【課題】 外部から供給した電子によって輸送中のイオンビームの空間電荷を効率良く中和することによって、イオンビームの発散を抑制し、イオンビームの輸送効率を向上させる。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、イオンビーム４の経路の側方に配置されていて電子４２をイオンビーム４の経路に向けて放出する電界放出型電子源３０と、少なくとも電界放出型電子源３０にイオンビーム４の経路を挟んで対向する位置に配置されていて電界放出型電子源３０から供給された電子４２を静電的に追い返す追い返し電極６０と、イオンビーム４の経路であって電界放出型電子源３０から電子４２が供給される領域を含む領域に、イオンビーム４の経路に沿う方向の磁界Ｂ₁ を発生させるコイル６６とを備えている。追い返し電源６２を用いて、電界放出型電子源３０のカソード基板３２に対する追い返し電極６０の電位を第２引出し電極４４の電位よりも低く保つ。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームのｙ方向の角度偏差、発散角及びビーム寸法の内の少なくとも一つを簡単な構成によって計測する。
【解決手段】 前段シャッター駆動装置３６によって前段ビーム制限シャッター３２をｙ方向に駆動しつつ、シャッター３２の一辺３４の外側を通過して前段多点ファラデー２４に入射するイオンビーム４のビーム電流の変化を計測して、シャッター３２の位置でのイオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布を計測する。後段シャッター駆動装置４６によって後段ビーム制限シャッター４２をｙ方向に駆動しつつ、シャッター４２の一辺４４の外側を通過して後段多点ファラデー２８に入射するイオンビーム４のビーム電流の変化を計測して、シャッター４２の位置でのイオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布を計測する。これらの計測結果を用いて、イオンビーム４のｙ方向の角度偏差、発散角及びビーム寸法の内の少なくとも一つを計測する。 （もっと読む）

【課題】 複数の真空室を有する真空処理装置の設置面積を小さくする。
【解決手段】 この真空処理装置は、固定された処理室２４と、移動可能な二つの真空予備室２８ａ、２８ｂとを備えている。処理室２４にはゲートバルブ２６が、各真空予備室２８ａ、２８ｂにはゲートバルブ３０が、それぞれ設けられている。各真空予備室２８ａ、２８ｂは、予備室移動機構３４によってＹ方向に移動させられる。処理室ゲートバルブ２６の周縁部には、膨張および収縮可能であって、膨張時に、互いに接近しているゲートバルブ２６、３０間の隙間Ｇを真空シールする真空シール体５４が設けられている。更に、処理室２４とそれに接近している真空予備室２８ａ、２８ｂとの間で基板２を搬送する基板搬送機構が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームの照射方向に対して傾斜した状態で基板を走査した場合であっても、イオンビームの濃度が基板の表面内において不均一となることを抑制する。
【解決手段】 一点で互いに直交する三つの軸をＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸とする。照射角度設定用モータ１４ａは、ホルダ４を支持していて、このホルダ４を、Ｘ軸に平行な中心軸６０を中心に回転させることによって、イオンビーム５８の照射角度θを設定する。Ｙ軸用リニアモータ２０は、ホルダ４および照射角度設定用モータ１４ａを、Ｙ軸方向に昇降させる。Ｚ軸用リニアモータ３０は、ホルダ４、照射角度設定用モータ１４ａおよびＹ軸用リニアモータ２０を、Ｚ軸方向に移動させる。制御装置４０は、Ｙ軸用リニアモータ２０およびＺ軸用リニアモータ３０を、基板保持面６に平行であってかつＸ軸に直交するＳ軸に沿ってホルダ４の基板保持面６が直線的に往復走査するように同期動作制御する。 （もっと読む）

【課題】 大電流でしかも均一性の良いシート状のイオンビームをターゲットに照射することができるイオン照射装置を提供する。
【解決手段】 このイオン照射装置では、Ｘ方向に幅広のシート状のイオンビーム４を引き出すイオン源２のプラズマ生成容器８内に、Ｘ方向に伸びているカソード１８を設け、それを電子ビーム源３０からのＸ方向に走査される電子ビーム３８によって加熱して熱電子１９を放出させて、プラズマ１２を生成する。ターゲット６の近傍におけるイオンビーム４のＸ方向のビーム電流分布を計測するビーム計測器５８からのデータに基づいて、制御装置６０によって走査電源５２から出力する走査電圧Ｖ_S の波形整形を行い、イオンビーム４の走査速度を制御して、上記ビーム電流分布を均一化する。 （もっと読む）

【課題】 傍熱陰極型イオン源において、プラズマ生成効率の向上、ガスの利用効率の向上およびイオン源の長寿命化を可能にする。
【解決手段】 プラズマ生成容器４のカソード用開口２０内に筒状のカソードホルダー２２を、その先端がプラズマ生成容器４の内壁面５よりも外側に位置するように挿入し、カソードホルダー２２内にカソード２６を、その前面２８が内壁面５よりも外側に位置するように保持している。カソードホルダー２２内に、カソード２６との間に空間をあけてその側面を取り囲む筒状の第１熱シールド３６を設けており、その先端は内壁面５よりも外側に位置している。カソード２６の後方にフィラメント３８が設けられており、カソードホルダー２２とプラズマ生成容器４との間は電気絶縁物４０で塞がれている。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームの照射方向に対して傾斜した状態で基板を走査した場合であっても、イオンビームの濃度が基板の表面内において不均一となることを抑制する。
【解決手段】 一点で互いに直交する三つの軸をＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸とする。走査装置１４は、それに支持しているホルダ１０を、その基板保持面１２に平行な方向であってかつＸ軸に直交するＳ方向に沿って直線的に往復走査する。照射角度制御モータ８６は、それに支持している走査装置１４及び走査装置１４に支持されたホルダ１０を、Ｘ軸に平行な回転軸８８を中心に回転させることによって、基板保持面１２に対するイオンビーム１２０の照射角度θを変更する。昇降装置９２は、それに支持している照射角度制御モータ８６、このモータ８６に支持された走査装置１４及び当該走査装置１４に支持されたホルダ１０を、Ｙ軸に沿う方向に昇降させる。 （もっと読む）

【課題】 回転体を回転させながら各被照射物に荷電粒子ビームを照射する装置または方法において、被照射物の角度可変機構を設けることなく、各被照射物中における荷電粒子の飛程の分布を均一化する。
【解決手段】 この荷電粒子ビーム照射装置は、回転体６上の被照射物４に入射する荷電粒子ビーム２のエネルギーを変化させる電圧可変電源２０、２８を備えている。更に、電圧可変電源２０または２８を制御するものであって、回転体６の回転に伴う荷電粒子ビーム２の入射角度の変化に同期させて、各被照射物４に入射する荷電粒子ビーム２のエネルギーを変化させて、各被照射物４中における荷電粒子の飛程の垂直方向成分Ｒ_P の分布を均一化するエネルギー制御器３２を備えている。 （もっと読む）

【課題】 基板の温度上昇をより効果的に抑制可能な基板保持装置を提供する。
【解決手段】 この基板保持装置１０ａは、基板５０を保持する基板保持板７０と、基板保持板７０との間で基板５０の周縁部７６を挟持するクランパー１４とを備えている。基基板保持板７０は、櫛状の形状であってかつ周縁部７６よりも内側に開口部７４が形成されている。この基板保持板７０に代えて、枠状又は格子状であって周縁部よりも内側に空間部が形成されている基板保持板を備えていても良い。 （もっと読む）

【課題】 直線運動を処理室内に導入しなくても、ホルダをイオンビームの走査方向と交差する方向に往復直線駆動することができるイオンビーム照射装置を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、アーム５２、６４を伸縮させてホルダ１０を往復直線駆動する伸縮駆動機構１２４ａと、当該機構１２４ａを旋回中心軸８６を中心にして往復旋回させる旋回駆動機構１２６とを備えている。更に、旋回角度θ、基準伸縮長さＬ、伸縮長さＬ_A に関して、Ｌ_A ｃｏｓθ＝Ｌなる関係を満たすように伸縮駆動機構１２４ａおよび旋回駆動機構１２６を制御する制御装置を備えている。 （もっと読む）