【課題】 イオンビーム電流の計測誤差を小さくして計測精度を高めることができるイオンビーム計測装置を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム計測装置２０は、イオンビーム２を受け入れる入口２４を有するファラデーカップ２２と、ファラデーカップ２２の入口２４の上流側近傍に設けられていて接地電位を基準にして正のバイアス電圧が印加される抑制電極２６と、ファラデーカップ２２の外側に設けられていてファラデーカップ２２内にイオンビーム２の入射方向と交差する方向の磁界Ｂを作る磁石３０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】
多結晶シリコンの反射率を測定することにより、注入されたイオンにより非晶質となった半導体領域の深さ方向の結晶化率を精度良く非破壊で測定する方法を提供する。
【解決手段】
半導体の深さ方向の結晶化率の分布を複数の異なる結晶化率の層からなる構造と見なして、実際に測定した反射率スペクトラムと同一のスペクトラムを有する計算によって求めた反射率スペクトラムに対応する複数の結晶化率の積層構造を特定する。 （もっと読む）

【課題】電子機器・装置・デバイスに必要な均一な磁場を小型で軽量な構造で実現できる電磁石および電磁コイルおよび電磁コイルの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス又はカーボン繊維基材からなるエポキシプリプレグテープ１を巻き回し、更に表面にブラスト処理をした銅条３又はアルミ条と絶縁材である絶縁紙２とを所定の回数巻き回した後に、前記エポキシプリプレグテープ１を巻き回した第１のコイルの外周に重ねて、表面をブラスト処理した銅条３又はアルミ条と絶縁材である絶縁紙２とを所定の回数巻き回した後に、エポキシプリプレグ１を巻き回した第２のコイルとを備え、第１のコイルまたは第２のコイルの外周に熱収縮テープ４を巻き回した後に加圧変形を行い、所定の形状で成形し、加熱硬化させて形成した電磁コイルを真空中で樹脂含浸した後に、加圧した状態で加熱硬化した電磁コイル。 （もっと読む）

【課題】 基板に対する注入位置での長手方向（Ｙ方向）のイオンビーム電流密度分布の均一性を向上させることができるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】 このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、イオン源１００内でＹ方向に走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。制御装置９０は、モニタ８０からの測定データに基づいて電源１１４を制御することによって、モニタ８０で測定したビーム電流密度が大きいモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を大きくし、測定したビーム電流密度が小さいモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を小さくして、モニタ８０で測定されるＹ方向のビーム電流密度分布を均一化する機能を有している。 （もっと読む）

【課題】 基板に対する注入位置での長手方向（Ｙ方向）のイオンビーム電流密度分布の均一性を向上させる。
【解決手段】 このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、Ｙ方向に走査される電子ビーム１３８を放出してプラズマ１２４を生成する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。制御装置９０は、モニタ８０からの測定データに基づいて電源１１４を制御することによって、モニタ８０で測定したビーム電流密度が大きいモニタ点に対応する位置での電子ビーム１３８の走査速度を大きくし、測定したビーム電流密度が小さいモニタ点に対応する位置での電子ビーム１３８の走査速度を小さくして、モニタ８０で測定されるＹ方向のビーム電流密度分布を均一化する機能を有している。 （もっと読む）

【課題】 コイルの渡り部の張り出し距離を小さくして分析電磁石の小型化および低消費電力化を可能にし、ひいてはイオン注入装置の小型化および低消費電力化を可能にする。
【解決手段】 イオン注入装置を構成する分析電磁石２００は、第１内側コイル２０６、第２内側コイル２１２、三つの第１外側コイル２１８、三つの第２外側コイル２２４およびヨーク２３０を備えている。内側コイル２０６、２１２はそれぞれ鞍型のコイルであって、両者が協働してイオンビームをＸ方向に曲げる主磁界を発生させる。各外側コイル２１８、２２４は、それぞれ鞍型のコイルであって、主磁界の補正を行う副磁界を発生させる。各コイルは、積層絶縁体の外周面に、絶縁シートおよび導体シートを互いに重ね合わせたものを複数回巻いて積層し、その外周面に積層絶縁体を形成した扇型筒状の積層コイルに切欠き部を設けた構成をしている。 （もっと読む）

【課題】 コイルの渡り部の、ヨークからのビーム入出射方向への張り出し距離を小さくして分析電磁石の小型化を可能にすると共に、消費電力を小さくすることができる分析電磁石を提供する。
【解決手段】 この分析電磁石２００は、第１内側コイル２０６、第２内側コイル２１２、三つの第１外側コイル２１８、三つの第２外側コイル２２４およびヨーク２３０を備えている。内側コイル２０６、２１２はそれぞれ鞍型のコイルであって、両者が協働してイオンビームをＸ方向に曲げる主磁界を発生させる。各外側コイル２１８、２２４は、それぞれ鞍型のコイルであって、主磁界の補正を行う副磁界を発生させる。各コイルは、積層絶縁体の外周面に、絶縁シートおよび導体シートを互いに重ね合わせたものを複数回巻いて積層し、その外周面に積層絶縁体を形成した扇型筒状の積層コイルに切欠き部を設けた構成をしている。 （もっと読む）

【課題】 １枚の基板に対して、複数のレシピに依るイオン注入を、明確にかつ効率良く行うことができるイオン注入方法を提供する。
【解決手段】 このイオン注入方法は、イオン種、イオンビームのエネルギー、ドーズ量、基板のチルト角、基板のツイスト角および基板面内の領域の６注入条件を含む複数のそれぞれ内容の異なるレシピを１枚の基板２６について設定するレシピ設定工程と、そのレシピを実行する順番を設定する順番設定工程と、１枚の基板２６に対して、前記順番に従って、当該順番のレシピごとに当該レシピの内容でイオン注入を行う複数のイオン注入工程と、一つのレシピに依るイオン注入とその次のレシピに依るイオン注入との間に、注入室２４内に基板２６を残した状態で、しかもイオンビーム１２が基板２６に入射していない状態で、レシピを次のレシピに切り換えるレシピ切り換え工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板に均一にイオンビームを注入でき、ホルダの移動に関して自由度の高いイオンビーム照射装置を提供する。
【解決手段】イオンビーム照射装置１は、Ｚ軸方向に沿って進行するイオンビームを、真空チャンバ１０に設けられたホルダ９に保持された基板に照射するイオンビーム照射装置であって、ホルダ９をＺ軸方向に沿って移動させるＺ軸摺動機構３と、ホルダ９をＹ軸方向に沿って昇降させるＹ軸摺動機構２とを備え、Ｚ軸摺動機構３は、ホルダ９が設けられてＺ軸方向に沿って往復摺動するＺ軸スライダユニット６と、Ｚ軸スライダユニット６をＺ軸方向に沿ってガイドするＺ軸ガイド７と、Ｚ軸スライダユニット６を往復摺動させるために設けられたＺ軸駆動モータ８とを有し、Ｙ軸摺動機構２は、Ｚ軸ガイド７をＹ軸方向に沿ってガイドするＹ軸ガイド４と、Ｚ軸ガイド７をＹ軸方向に沿って往復運動させるために設けられたＹ軸駆動モータ５とを有する。 （もっと読む）

【課題】 電極対をＹ方向に複数段に配置して成る静電偏向器を用いて、リボン状のイオンビームのＹ方向における複数位置での進行角を補正する方法を提供する。
【解決手段】 リボン状のイオンビーム２の経路に、当該経路をＸ方向において挟む電極対３２をＹ方向に複数段に配置して成る静電偏向器３０を設けておく。そして、静電偏向器３０の下流側近傍において、各電極対３２間を通過したイオンビーム２のＺ方向からの角度である進行角をそれぞれ測定し、その進行角を所定の角度に補正するのに必要な各電極対３２に印加する直流電圧をそれぞれ求め、その直流電圧を各電極対３２にそれぞれ印加する。 （もっと読む）