）に照射してターゲットにイオン注入等の処理を施す場合に、ｙ方向における処理の均一性を高めるためには、ターゲットに照射されるイオンビームのｙ方向のビーム電流密度分布の均一性が良いことが重要である。
【０００３】
リボン状のイオンビームの長手方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させるために、従来は例えば特許文献１に記載されているように、イオンビームの長手方向における複数の調整箇所において、磁界によってイオンビームを発散または集束させることによって、ビーム電流密度分布を調整していた。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−３４２６３９号公報（段落０００７−０００８、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来の技術では、ビーム電流密度分布調整のために、複数の調整箇所においてイオンビームを発散または集束させる結果として、各調整箇所を通過したイオンビームの進行方向や発散角が変化するために、イオンビーム（イオンビーム全体）の平行度や発散角に悪影響を与えるという課題がある。即ち、イオンビームの平行度や発散角を一定以下に保つのが困難であり、イオンビームの品質の悪化を招くという課題がある。電界によってイオンビームを発散または集束させる場合も同様である。
【０００６】
そこでこの発明は、イオンビームの平行度や発散角に悪影響を与えることなく、イオンビームのｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる装置および方法を提供することを主たる目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明に係る第１のイオンビーム照射装置は、進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置であって、前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の少なくとも片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板と、前記複数の可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する遮蔽板駆動装置と、前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて前記遮蔽板駆動装置を制御して、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行う遮蔽板制御装置とを備えていることを特徴としている。
【０００８】
この発明に係る第２のイオンビーム照射装置は、進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置であって、前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の一方の片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第１の可動遮蔽板群と、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の他方の片側に、前記第１の可動遮蔽板群を構成する各遮蔽板とイオンビーム経路を挟んでｘ方向においてそれぞれ相対向するようにｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第２の可動遮蔽板群と、前記第１の可動遮蔽板群を構成する各可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する第１の遮蔽板駆動装置と、前記第２の可動遮蔽板群を構成する各可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する第２の遮蔽板駆動装置と、前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて前記第１および第２の遮蔽板駆動装置を制御して、前記第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすことによって、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行う遮蔽板制御装置とを備えていることを特徴としている。
【０００９】
上記第１および第２のイオンビーム照射装置においては、ｙ方向のビーム電流密度の大小に対応して、それを解消するように可動遮蔽板が動かされる制御が行われる。それによって、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。
【００１０】
この発明に係る第１のビーム均一性調整方法は、進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置における調整方法であって、前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の少なくとも片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板とを用いて、前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記可動遮蔽板をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記可動遮蔽板をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることを特徴としている。
【００１１】
この発明に係る第２のビーム均一性調整方法は、進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置における調整方法であって、前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の一方の片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第１の可動遮蔽板群と、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の他方の片側に、前記第１の可動遮蔽板群を構成する各遮蔽板とイオンビーム経路を挟んでｘ方向においてそれぞれ相対向するようにｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第２の可動遮蔽板群とを用いて、前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて、前記第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすことによって、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることを特徴としている。
【００１２】
前記各可動遮蔽板は、例えば、ｙ方向に対して斜めに傾け、隣り合う可動遮蔽板間を互いに離し、かつイオンビームの進行方向に見て、隣り合う可動遮蔽板間に隙間がないように配置されている。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１に記載の発明によれば、可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を自動的に制御して、イオンビームのｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。しかもこの発明は、調整箇所においてイオンビームを磁界や電界によって発散または集束させるものではないので、イオンビームの平行度や発散角に悪影響を与えることがない。
【００１４】
請求項２に記載の発明によれば、請求項１記載の発明の上記効果と同様の効果を奏する。更に、第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板を、ｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かす制御が行われるので、可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を変えても、相対向する可動遮蔽板間を通過するイオンビームのｘ方向の中心位置がずれないという効果を奏する。
【００１５】
請求項３に記載の発明によれば、隣り合う可動遮蔽板同士が擦れてパーティクルが発生することを防止しつつ、隣り合う可動遮蔽板間からイオンビームが下流側へ漏れるのを防止することができる、という更なる効果を奏する。
【００１６】
請求項４に記載の発明によれば、可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を調整して、イオンビームのｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。しかもこの発明は、調整箇所においてイオンビームを磁界や電界によって発散または集束させるものではないので、イオンビームの平行度や発散角に悪影響を与えることがない。
【００１７】
請求項５に記載の発明によれば、請求項４記載の発明の上記効果と同様の効果を奏する。更に、第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板を、ｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすので、可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を変えても、相対向する可動遮蔽板間を通過するイオンビームのｘ方向の中心位置がずれないという効果を奏する。
【００１８】
請求項６に記載の発明によれば、隣り合う可動遮蔽板同士が擦れてパーティクルが発生することを防止しつつ、隣り合う可動遮蔽板間からイオンビームが下流側へ漏れるのを防止することができる、という更なる効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
図１は、この発明に係るイオンビーム照射装置の一実施形態を示す平面図である。図２は、図１中の可動遮蔽板周りを矢印Ｐ方向に見て部分的に示す側面図である。
【００２０】
このイオンビーム照射装置は、イオン源２から引き出したイオンビーム４を、質量分離器６を通して質量分離を行い、更に必要に応じて加速または減速を行った後、ホルダ１０に保持されたターゲット８に照射して、ターゲット８にイオン注入等の処理を施すよう構成されている。イオンビーム４の経路は真空雰囲気に保たれる。質量分離器６を設けない場合もある。ターゲット８にイオン注入を行う場合は、この装置はイオン注入装置とも呼ばれる。
【００２１】
ターゲット８に照射されるイオンビーム４は、その進行方向ｚと交差（例えば直交）する面内におけるｙ方向（長手方向。例えば垂直方向）の寸法Ｗy が、当該ｙ方向と直交するｘ方向（例えば水平方向）の寸法Ｗx よりも大きい形をしている。このような形をしているイオンビーム４は、リボン状のイオンビームと呼ばれている。シート状または帯状のイオンビームと呼ばれる場合もある。但し、ｘ方向の寸法Ｗx が紙のように薄いという意味ではない。一例を挙げると、ｙ方向の寸法Ｗy は３５０ｍｍ〜４００ｍｍ程度、ｘ方向の寸法Ｗx は８０ｍｍ〜１００ｍｍ程度である。
【００２２】
この実施形態では、イオンビーム４は、ｙ方向の走査を経ることなく、即ちイオン源２から引き出した形状自体がリボン状をしている。但し、ターゲット８に照射されるイオンビーム４は、前述したように、例えば質量分離器６の下流側においてｙ方向の走査（例えば平行走査）を経てリボン状をしているものでも良い。
【００２３】
ターゲット８は、例えば、半導体基板、ガラス基板等である。
【００２４】
ターゲット８は、この実施形態では、ホルダ１０に保持されて、ターゲット駆動装置１２によって、矢印Ａに示すように、前記ｘ方向に沿って機械的に往復駆動（メカニカルスキャン）される。イオンビーム４のｙ方向の寸法Ｗy は、ターゲット８の同方向の寸法よりも若干大きく、このことと、上記往復駆動とによって、ターゲット８の全面にイオンビーム４を照射することができる。
【００２５】
イオンビーム４の照射位置にあるターゲット８の近傍に、例えばこの実施形態では当該ターゲット８の後方近傍に、イオンビーム４を受けてターゲット８の位置近傍におけるイオンビーム４の少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタ１４が設けられている。これによる測定時には、ターゲット８を邪魔にならない位置に移動させれば良い。ビームプロファイルモニタ１４から測定情報ＤＡが出力される。
【００２６】
ビームプロファイルモニタ１４は、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布を測定する一次元の測定器でも良いし、イオンビーム４のｙ方向とｘ方向の両方のビーム電流密度分布を測定する二次元の測定器でも良い。ビームプロファイルモニタ１４は、例えば、イオンビーム４のビーム電流密度を測定する多数の測定器（例えばファラデーカップ）をｙ方向に、またはｙ方向およびｘ方向に、並設した構成をしている。
【００２７】
更にこの実施形態では、ターゲット８の位置よりも上流側におけるイオンビーム４の経路のｘ方向の両側に、第１の可動遮蔽板群１８ａおよび第２の可動遮蔽板群１８ｂが設けられている。各可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂは、それぞれ、ｙ方向のほぼ一直線上に多段に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動のものであってイオンビーム４を遮るための複数の可動遮蔽板１６を有している。両可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する各可動遮蔽板１６は、イオンビーム４の経路を挟んでｘ方向においてそれぞれ相対向するように配置されている。即ち、イオンビーム４のｘ方向の中心４ｘを中心にしてｘ方向に対称に配置されている。
【００２８】
両可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する各可動遮蔽板１６は、この実施形態では、図２を参照して、ルーバのように、ｙ方向に対して斜めに傾け、かつ隣り合う可動遮蔽板１６間を互いに離して配置されている。しかも、一つの可動遮蔽板１６の上端位置とその上の可動遮蔽板１６の下端位置とがｙ方向において互いに幾分重なるようにして、イオンビーム４の進行方向ｚに見て、隣り合う可動遮蔽板１６間に隙間がないように配置されている。従って、図２中に矢印Ｃで示すように、同じｘ方向の位置にあって隣り合う可動遮蔽板１６間をイオンビーム４が通過することはできない。
【００２９】
なお、図２では第１の可動遮蔽板群１８ａしか図示されていないけれども、紙面の裏側方向には、イオンビーム４を挟んで、第１の可動遮蔽板群１８ａと同様の構成をした第２の可動遮蔽板群１８ｂが設けられている。図９、図１０においても同様である。
【００３０】
図１中の矢印Ｂで示すように、第１の可動遮蔽板群１８ａを構成する各可動遮蔽板１６は、第１の遮蔽板駆動装置２２ａによって、連結棒２０を介して、互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動される。同様に第２の可動遮蔽板群１８ｂを構成する各可動遮蔽板１６は、第２の遮蔽板駆動装置２２ｂによって、連結棒２０を介して、互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動される。これによって、各可動遮蔽板１６によってイオンビーム４の一部を遮ったり、その遮る量（遮蔽量）を調整したりすることができる。
【００３１】
遮蔽板駆動装置２２ａは、可動遮蔽板１６の数だけ設けられていて１台の遮蔽板駆動装置２２ａで一つの可動遮蔽板１６を上記のように駆動するものでも良いし、１台の遮蔽板駆動装置２２ａで複数の可動遮蔽板１６をそれぞれ上記のように駆動するものでも良い。この実施形態では前者の構成を採用している。遮蔽板駆動装置２２ｂについても同様である。
【００３２】
この実施形態では更に遮蔽板制御装置２４を備えている。この遮蔽板制御装置２４は、ビームプロファイルモニタ１４による測定情報ＤＡに基づいて、両遮蔽板駆動装置２２ａおよび２２ｂを制御して、両可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する可動遮蔽板１６の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板１６をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に（即ちイオンビーム４のｘ方向の中心４ｘを中心にして対称に）動かすことによって、（ａ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くすることと、（ｂ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行うものである。この遮蔽板制御装置２４を用いたビーム均一性調整の制御内容のより具体例は後述する。「相対的に」というのは、他と比べて、という意味である。
【００３３】
従ってこのイオンビーム照射装置によれば、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を自動的に制御して、イオンビーム４のｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。しかもこのイオンビーム照射装置は、前記特許文献１に記載の技術と違って、調整箇所においてイオンビーム４を磁界や電界によって発散または集束させるものではないので、イオンビーム４の平行度や発散角に悪影響を与えることがない。即ち、イオンビーム４の平行度や発散角といった品質に悪影響を与えることなく、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。その結果、ターゲット８に対するｙ方向における処理の均一性を高めることができる。
【００３４】
更にこの実施形態では、第１および第２の可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する可動遮蔽板１６の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板１６を、ｘ方向に沿って、互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に（即ち前述したように対称に）動かす制御が行われるので、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を変えても、相対向する可動遮蔽板１６間を通過するイオンビーム４のｘ方向の中心位置がずれない。
【００３５】
これを図３を参照して説明すると、図３Ａは遮蔽量の少ない場合の例であり、図３Ｂは遮蔽量の多い場合の例であるが、どちらの場合も、相対向する可動遮蔽板１６間を通過するイオンビーム４のｘ方向の中心４ｘの位置は、可動遮蔽板１６間を通過する前の中心４ｘの位置と実質的に同じであり、遮蔽量の大小によって中心４ｘがずれることはない。仮に中心４ｘがずれると、遮蔽量の大小によって、イオンビームを切り取る位置がずれて、切り取るイオンビーム４の平行度や発散角といった品質が若干変わる場合があるけれども、この実施形態によればそれを防止することができる。
【００３６】
また、この実施形態では、前述したように、各可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する可動遮蔽板１６は、イオンビーム４の進行方向ｚに見て、隣り合う可動遮蔽板１６間に隙間がないように配置されているので、隣り合う可動遮蔽板１６間からイオンビーム４が下流側へ漏れるのを防止することができる。仮に下流側へ漏れると、例えば、その漏れたイオンビーム４を避けるためにターゲット８のｘ方向の駆動距離を大きくする必要が生じるけれども、この実施形態によればそれを防止することができる。
【００３７】
隣り合う可動遮蔽板１６間からイオンビーム４が下流側へ漏れるのを防止するためには、例えば図１０に示す例のように、複数の可動遮蔽板１６を、ｙ方向のほぼ一直線上に、かつｙ方向にほぼ平行に並べて配置すると共に、隣り合う可動遮蔽板１６間の境界２６の隙間を無くするという構成を採用しても良い。但し、そのようにすると、各境界２６において隣り合う可動遮蔽板１６同士が擦れてパーティクル（微小粒子）が発生して、それがターゲット８の表面を汚染する等の課題が発生する場合があるけれども、上記実施形態では、図２に示すように、各可動遮蔽板１６を斜めに傾け、かつ隣り合う可動遮蔽板１６間を互いに離して配置しているので、隣り合う可動遮蔽板１６同士が擦れてパーティクルが発生することを防止することができる。即ち、上記実施形態によれば、隣り合う可動遮蔽板１６同士が擦れてパーティクルが発生することを防止しつつ、隣り合う可動遮蔽板１６間からイオンビーム４が下流側へ漏れるのを防止することができる。
【００３８】
各可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する複数の可動遮蔽板１６は、図９に示す例のように、それぞれｙ方向にほぼ平行なものを、隣り合う可動遮蔽板１６間を互いに離して互い違いに２列に並べて配置することによって、イオンビーム４の進行方向ｚに見て、隣り合う可動遮蔽板１６間に隙間がないように配置しても良い。矢印Ｃは図２において説明したとおりである。このような配置によっても、隣り合う可動遮蔽板１６同士が擦れてパーティクルが発生することを防止しつつ、隣り合う可動遮蔽板１６間からイオンビーム４が下流側へ漏れるのを防止することができる。
【００３９】
次に、遮蔽板制御装置２４を用いたビーム均一性調整の制御内容のより具体例を図４〜図６にそれぞれ示す。図４、図６は、イオンビーム４のｘ方向におけるビーム電流密度は一定であるとみなして、当該ビーム電流密度の不均一性を考慮しない場合の例である。図５は、イオンビーム４のｘ方向におけるビーム電流密度の不均一性を考慮する場合の例である。
【００４０】
図４に示す例では、ビームプロファイルモニタ１４によってイオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）を測定し（ステップ５０）、その測定情報ＤＡに基づいて、遮蔽板制御装置２４において以下の処理を行う。（ｙ）は、ｙ方向の位置の関数であることを示している。ビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の一例を図７Ａに示す。
【００４１】
まず、ビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性Ｕを、例えば次の数１に従って算出する（ステップ５１）。
【００４２】
［数１］
Ｕ＝σ／Ｍ
【００４３】
ここで、Ｍはビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の平均値、σは次の数２で表される標準偏差である。数２において、Ｄi はビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）を離散量で表したものであり、ｎはｙ方向における測定点の数、ｉはその内の測定点（ｉ＝１，２，・・・，ｎ）である。
【００４４】
【数２】
【００４５】
そして、算出した均一性Ｕが所定の規格内に入っているか否かを判定し（ステップ５２）、入っていれば可動遮蔽板１６を動かす必要はないので、ビーム均一性調整の処理は終了する。調整処理終了後は、例えば、当該イオンビーム４をターゲット８に照射する処理（例えばイオン注入）を行えば良い（以下においても同様）。均一性Ｕが規格内に入っていなければ、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４のｙ方向の各位置における遮蔽量Ｓ（ｙ）を、例えば次の数３に従って算出する（ステップ５３）。
【００４６】
［数３］
Ｓ（ｙ）＝Ｒ（ｙ）・Ｗx
【００４７】
ここで、Ｒ（ｙ）は次の数４で表される、ｙ方向の各位置における遮蔽率、Ｗx は前述したイオンビーム４のｘ方向の寸法、Ｄmin はｙ方向におけるビーム電流密度の最小値である。この例は、簡単に言えば、ｙ方向におけるビーム電流密度を、一番低い値に揃えるように遮蔽率Ｒ（ｙ）を計算するものである。遮蔽率Ｒ（ｙ）の一例を図７Ｂに示す。
【００４８】
［数４］
Ｒ（ｙ）＝（Ｄ（ｙ）−Ｄmin ）／Ｄ（ｙ）
【００４９】
そして、上記遮蔽量Ｓ（ｙ）だけ、ｙ方向における各可動遮蔽板１６をそれぞれ駆動する（ステップ５４）。より具体的には、上記遮蔽量Ｓ（ｙ）の距離だけ、ｙ方向における各可動遮蔽板１６を内側（イオンビーム４の中心４ｘ側）へそれぞれ移動させる。その場合、上記遮蔽量Ｓ（ｙ）は、イオンビーム４のｘ方向の両側からのトータルの遮蔽量であるので、上記実施形態のようにイオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板１６を対称に駆動する場合は、片側の可動遮蔽板１６の移動量は上記遮蔽量Ｓ（ｙ）の１／２にする。
【００５０】
以上によって、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を自動的に制御して、イオンビーム４のｙ方向におけるビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性を向上させることができる。理想的には、図７Ｃに示すように、ビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）を均一にすることができる。
【００５１】
図５に示す例では、ビームプロファイルモニタ１４によってイオンビーム４のｘ、ｙ両方向の二次元のビーム電流密度分布Ｄ（ｘ，ｙ）を測定し（ステップ６０）、その測定情報ＤＡに基づいて、遮蔽板制御装置２４において以下の処理を行う。
【００５２】
即ち、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性Ｕを上記ステップ５１の場合と同様に算出し（ステップ６１）、算出した均一性Ｕが所定の規格内に入っているか否かを上記ステップ５２の場合と同様に判定し（ステップ６２）、入っていなければ可動遮蔽板１６によるイオンビーム４のｙ方向の各位置における遮蔽量を、例えば次のようにして算出する（ステップ６３）。
【００５３】
即ち、ｙ方向のそれぞれの位置について、ビーム電流密度Ｄのｘ方向の積分値が一定になるように、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４のｙ方向の各位置における遮蔽量を算出する。例えば、あるｙ方向の位置ｙ1 （例えばｙ1 ＝１００ｍｍ）におけるイオンビーム４のｘ方向のビーム電流密度分布が図８Ａ、Ｂに示すような場合、当該ｙ方向位置Ｙ1 における上記積分値は、図８Ａ、Ｂ中にハッチングを付した領域Ｇ1 に相当する。
【００５４】
ここで一例として、ｙ方向の各位置における上記積分値の最小値をＧ0 とし、可動遮蔽板１６を移動させる前の上記あるｙ方向位置ｙ1 における上記積分値が図８Ａに示すようにＧ1 （＞Ｇ0 ）だとすると、可動遮蔽板１６をイオンビーム４の内側に移動させてこの例ではイオンビーム４の両側を幾らか遮って、上記積分値Ｇ1 を上記最小の積分値Ｇ0 に実質的に等しくするために必要な可動遮蔽板１６の移動量を計算する。図８Ｂに示す例では、相対向する可動遮蔽板１６の先端を両側から内側へそれぞれｘ1 、−ｘ1 の位置まで移動させるとＧ1 ＝Ｇ0 となる。このような移動量（遮蔽量）の計算を、ｙ方向の各位置について行う。
【００５５】
そして、上記のようにして求めた移動量だけ、ｙ方向における各可動遮蔽板１６をそれぞれ駆動する（ステップ６４）。より具体的には内側へ移動させる。
【００５６】
以上によって、上記積分値が実質的に一定になるように可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を自動的に制御して、イオンビーム４のｙ方向におけるビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性を向上させることができる。
【００５７】
この例は、上記積分値を基準にしてそれが実質的に一定になるように制御するのであるが、それでも良いのは、図１に示す実施形態のようにターゲット８をｘ方向に往復駆動する場合は、ターゲット８に対するイオンビーム照射量（例えばイオン注入量）は、上記積分値に比例したものになるからである。
【００５８】
図６に示す例では、上記ステップ５０の場合と同様に、ビームプロファイルモニタ１４によってイオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）を測定し（ステップ７０）、その測定情報ＤＡに基づいて、遮蔽板制御装置２４において以下の処理を行う。
【００５９】
即ち、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性Ｕを上記ステップ５１の場合と同様に算出し（ステップ７１）、算出した均一性Ｕが所定の規格内に入っているか否かを上記ステップ５２の場合と同様に判定し（ステップ７２）、入っていなければ、ビーム電流密度Ｄが最小値Ｄmin よりも大きい位置の可動遮蔽板１６を、イオンビーム４を遮る方向に微少量駆動する（ステップ７３）。そして、上記ステップ７０〜７３を、均一性Ｕが規格内に入るまで繰り返す。
【００６０】
以上によって、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を自動的に制御して、イオンビーム４のｙ方向におけるビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性を向上させることができる。理想的には、図７Ｃに示したように、ビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）を均一にすることができる。
【００６１】
以上においては、ｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する可動遮蔽板１６を内側に移動させて当該可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くする制御を行う遮蔽板制御装置２４を備えている例を説明したけれども、それとは反対に、初期状態として、各可動遮蔽板１６によってイオンビーム４を幾分遮る状態にしておいて、ｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する可動遮蔽板１６を外側へ移動させて当該可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくする制御を行う遮蔽板制御装置２４を備えていても良い。
【００６２】
あるいは、（ａ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くする制御と、（ｂ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくする制御との両方を行う遮蔽板制御装置２４を備えていても良い。
【００６３】
なお、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる観点からは、必ずしも上記実施形態のように相対向する可動遮蔽板１６を対称に動かす構成を採用しなくても良い。
【００６４】
例えば、イオンビーム４の経路のｘ方向の少なくとも片側に上記のような複数の可動遮蔽板１６およびそれ用の上記のような遮蔽板駆動装置を設けて、例えば上記二つの可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂの内の片方の可動遮蔽板群（例えば１８ａ）およびそれ用の遮蔽板駆動装置（例えば２２ａ）を設けて、その反対側には遮蔽板を設けないか、あるいはｙ方向に伸びた１枚の固定の遮蔽板を設けて、ビームプロファイルモニタ１４による測定情報ＤＡに基づいて遮蔽板制御装置２４によって遮蔽板駆動装置２２ａを制御して、（ａ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くすることと、（ｂ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行うようにしても良い。
【００６５】
可動遮蔽板群およびそれ用の遮蔽板駆動装置をイオンビーム経路の片側にのみ設ける場合は、構成の簡素化を図ることができるという利点がある。
【００６６】
また、上記のような全自動制御を行う遮蔽板制御装置２４を用いる代わりに、上記ビームプロファイルモニタ１４、第１および第２の可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを用いて、ビームプロファイルモニタ１４による測定情報ＤＡに基づいて、例えば手動操作によって、両可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板１６をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすことによって、（ａ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くすることと、（ｂ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させるビーム均一性調整方法を採用しても良い。この調整方法は、例えば、図６に示した処理を、人が介在して行うようなものである（後述する調整方法も同様）。その場合、上記遮蔽板駆動装置２２ａおよび２２ｂを設けておいても良いし、設けていなくても良い。設けていれば、各可動遮蔽板１６を動かすことが容易になる。
【００６７】
このビーム均一性調整方法によれば、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を調整して、イオンビーム４のｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。しかもこの調整方法の場合も、調整箇所においてイオンビーム４を磁界や電界によって発散または集束させるものではないので、イオンビーム４の平行度や発散角に悪影響を与えることがない。即ち、イオンビーム４の平行度や発散角といった品質に悪影響を与えることなく、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。その結果、ターゲット８に対するｙ方向における処理の均一性を高めることができる。
【００６８】
更に、両可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する可動遮蔽板１６の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板１６を、ｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に（即ち前述したように対称に）動かすので、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を変えても、相対向する可動遮蔽板１６間を通過するイオンビーム４のｘ方向の中心位置がずれない。
【００６９】
また、図２を参照して先に説明したような配置構成の可動遮蔽板１６を採用することによって、隣り合う可動遮蔽板１６同士が擦れてパーティクルが発生することを防止しつつ、隣り合う可動遮蔽板１６間からイオンビーム４が下流側へ漏れるのを防止することができる。
【００７０】
また、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる観点からは、必ずしも上記調整方法のように相対向する可動遮蔽板１６を対称に動かす方法を採用しなくても良い。
【００７１】
例えば、イオンビーム４の経路のｘ方向の少なくとも片側に上記のような複数の可動遮蔽板１６を設けておいて、例えば上記二つの可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂの内の片側の可動遮蔽板群（例えば１８ａ）を設けておいて、その反対側には遮蔽板を設けないか、あるいはｙ方向に伸びた１枚の固定の遮蔽板を設けておいて、ビームプロファイルモニタ１４による測定情報ＤＡに基づいて、例えば手動操作によって、（ａ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する可動遮蔽板１６をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くすることと、（ｂ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する可動遮蔽板１６をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させるビーム均一性調整方法を採用しても良い。その場合、上記遮蔽板駆動装置（例えば２２ａ）を設けておいても良いし、設けていなくても良い。設けていれば、各可動遮蔽板１６を動かすことが容易になる。
【００７２】
上記イオンビーム照射装置およびビーム均一性調整方法のいずれの例においても、例えば図１１に示す例のように、可動遮蔽板１６の上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向近傍の両側に、あるいは可動遮蔽板１６を片側にのみ設ける場合はそれと同じ片側に、遮蔽板２８を設けても良い。この遮蔽板２８は可動である必要はない。このような遮蔽板２８を設けると、その下流側に位置する可動遮蔽板１６と協働して、イオンビーム４の内の発散角の大きい成分４ａ（ハッチングを付して示した部分）を除去して、当該成分４ａがターゲット８に入射するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】この発明に係るイオンビーム照射装置の一実施形態を示す平面図である。
【図２】図１中の可動遮蔽板周りを矢印Ｐ方向に見て部分的に示す側面図である。
【図３】可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量の少ない場合（Ａ）、および多い場合（Ｂ）の例を拡大して示す平面図である。
【図４】図１中の遮蔽板制御装置を用いたビーム均一性調整の制御内容の一例を示すフローチャートである。
【図５】図１中の遮蔽板制御装置を用いたビーム均一性調整の制御内容の他の例を示すフローチャートである。
【図６】図１中の遮蔽板制御装置を用いたビーム均一性調整の制御内容の更に他の例を示すフローチャートである。
【図７】図４に示す制御内容の場合の均一性調整前のビーム電流密度分布（Ａ）、可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽率（Ｂ）、および均一性調整後のビーム電流密度分布の理想形（Ｃ）の例を示す図である。
【図８】図５に示す制御内容の場合の、あるｙ方向位置におけるビーム電流密度のｘ方向の積分値の一例（Ａ）、および他の例（Ｂ）を示す図である。
【図９】可動遮蔽板の配置の他の例を示す図であり、図２に対応している。
【図１０】可動遮蔽板の配置の更に他の例を示す図であり、図２に対応している。
【図１１】可動遮蔽板の上流側に他の遮蔽板を設けた例を部分的に示す平面図である。
【符号の説明】
【００７４】
４ イオンビーム
８ ターゲット
１４ ビームプロファイルモニタ
１６ 可動遮蔽板
１８ａ 第１の可動遮蔽板群
１８ｂ 第２の可動遮蔽板群
２２ａ 第１の遮蔽板駆動装置
２２ｂ 第２の遮蔽板駆動装置
２４ 遮蔽板制御装置
【技術分野】
【０００１】
この発明は、進行方向と交差する面内におけるｙ方向（長手方向）の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい、いわゆるリボン状（これはシート状または帯状と呼ばれることもある。以下同様）の形をしたイオンビームをターゲットに照射して、例えばイオン注入等の処理を施すイオンビーム照射装置および当該イオンビームのｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させるビーム均一性調整方法に関する。この明細書において、リボン状のイオンビームには、ｙ方向の走査を経ることなくリボン状をしているイオンビームと、ｙ方向の走査を経てリボン状をしているイオンビームとが含まれている。
【背景技術】
【０００２】
上記のようなリボン状のイオンビームをターゲット（例えば半導体基板、ガラス基板等）に照射してターゲットにイオン注入等の処理を施す場合に、ｙ方向における処理の均一性を高めるためには、ターゲットに照射されるイオンビームのｙ方向のビーム電流密度分布の均一性が良いことが重要である。
【０００３】
リボン状のイオンビームの長手方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させるために、従来は例えば特許文献１に記載されているように、イオンビームの長手方向における複数の調整箇所において、磁界によってイオンビームを発散または集束させることによって、ビーム電流密度分布を調整していた。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−３４２６３９号公報（段落０００７−０００８、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来の技術では、ビーム電流密度分布調整のために、複数の調整箇所においてイオンビームを発散または集束させる結果として、各調整箇所を通過したイオンビームの進行方向や発散角が変化するために、イオンビーム（イオンビーム全体）の平行度や発散角に悪影響を与えるという課題がある。即ち、イオンビームの平行度や発散角を一定以下に保つのが困難であり、イオンビームの品質の悪化を招くという課題がある。電界によってイオンビームを発散または集束させる場合も同様である。
【０００６】
そこでこの発明は、イオンビームの平行度や発散角に悪影響を与えることなく、イオンビームのｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる装置および方法を提供することを主たる目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明に係る第１のイオンビーム照射装置は、進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置であって、前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の少なくとも片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板と、前記複数の可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する遮蔽板駆動装置と、前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて前記遮蔽板駆動装置を制御して、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行う遮蔽板制御装置とを備えていることを特徴としている。
【０００８】
この発明に係る第２のイオンビーム照射装置は、進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置であって、前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の一方の片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第１の可動遮蔽板群と、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の他方の片側に、前記第１の可動遮蔽板群を構成する各遮蔽板とイオンビーム経路を挟んでｘ方向においてそれぞれ相対向するようにｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第２の可動遮蔽板群と、前記第１の可動遮蔽板群を構成する各可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する第１の遮蔽板駆動装置と、前記第２の可動遮蔽板群を構成する各可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する第２の遮蔽板駆動装置と、前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて前記第１および第２の遮蔽板駆動装置を制御して、前記第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすことによって、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行う遮蔽板制御装置とを備えていることを特徴としている。
【０００９】
上記第１および第２のイオンビーム照射装置においては、ｙ方向のビーム電流密度の大小に対応して、それを解消するように可動遮蔽板が動かされる制御が行われる。それによって、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。
【００１０】
この発明に係る第１のビーム均一性調整方法は、進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置における調整方法であって、前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の少なくとも片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板とを用いて、前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記可動遮蔽板をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記可動遮蔽板をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることを特徴としている。
【００１１】
この発明に係る第２のビーム均一性調整方法は、進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置における調整方法であって、前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の一方の片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第１の可動遮蔽板群と、前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の他方の片側に、前記第１の可動遮蔽板群を構成する各遮蔽板とイオンビーム経路を挟んでｘ方向においてそれぞれ相対向するようにｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第２の可動遮蔽板群とを用いて、前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて、前記第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすことによって、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることを特徴としている。
【００１２】
前記各可動遮蔽板は、例えば、ｙ方向に対して斜めに傾け、隣り合う可動遮蔽板間を互いに離し、かつイオンビームの進行方向に見て、隣り合う可動遮蔽板間に隙間がないように配置されている。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１に記載の発明によれば、可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を自動的に制御して、イオンビームのｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。しかもこの発明は、調整箇所においてイオンビームを磁界や電界によって発散または集束させるものではないので、イオンビームの平行度や発散角に悪影響を与えることがない。
【００１４】
請求項２に記載の発明によれば、請求項１記載の発明の上記効果と同様の効果を奏する。更に、第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板を、ｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かす制御が行われるので、可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を変えても、相対向する可動遮蔽板間を通過するイオンビームのｘ方向の中心位置がずれないという効果を奏する。
【００１５】
請求項３に記載の発明によれば、隣り合う可動遮蔽板同士が擦れてパーティクルが発生することを防止しつつ、隣り合う可動遮蔽板間からイオンビームが下流側へ漏れるのを防止することができる、という更なる効果を奏する。
【００１６】
請求項４に記載の発明によれば、可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を調整して、イオンビームのｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。しかもこの発明は、調整箇所においてイオンビームを磁界や電界によって発散または集束させるものではないので、イオンビームの平行度や発散角に悪影響を与えることがない。
【００１７】
請求項５に記載の発明によれば、請求項４記載の発明の上記効果と同様の効果を奏する。更に、第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板を、ｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすので、可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を変えても、相対向する可動遮蔽板間を通過するイオンビームのｘ方向の中心位置がずれないという効果を奏する。
【００１８】
請求項６に記載の発明によれば、隣り合う可動遮蔽板同士が擦れてパーティクルが発生することを防止しつつ、隣り合う可動遮蔽板間からイオンビームが下流側へ漏れるのを防止することができる、という更なる効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
図１は、この発明に係るイオンビーム照射装置の一実施形態を示す平面図である。図２は、図１中の可動遮蔽板周りを矢印Ｐ方向に見て部分的に示す側面図である。
【００２０】
このイオンビーム照射装置は、イオン源２から引き出したイオンビーム４を、質量分離器６を通して質量分離を行い、更に必要に応じて加速または減速を行った後、ホルダ１０に保持されたターゲット８に照射して、ターゲット８にイオン注入等の処理を施すよう構成されている。イオンビーム４の経路は真空雰囲気に保たれる。質量分離器６を設けない場合もある。ターゲット８にイオン注入を行う場合は、この装置はイオン注入装置とも呼ばれる。
【００２１】
ターゲット８に照射されるイオンビーム４は、その進行方向ｚと交差（例えば直交）する面内におけるｙ方向（長手方向。例えば垂直方向）の寸法Ｗy が、当該ｙ方向と直交するｘ方向（例えば水平方向）の寸法Ｗx よりも大きい形をしている。このような形をしているイオンビーム４は、リボン状のイオンビームと呼ばれている。シート状または帯状のイオンビームと呼ばれる場合もある。但し、ｘ方向の寸法Ｗx が紙のように薄いという意味ではない。一例を挙げると、ｙ方向の寸法Ｗy は３５０ｍｍ〜４００ｍｍ程度、ｘ方向の寸法Ｗx は８０ｍｍ〜１００ｍｍ程度である。
【００２２】
この実施形態では、イオンビーム４は、ｙ方向の走査を経ることなく、即ちイオン源２から引き出した形状自体がリボン状をしている。但し、ターゲット８に照射されるイオンビーム４は、前述したように、例えば質量分離器６の下流側においてｙ方向の走査（例えば平行走査）を経てリボン状をしているものでも良い。
【００２３】
ターゲット８は、例えば、半導体基板、ガラス基板等である。
【００２４】
ターゲット８は、この実施形態では、ホルダ１０に保持されて、ターゲット駆動装置１２によって、矢印Ａに示すように、前記ｘ方向に沿って機械的に往復駆動（メカニカルスキャン）される。イオンビーム４のｙ方向の寸法Ｗy は、ターゲット８の同方向の寸法よりも若干大きく、このことと、上記往復駆動とによって、ターゲット８の全面にイオンビーム４を照射することができる。
【００２５】
イオンビーム４の照射位置にあるターゲット８の近傍に、例えばこの実施形態では当該ターゲット８の後方近傍に、イオンビーム４を受けてターゲット８の位置近傍におけるイオンビーム４の少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタ１４が設けられている。これによる測定時には、ターゲット８を邪魔にならない位置に移動させれば良い。ビームプロファイルモニタ１４から測定情報ＤＡが出力される。
【００２６】
ビームプロファイルモニタ１４は、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布を測定する一次元の測定器でも良いし、イオンビーム４のｙ方向とｘ方向の両方のビーム電流密度分布を測定する二次元の測定器でも良い。ビームプロファイルモニタ１４は、例えば、イオンビーム４のビーム電流密度を測定する多数の測定器（例えばファラデーカップ）をｙ方向に、またはｙ方向およびｘ方向に、並設した構成をしている。
【００２７】
更にこの実施形態では、ターゲット８の位置よりも上流側におけるイオンビーム４の経路のｘ方向の両側に、第１の可動遮蔽板群１８ａおよび第２の可動遮蔽板群１８ｂが設けられている。各可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂは、それぞれ、ｙ方向のほぼ一直線上に多段に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動のものであってイオンビーム４を遮るための複数の可動遮蔽板１６を有している。両可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する各可動遮蔽板１６は、イオンビーム４の経路を挟んでｘ方向においてそれぞれ相対向するように配置されている。即ち、イオンビーム４のｘ方向の中心４ｘを中心にしてｘ方向に対称に配置されている。
【００２８】
両可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する各可動遮蔽板１６は、この実施形態では、図２を参照して、ルーバのように、ｙ方向に対して斜めに傾け、かつ隣り合う可動遮蔽板１６間を互いに離して配置されている。しかも、一つの可動遮蔽板１６の上端位置とその上の可動遮蔽板１６の下端位置とがｙ方向において互いに幾分重なるようにして、イオンビーム４の進行方向ｚに見て、隣り合う可動遮蔽板１６間に隙間がないように配置されている。従って、図２中に矢印Ｃで示すように、同じｘ方向の位置にあって隣り合う可動遮蔽板１６間をイオンビーム４が通過することはできない。
【００２９】
なお、図２では第１の可動遮蔽板群１８ａしか図示されていないけれども、紙面の裏側方向には、イオンビーム４を挟んで、第１の可動遮蔽板群１８ａと同様の構成をした第２の可動遮蔽板群１８ｂが設けられている。図９、図１０においても同様である。
【００３０】
図１中の矢印Ｂで示すように、第１の可動遮蔽板群１８ａを構成する各可動遮蔽板１６は、第１の遮蔽板駆動装置２２ａによって、連結棒２０を介して、互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動される。同様に第２の可動遮蔽板群１８ｂを構成する各可動遮蔽板１６は、第２の遮蔽板駆動装置２２ｂによって、連結棒２０を介して、互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動される。これによって、各可動遮蔽板１６によってイオンビーム４の一部を遮ったり、その遮る量（遮蔽量）を調整したりすることができる。
【００３１】
遮蔽板駆動装置２２ａは、可動遮蔽板１６の数だけ設けられていて１台の遮蔽板駆動装置２２ａで一つの可動遮蔽板１６を上記のように駆動するものでも良いし、１台の遮蔽板駆動装置２２ａで複数の可動遮蔽板１６をそれぞれ上記のように駆動するものでも良い。この実施形態では前者の構成を採用している。遮蔽板駆動装置２２ｂについても同様である。
【００３２】
この実施形態では更に遮蔽板制御装置２４を備えている。この遮蔽板制御装置２４は、ビームプロファイルモニタ１４による測定情報ＤＡに基づいて、両遮蔽板駆動装置２２ａおよび２２ｂを制御して、両可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する可動遮蔽板１６の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板１６をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に（即ちイオンビーム４のｘ方向の中心４ｘを中心にして対称に）動かすことによって、（ａ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くすることと、（ｂ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行うものである。この遮蔽板制御装置２４を用いたビーム均一性調整の制御内容のより具体例は後述する。「相対的に」というのは、他と比べて、という意味である。
【００３３】
従ってこのイオンビーム照射装置によれば、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を自動的に制御して、イオンビーム４のｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。しかもこのイオンビーム照射装置は、前記特許文献１に記載の技術と違って、調整箇所においてイオンビーム４を磁界や電界によって発散または集束させるものではないので、イオンビーム４の平行度や発散角に悪影響を与えることがない。即ち、イオンビーム４の平行度や発散角といった品質に悪影響を与えることなく、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。その結果、ターゲット８に対するｙ方向における処理の均一性を高めることができる。
【００３４】
更にこの実施形態では、第１および第２の可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する可動遮蔽板１６の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板１６を、ｘ方向に沿って、互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に（即ち前述したように対称に）動かす制御が行われるので、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を変えても、相対向する可動遮蔽板１６間を通過するイオンビーム４のｘ方向の中心位置がずれない。
【００３５】
これを図３を参照して説明すると、図３Ａは遮蔽量の少ない場合の例であり、図３Ｂは遮蔽量の多い場合の例であるが、どちらの場合も、相対向する可動遮蔽板１６間を通過するイオンビーム４のｘ方向の中心４ｘの位置は、可動遮蔽板１６間を通過する前の中心４ｘの位置と実質的に同じであり、遮蔽量の大小によって中心４ｘがずれることはない。仮に中心４ｘがずれると、遮蔽量の大小によって、イオンビームを切り取る位置がずれて、切り取るイオンビーム４の平行度や発散角といった品質が若干変わる場合があるけれども、この実施形態によればそれを防止することができる。
【００３６】
また、この実施形態では、前述したように、各可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する可動遮蔽板１６は、イオンビーム４の進行方向ｚに見て、隣り合う可動遮蔽板１６間に隙間がないように配置されているので、隣り合う可動遮蔽板１６間からイオンビーム４が下流側へ漏れるのを防止することができる。仮に下流側へ漏れると、例えば、その漏れたイオンビーム４を避けるためにターゲット８のｘ方向の駆動距離を大きくする必要が生じるけれども、この実施形態によればそれを防止することができる。
【００３７】
隣り合う可動遮蔽板１６間からイオンビーム４が下流側へ漏れるのを防止するためには、例えば図１０に示す例のように、複数の可動遮蔽板１６を、ｙ方向のほぼ一直線上に、かつｙ方向にほぼ平行に並べて配置すると共に、隣り合う可動遮蔽板１６間の境界２６の隙間を無くするという構成を採用しても良い。但し、そのようにすると、各境界２６において隣り合う可動遮蔽板１６同士が擦れてパーティクル（微小粒子）が発生して、それがターゲット８の表面を汚染する等の課題が発生する場合があるけれども、上記実施形態では、図２に示すように、各可動遮蔽板１６を斜めに傾け、かつ隣り合う可動遮蔽板１６間を互いに離して配置しているので、隣り合う可動遮蔽板１６同士が擦れてパーティクルが発生することを防止することができる。即ち、上記実施形態によれば、隣り合う可動遮蔽板１６同士が擦れてパーティクルが発生することを防止しつつ、隣り合う可動遮蔽板１６間からイオンビーム４が下流側へ漏れるのを防止することができる。
【００３８】
各可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する複数の可動遮蔽板１６は、図９に示す例のように、それぞれｙ方向にほぼ平行なものを、隣り合う可動遮蔽板１６間を互いに離して互い違いに２列に並べて配置することによって、イオンビーム４の進行方向ｚに見て、隣り合う可動遮蔽板１６間に隙間がないように配置しても良い。矢印Ｃは図２において説明したとおりである。このような配置によっても、隣り合う可動遮蔽板１６同士が擦れてパーティクルが発生することを防止しつつ、隣り合う可動遮蔽板１６間からイオンビーム４が下流側へ漏れるのを防止することができる。
【００３９】
次に、遮蔽板制御装置２４を用いたビーム均一性調整の制御内容のより具体例を図４〜図６にそれぞれ示す。図４、図６は、イオンビーム４のｘ方向におけるビーム電流密度は一定であるとみなして、当該ビーム電流密度の不均一性を考慮しない場合の例である。図５は、イオンビーム４のｘ方向におけるビーム電流密度の不均一性を考慮する場合の例である。
【００４０】
図４に示す例では、ビームプロファイルモニタ１４によってイオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）を測定し（ステップ５０）、その測定情報ＤＡに基づいて、遮蔽板制御装置２４において以下の処理を行う。（ｙ）は、ｙ方向の位置の関数であることを示している。ビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の一例を図７Ａに示す。
【００４１】
まず、ビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性Ｕを、例えば次の数１に従って算出する（ステップ５１）。
【００４２】
［数１］
Ｕ＝σ／Ｍ
【００４３】
ここで、Ｍはビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の平均値、σは次の数２で表される標準偏差である。数２において、Ｄi はビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）を離散量で表したものであり、ｎはｙ方向における測定点の数、ｉはその内の測定点（ｉ＝１，２，・・・，ｎ）である。
【００４４】
【数２】
【００４５】
そして、算出した均一性Ｕが所定の規格内に入っているか否かを判定し（ステップ５２）、入っていれば可動遮蔽板１６を動かす必要はないので、ビーム均一性調整の処理は終了する。調整処理終了後は、例えば、当該イオンビーム４をターゲット８に照射する処理（例えばイオン注入）を行えば良い（以下においても同様）。均一性Ｕが規格内に入っていなければ、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４のｙ方向の各位置における遮蔽量Ｓ（ｙ）を、例えば次の数３に従って算出する（ステップ５３）。
【００４６】
［数３］
Ｓ（ｙ）＝Ｒ（ｙ）・Ｗx
【００４７】
ここで、Ｒ（ｙ）は次の数４で表される、ｙ方向の各位置における遮蔽率、Ｗx は前述したイオンビーム４のｘ方向の寸法、Ｄmin はｙ方向におけるビーム電流密度の最小値である。この例は、簡単に言えば、ｙ方向におけるビーム電流密度を、一番低い値に揃えるように遮蔽率Ｒ（ｙ）を計算するものである。遮蔽率Ｒ（ｙ）の一例を図７Ｂに示す。
【００４８】
［数４］
Ｒ（ｙ）＝（Ｄ（ｙ）−Ｄmin ）／Ｄ（ｙ）
【００４９】
そして、上記遮蔽量Ｓ（ｙ）だけ、ｙ方向における各可動遮蔽板１６をそれぞれ駆動する（ステップ５４）。より具体的には、上記遮蔽量Ｓ（ｙ）の距離だけ、ｙ方向における各可動遮蔽板１６を内側（イオンビーム４の中心４ｘ側）へそれぞれ移動させる。その場合、上記遮蔽量Ｓ（ｙ）は、イオンビーム４のｘ方向の両側からのトータルの遮蔽量であるので、上記実施形態のようにイオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板１６を対称に駆動する場合は、片側の可動遮蔽板１６の移動量は上記遮蔽量Ｓ（ｙ）の１／２にする。
【００５０】
以上によって、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を自動的に制御して、イオンビーム４のｙ方向におけるビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性を向上させることができる。理想的には、図７Ｃに示すように、ビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）を均一にすることができる。
【００５１】
図５に示す例では、ビームプロファイルモニタ１４によってイオンビーム４のｘ、ｙ両方向の二次元のビーム電流密度分布Ｄ（ｘ，ｙ）を測定し（ステップ６０）、その測定情報ＤＡに基づいて、遮蔽板制御装置２４において以下の処理を行う。
【００５２】
即ち、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性Ｕを上記ステップ５１の場合と同様に算出し（ステップ６１）、算出した均一性Ｕが所定の規格内に入っているか否かを上記ステップ５２の場合と同様に判定し（ステップ６２）、入っていなければ可動遮蔽板１６によるイオンビーム４のｙ方向の各位置における遮蔽量を、例えば次のようにして算出する（ステップ６３）。
【００５３】
即ち、ｙ方向のそれぞれの位置について、ビーム電流密度Ｄのｘ方向の積分値が一定になるように、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４のｙ方向の各位置における遮蔽量を算出する。例えば、あるｙ方向の位置ｙ1 （例えばｙ1 ＝１００ｍｍ）におけるイオンビーム４のｘ方向のビーム電流密度分布が図８Ａ、Ｂに示すような場合、当該ｙ方向位置Ｙ1 における上記積分値は、図８Ａ、Ｂ中にハッチングを付した領域Ｇ1 に相当する。
【００５４】
ここで一例として、ｙ方向の各位置における上記積分値の最小値をＧ0 とし、可動遮蔽板１６を移動させる前の上記あるｙ方向位置ｙ1 における上記積分値が図８Ａに示すようにＧ1 （＞Ｇ0 ）だとすると、可動遮蔽板１６をイオンビーム４の内側に移動させてこの例ではイオンビーム４の両側を幾らか遮って、上記積分値Ｇ1 を上記最小の積分値Ｇ0 に実質的に等しくするために必要な可動遮蔽板１６の移動量を計算する。図８Ｂに示す例では、相対向する可動遮蔽板１６の先端を両側から内側へそれぞれｘ1 、−ｘ1 の位置まで移動させるとＧ1 ＝Ｇ0 となる。このような移動量（遮蔽量）の計算を、ｙ方向の各位置について行う。
【００５５】
そして、上記のようにして求めた移動量だけ、ｙ方向における各可動遮蔽板１６をそれぞれ駆動する（ステップ６４）。より具体的には内側へ移動させる。
【００５６】
以上によって、上記積分値が実質的に一定になるように可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を自動的に制御して、イオンビーム４のｙ方向におけるビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性を向上させることができる。
【００５７】
この例は、上記積分値を基準にしてそれが実質的に一定になるように制御するのであるが、それでも良いのは、図１に示す実施形態のようにターゲット８をｘ方向に往復駆動する場合は、ターゲット８に対するイオンビーム照射量（例えばイオン注入量）は、上記積分値に比例したものになるからである。
【００５８】
図６に示す例では、上記ステップ５０の場合と同様に、ビームプロファイルモニタ１４によってイオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）を測定し（ステップ７０）、その測定情報ＤＡに基づいて、遮蔽板制御装置２４において以下の処理を行う。
【００５９】
即ち、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性Ｕを上記ステップ５１の場合と同様に算出し（ステップ７１）、算出した均一性Ｕが所定の規格内に入っているか否かを上記ステップ５２の場合と同様に判定し（ステップ７２）、入っていなければ、ビーム電流密度Ｄが最小値Ｄmin よりも大きい位置の可動遮蔽板１６を、イオンビーム４を遮る方向に微少量駆動する（ステップ７３）。そして、上記ステップ７０〜７３を、均一性Ｕが規格内に入るまで繰り返す。
【００６０】
以上によって、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を自動的に制御して、イオンビーム４のｙ方向におけるビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）の均一性を向上させることができる。理想的には、図７Ｃに示したように、ビーム電流密度分布Ｄ（ｙ）を均一にすることができる。
【００６１】
以上においては、ｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する可動遮蔽板１６を内側に移動させて当該可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くする制御を行う遮蔽板制御装置２４を備えている例を説明したけれども、それとは反対に、初期状態として、各可動遮蔽板１６によってイオンビーム４を幾分遮る状態にしておいて、ｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する可動遮蔽板１６を外側へ移動させて当該可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくする制御を行う遮蔽板制御装置２４を備えていても良い。
【００６２】
あるいは、（ａ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くする制御と、（ｂ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくする制御との両方を行う遮蔽板制御装置２４を備えていても良い。
【００６３】
なお、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる観点からは、必ずしも上記実施形態のように相対向する可動遮蔽板１６を対称に動かす構成を採用しなくても良い。
【００６４】
例えば、イオンビーム４の経路のｘ方向の少なくとも片側に上記のような複数の可動遮蔽板１６およびそれ用の上記のような遮蔽板駆動装置を設けて、例えば上記二つの可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂの内の片方の可動遮蔽板群（例えば１８ａ）およびそれ用の遮蔽板駆動装置（例えば２２ａ）を設けて、その反対側には遮蔽板を設けないか、あるいはｙ方向に伸びた１枚の固定の遮蔽板を設けて、ビームプロファイルモニタ１４による測定情報ＤＡに基づいて遮蔽板制御装置２４によって遮蔽板駆動装置２２ａを制御して、（ａ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くすることと、（ｂ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行うようにしても良い。
【００６５】
可動遮蔽板群およびそれ用の遮蔽板駆動装置をイオンビーム経路の片側にのみ設ける場合は、構成の簡素化を図ることができるという利点がある。
【００６６】
また、上記のような全自動制御を行う遮蔽板制御装置２４を用いる代わりに、上記ビームプロファイルモニタ１４、第１および第２の可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを用いて、ビームプロファイルモニタ１４による測定情報ＤＡに基づいて、例えば手動操作によって、両可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板１６をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすことによって、（ａ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くすることと、（ｂ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させるビーム均一性調整方法を採用しても良い。この調整方法は、例えば、図６に示した処理を、人が介在して行うようなものである（後述する調整方法も同様）。その場合、上記遮蔽板駆動装置２２ａおよび２２ｂを設けておいても良いし、設けていなくても良い。設けていれば、各可動遮蔽板１６を動かすことが容易になる。
【００６７】
このビーム均一性調整方法によれば、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を調整して、イオンビーム４のｙ方向（長手方向）のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。しかもこの調整方法の場合も、調整箇所においてイオンビーム４を磁界や電界によって発散または集束させるものではないので、イオンビーム４の平行度や発散角に悪影響を与えることがない。即ち、イオンビーム４の平行度や発散角といった品質に悪影響を与えることなく、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることができる。その結果、ターゲット８に対するｙ方向における処理の均一性を高めることができる。
【００６８】
更に、両可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂを構成する可動遮蔽板１６の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板１６を、ｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に（即ち前述したように対称に）動かすので、可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を変えても、相対向する可動遮蔽板１６間を通過するイオンビーム４のｘ方向の中心位置がずれない。
【００６９】
また、図２を参照して先に説明したような配置構成の可動遮蔽板１６を採用することによって、隣り合う可動遮蔽板１６同士が擦れてパーティクルが発生することを防止しつつ、隣り合う可動遮蔽板１６間からイオンビーム４が下流側へ漏れるのを防止することができる。
【００７０】
また、イオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる観点からは、必ずしも上記調整方法のように相対向する可動遮蔽板１６を対称に動かす方法を採用しなくても良い。
【００７１】
例えば、イオンビーム４の経路のｘ方向の少なくとも片側に上記のような複数の可動遮蔽板１６を設けておいて、例えば上記二つの可動遮蔽板群１８ａ、１８ｂの内の片側の可動遮蔽板群（例えば１８ａ）を設けておいて、その反対側には遮蔽板を設けないか、あるいはｙ方向に伸びた１枚の固定の遮蔽板を設けておいて、ビームプロファイルモニタ１４による測定情報ＤＡに基づいて、例えば手動操作によって、（ａ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する可動遮蔽板１６をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に多くすることと、（ｂ）測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する可動遮蔽板１６をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板１６によるイオンビーム４の遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させるビーム均一性調整方法を採用しても良い。その場合、上記遮蔽板駆動装置（例えば２２ａ）を設けておいても良いし、設けていなくても良い。設けていれば、各可動遮蔽板１６を動かすことが容易になる。
【００７２】
上記イオンビーム照射装置およびビーム均一性調整方法のいずれの例においても、例えば図１１に示す例のように、可動遮蔽板１６の上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向近傍の両側に、あるいは可動遮蔽板１６を片側にのみ設ける場合はそれと同じ片側に、遮蔽板２８を設けても良い。この遮蔽板２８は可動である必要はない。このような遮蔽板２８を設けると、その下流側に位置する可動遮蔽板１６と協働して、イオンビーム４の内の発散角の大きい成分４ａ（ハッチングを付して示した部分）を除去して、当該成分４ａがターゲット８に入射するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】この発明に係るイオンビーム照射装置の一実施形態を示す平面図である。
【図２】図１中の可動遮蔽板周りを矢印Ｐ方向に見て部分的に示す側面図である。
【図３】可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量の少ない場合（Ａ）、および多い場合（Ｂ）の例を拡大して示す平面図である。
【図４】図１中の遮蔽板制御装置を用いたビーム均一性調整の制御内容の一例を示すフローチャートである。
【図５】図１中の遮蔽板制御装置を用いたビーム均一性調整の制御内容の他の例を示すフローチャートである。
【図６】図１中の遮蔽板制御装置を用いたビーム均一性調整の制御内容の更に他の例を示すフローチャートである。
【図７】図４に示す制御内容の場合の均一性調整前のビーム電流密度分布（Ａ）、可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽率（Ｂ）、および均一性調整後のビーム電流密度分布の理想形（Ｃ）の例を示す図である。
【図８】図５に示す制御内容の場合の、あるｙ方向位置におけるビーム電流密度のｘ方向の積分値の一例（Ａ）、および他の例（Ｂ）を示す図である。
【図９】可動遮蔽板の配置の他の例を示す図であり、図２に対応している。
【図１０】可動遮蔽板の配置の更に他の例を示す図であり、図２に対応している。
【図１１】可動遮蔽板の上流側に他の遮蔽板を設けた例を部分的に示す平面図である。
【符号の説明】
【００７４】
４ イオンビーム
８ ターゲット
１４ ビームプロファイルモニタ
１６ 可動遮蔽板
１８ａ 第１の可動遮蔽板群
１８ｂ 第２の可動遮蔽板群
２２ａ 第１の遮蔽板駆動装置
２２ｂ 第２の遮蔽板駆動装置
２４ 遮蔽板制御装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置であって、
前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の少なくとも片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板と、
前記複数の可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する遮蔽板駆動装置と、
前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて前記遮蔽板駆動装置を制御して、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行う遮蔽板制御装置とを備えていることを特徴とするイオンビーム照射装置。
【請求項２】
進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置であって、
前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の一方の片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第１の可動遮蔽板群と、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の他方の片側に、前記第１の可動遮蔽板群を構成する各遮蔽板とイオンビーム経路を挟んでｘ方向においてそれぞれ相対向するようにｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第２の可動遮蔽板群と、
前記第１の可動遮蔽板群を構成する各可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する第１の遮蔽板駆動装置と、
前記第２の可動遮蔽板群を構成する各可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する第２の遮蔽板駆動装置と、
前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて前記第１および第２の遮蔽板駆動装置を制御して、前記第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすことによって、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行う遮蔽板制御装置とを備えていることを特徴とするイオンビーム照射装置。
【請求項３】
前記各可動遮蔽板は、ｙ方向に対して斜めに傾け、隣り合う可動遮蔽板間を互いに離し、かつイオンビームの進行方向に見て、隣り合う可動遮蔽板間に隙間がないように配置されている請求項１または２記載のイオンビーム照射装置。
【請求項４】
進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置における調整方法であって、
前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の少なくとも片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板とを用いて、
前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記可動遮蔽板をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記可動遮蔽板をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることを特徴とするビーム均一性調整方法。
【請求項５】
進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置における調整方法であって、
前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の一方の片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第１の可動遮蔽板群と、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の他方の片側に、前記第１の可動遮蔽板群を構成する各遮蔽板とイオンビーム経路を挟んでｘ方向においてそれぞれ相対向するようにｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第２の可動遮蔽板群とを用いて、
前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて、前記第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすことによって、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることを特徴とするビーム均一性調整方法。
【請求項６】
前記各可動遮蔽板は、ｙ方向に対して斜めに傾け、隣り合う可動遮蔽板間を互いに離し、かつイオンビームの進行方向に見て、隣り合う可動遮蔽板間に隙間がないように配置されている請求項４または５記載のビーム均一性調整方法。
【請求項１】
進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置であって、
前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の少なくとも片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板と、
前記複数の可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する遮蔽板駆動装置と、
前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて前記遮蔽板駆動装置を制御して、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行う遮蔽板制御装置とを備えていることを特徴とするイオンビーム照射装置。
【請求項２】
進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置であって、
前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の一方の片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第１の可動遮蔽板群と、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の他方の片側に、前記第１の可動遮蔽板群を構成する各遮蔽板とイオンビーム経路を挟んでｘ方向においてそれぞれ相対向するようにｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第２の可動遮蔽板群と、
前記第１の可動遮蔽板群を構成する各可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する第１の遮蔽板駆動装置と、
前記第２の可動遮蔽板群を構成する各可動遮蔽板を互いに独立してｘ方向に沿って往復駆動する第２の遮蔽板駆動装置と、
前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて前記第１および第２の遮蔽板駆動装置を制御して、前記第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすことによって、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させる制御を行う遮蔽板制御装置とを備えていることを特徴とするイオンビーム照射装置。
【請求項３】
前記各可動遮蔽板は、ｙ方向に対して斜めに傾け、隣り合う可動遮蔽板間を互いに離し、かつイオンビームの進行方向に見て、隣り合う可動遮蔽板間に隙間がないように配置されている請求項１または２記載のイオンビーム照射装置。
【請求項４】
進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置における調整方法であって、
前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の少なくとも片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板とを用いて、
前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記可動遮蔽板をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記可動遮蔽板をｘ方向に沿って動かして当該可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることを特徴とするビーム均一性調整方法。
【請求項５】
進行方向と交差する面内におけるｙ方向の寸法が当該ｙ方向と直交するｘ方向の寸法よりも大きい形をしているイオンビームをターゲットに照射する構成のイオンビーム照射装置における調整方法であって、
前記ターゲットの位置近傍におけるイオンビームの少なくともｙ方向のビーム電流密度分布を測定するビームプロファイルモニタと、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の一方の片側に、ｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第１の可動遮蔽板群と、
前記ターゲットの位置よりも上流側におけるイオンビーム経路のｘ方向の他方の片側に、前記第１の可動遮蔽板群を構成する各遮蔽板とイオンビーム経路を挟んでｘ方向においてそれぞれ相対向するようにｙ方向に並べて配置されていて、互いに独立してｘ方向に沿って可動でありイオンビームを遮るための複数の可動遮蔽板を有する第２の可動遮蔽板群とを用いて、
前記ビームプロファイルモニタによる測定情報に基づいて、前記第１および第２の可動遮蔽板群を構成する可動遮蔽板の内の、イオンビーム経路を挟んで相対向する可動遮蔽板をｘ方向に沿って互いに実質的に同じ距離だけ逆方向に動かすことによって、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に大きい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に多くすることと、測定したｙ方向のビーム電流密度が相対的に小さい位置に対応する前記相対向する可動遮蔽板によるイオンビームの遮蔽量を相対的に少なくすることの少なくとも一方を行って、ｙ方向のビーム電流密度分布の均一性を向上させることを特徴とするビーム均一性調整方法。
【請求項６】
前記各可動遮蔽板は、ｙ方向に対して斜めに傾け、隣り合う可動遮蔽板間を互いに離し、かつイオンビームの進行方向に見て、隣り合う可動遮蔽板間に隙間がないように配置されている請求項４または５記載のビーム均一性調整方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２００７−１７２９２７（Ｐ２００７−１７２９２７Ａ）
【公開日】平成１９年７月５日（２００７．７．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３６６４９９（Ｐ２００５−３６６４９９）
【出願日】平成１７年１２月２０日（２００５．１２．２０）
【出願人】（３０２０５４８６６）日新イオン機器株式会社 (161)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年７月５日（２００７．７．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１２月２０日（２００５．１２．２０）
【出願人】（３０２０５４８６６）日新イオン機器株式会社 (161)
【Ｆターム（参考）】
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