【課題】 直線運動を処理室内に導入しなくても、ホルダをイオンビームの走査方向と交差する方向に往復直線駆動することができるイオンビーム照射装置を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、アーム５２、６４を伸縮させてホルダ１０を往復直線駆動する伸縮駆動機構１２４ａと、当該機構１２４ａを旋回中心軸８６を中心にして往復旋回させる旋回駆動機構１２６とを備えている。更に、旋回角度θ、基準伸縮長さＬ、伸縮長さＬ_A に関して、Ｌ_A ｃｏｓθ＝Ｌなる関係を満たすように伸縮駆動機構１２４ａおよび旋回駆動機構１２６を制御する制御装置を備えている。 （もっと読む）

【課題】 低エネルギーのイオンビームでも多量にかつ平行性良く取り出すと共に、クリーンなイオン照射とイオンビームの厳重なモニタとを両立させることができる装置を提供する。
【解決手段】 このイオン照射装置は、イオン源２０から引き出され質量分離電磁石３２を通したイオンビーム３０を、Ｘ方向において二方向に偏向させる機能および両偏向方向のそれぞれにおいてイオンビームをＸ方向に走査する機能を有するビーム走査器８２と、それから導出されたイオンビームを曲げ戻して平行ビーム化するビーム平行化器８６、８８と、ビーム平行化器８６から導出されたイオンビーム３０が導入され被照射物２にイオンビームを照射して処理を行う処理室９０と、被照射物２をＹ方向に機械的に駆動する駆動機構９４と、ビーム平行化器８８から導出されたイオンビーム３０が導入されビーム計測器９６を用いてビーム計測のみを行う計測室９２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 シリコンウェーハ表面に酸化膜が形成されていない状態でのイオン注入を可能とするイオン注入装置およびイオン注入方法を実現する。
【解決手段】 第１および第２のイオン源１１・１２で生成される、異なる種類のイオンビームの照射を可能とすることで、多原子分子のイオンビームをシリコンウェーハ１０に照射して表面の酸化膜を除去する工程と、注入イオンのイオンビームをシリコンウェーハ１０に照射してイオンを注入する工程とを、チャンバ１８内のプラテンに装着されたシリコンウェーハ１０に対し、その間の真空雰囲気を破ること無く連続して行う。 （もっと読む）

【課題】 被照射物に対するクリーンなイオン照射と、イオンビームの厳重なモニタとを両立させることができるイオン照射装置を提供する。
【解決手段】 イオン源２０から引き出され質量分離器３２を通したイオンビーム３０を、Ｘ方向において二つの偏向方向に偏向させる機能および両偏向方向のそれぞれにおいてイオンビームをＸ方向に走査する機能を有するビーム走査器８２と、それから導出されたイオンビームをそれぞれ曲げ戻して平行ビーム化する二つのビーム平行化器８６、８８と、ビーム平行化器８６から導出されたイオンビーム３０が導入され、被照射物２にイオンビームを照射してイオン注入等の処理を行う処理室９０と、被照射物２をＹ方向に機械的に駆動する駆動機構９４と、ビーム平行化器８８から導出されたイオンビーム３０が導入され、ビーム計測器９６を用いてイオンビームの計測のみを行う計測室９２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置を構成する絶縁膜の比誘電率を低下させることができる方法を提供する。
【解決手段】 半導体装置を構成する絶縁膜２に不活性ガス、窒素および水素の内の少なくとも一種のイオン６を注入して絶縁膜２中に多数の空隙８を形成し、絶縁膜２の比誘電率をイオン注入前よりも低下させ、これによって低誘電率絶縁膜１０を得る。 （もっと読む）

【課題】 パーティクルを発生させることなく、簡単な構造で短時間に、かつ注入状態においても、ホルダとイオンビームとの間の角度を高精度で計測することができる装置を提供する。
【解決手段】 この角度計測装置５０は、イオンビーム２が残留ガスと衝突することによって生成され発光するビームプラズマ（図はイオンビーム２で代表）をカメラ２１、２２でビーム進行方向Ｚの２箇所で計測することによってイオンビーム２の角度を計測し、かつホルダ６に線状光源２６を設けておいてその光をカメラ２３で計測することによってホルダ６の角度を計測し、それによってイオンビーム２とホルダ６との間の角度を計測するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】 低エネルギーのイオンビームでも、多量にかつ平行性良く取り出すことができる装置を提供する。
【解決手段】 このイオン照射装置は、複数のイオン引出しスリットを有するイオン源２０と、それから引き出されたイオンビーム３０を曲げて質量分離を行う質量分離電磁石３２とを備えている。質量分離電磁石３２は、平面形状が湾曲しているビーム偏向領域４０を有していて、当該領域４０における磁束密度Ｂは、入口部４２からのビーム進行方向への角度が大きくなるに従って大きくなり、かつ湾曲の外側方向へ行くに従って小さくなるように設定されており、それによって質量分離電磁石３２は、ビーム偏向領域４０の入口部４２に複数箇所から互いに平行に入射したイオンビーム３０を、出口部４４において集束させ、かつ互いに平行な状態で出射させるよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】引出し電極系の高電位電極に高電圧を供給する系統の絶縁劣化を抑えると共に、高電位電極への配線の作業性の悪さを解消する。
【解決手段】このイオン源装置は、イオン源チャンバー２を貫通し内部に支持棒用穴５２を有する接地電位の電極系支持軸５０と、その支持棒用穴５２を支持軸５０との間に空間をあけて貫通しそのイオン源チャンバー外側の端部付近に高電圧が印加される高電位支持棒５４と、電極系支持軸５０のイオン源チャンバー外側の端部付近内に設けられた絶縁体５６と、高電位支持棒５４のイオン源チャンバー内側の端部に結合されていて高電位電極１２を支持かつ導通させる第１支持体４０と、電極系支持軸５０のイオン源チャンバー内側の端部に結合されていて接地電極１４を支持かつ導通させるものであって、高電位電極１２および第１支持体４０との間が空間絶縁されている第２支持体４６とを備える。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームの入射角度の変更が容易であり、しかも入射角度を小さくする場合でも照射位置のずれおよび照射領域の広がりを小さく抑えることができる装置および方法を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、真空容器１０と、その中に設けられていて基板６にそれよりも幅の広いイオンビーム４を照射するイオン源２と、真空容器１０内で基板６を往復駆動する基板駆動機構３０と、中心軸１４ａがイオン源２から基板寄りに離れた所にありかつ基板表面に実質的に平行である回転軸１４と、真空容器１０内に設けられていてイオン源２を回転軸１４から支持するアーム１２と、真空容器１０外に設けられていて回転軸１４を往復回転させるモータとを備えている。 （もっと読む）

【課題】陰極に加熱電流を流して該陰極から熱電子を放出させつつアーク放電を発生させ、該アーク放電のもとで目的とするイオンを得るためのプラズマを生成させる該アーク放電用陰極であって、従来のこの種のアーク放電用陰極と比べると長期にわたり安定して求めるイオンを提供するプラズマを発生させることができるアーク放電用陰極を提供する。さらにこれを採用したイオン源を提供する。
【解決手段】中心導体部１と、これに外嵌された筒形導体部２と、これら両者の先端部を接続する接続導体部３とを含み、中心導体部１と筒形導体部２とで加熱電流が逆方向に流されるアーク放電用陰極１０、及びかかる陰極１０を採用したイオン源Ａ。 （もっと読む）