【課題】位置決めピンのスプロケット孔への挿入精度を向上させる。
【解決手段】キャリアテープを走行経路に沿って送り出すテープ送部を備える。そして、キャリアテープの電子回路部を走行経路上で打ち抜いて、キャリアテープから電子回路部を分離する打抜部と、キャリアテープの電子回路部がすべて打ち抜かれると、キャリアテープのスプロケット孔を検出するスプロケット孔検出部とを備える。さらに、スプロケット孔検出部の検出に基づいて、キャリアテープのスプロケット孔に位置決めピンを挿入して、キャリアテープを把持するテープ把持部を備える。また、走行経路において、スプロケット孔検出部がスプロケット孔を検出する位置とテープ把持部がキャリアテープを把持する位置との間の距離は、スプロケット孔検出部がスプロケット孔を検出する位置と打抜部が電子回路部を打ち抜く位置との間の距離よりも短い。 （もっと読む）

【課題】ガスを用いることなく、プラズマの形成が可能であり、小型軽量化が可能な電気加熱法による原子吸光分析が可能な元素分析装置を実現する。
【解決手段】試料は送液部１０１により流路１０２から原子化部１０３に送液され、電極１１８間に電圧が印加される。電極１１８に電圧が印加されると、原子化部１０３で電流と電界が集中し、気泡が発生しこの気泡中にプラズマ１１０が生じ、プラズマ１１０により試料中の元素が原子化される。光源１０９から原子化部１０３に照射され透過した光源１０９からの光１１１を光ファイバー１０５などで受光し、分光器１０６で分光する。この分光された光量が検出器１０７により検出され、コンピュータ１０８で分析される。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置が出力する欠陥候補の座標誤差が大きいと、レビュー装置上で欠陥候補の座標に移動しても視野内に欠陥が見つからない場合がある。移動した座標に欠陥が存在しない場合、周辺に移動して欠陥を探索したり、虚報として判定して見逃す場合がある。本発明の目的は、レビュー時の欠陥探索にかかる作業を軽減させるために、検査装置において、欠陥候補の座標誤差のばらつきを抑制することにより、欠陥候補の座標精度を向上したパターン付き半導体ウエハの検査装置を提供することである。
【解決手段】上記目的を達成するため、本発明では、定点観測位置設定処理により半導体ウエハ上で基準となるパターンを選定し、定点画像切出し処理で当該基準パターンと同じ座標の定点画像を切出して、欠陥座標補正処理により、それらの画像間のずれ量を算出して、各ずれ量で欠陥候補の座標データを補正する。 （もっと読む）

【課題】液体クロマトグラフ装置において、カラム洗浄および封入液充填の条件設定および実施を自動化し、カラム洗浄漏れおよび封入液充填漏れを防止する。
【解決手段】中央処理装置７０が、ポンプ、オートサンプラ、カラムオーブン、又は検出器を含むクロマトユニットに関する情報をカラムタグ１１０から読み出し、クロマトユニットからの情報を受信しながら、分析者により設定された分析条件に従って、クロマトユニットを制御する。
また、中央処理装置７０が、分析後のカラム洗浄又は封入液充填を自動で実施すると、カラムタグ１１０の対応するフラグをＯＮに設定する。そして、分析者がカラムオーブン４０からカラムを取り外す際、カラム洗浄又は封入液充填の少なくとも一方が未実施の場合、出力装置８０に警告を表示する。 （もっと読む）

【課題】テーパ形状の開口部が多数形成された有機ＥＬ用マスクに付着した有機材料を高い洗浄度でレーザクリーニングを行うことを目的とする。
【解決手段】テーパ部１２Ｔを有する開口部１２を形成した有機ＥＬ用マスク１の表面に付着した有機材料を剥離するために有機ＥＬ用マスクの表面１を走査するレーザ光Ｌを発振するレーザ光源３１と、有機ＥＬ用マスク１の表面よりもレーザ光Ｌの入射側で焦点を結ぶように有機ＥＬ用マスク１の表面とレーザ光Ｌの焦点位置との相対位置関係を調整する焦点位置調整手段とを備えている。これにより、レーザ光Ｌは有機ＥＬ用マスク１の表面よりもレーザ光Ｌの入射側に離間した位置で焦点を結ぶため、有機ＥＬ用マスク１に拡散光を照射することができ、テーパ部１２Ｔに大きな角度でレーザ光Ｌを照射できるようになる。 （もっと読む）

【課題】欠陥箇所のフレームが特定可能な、又は保存画像の圧縮率が高い、或いはシステマティックな欠陥を抽出可能な高精度で低ダメージの走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】走査電子顕微鏡において、パターンの検査・測長のための合成画像を構成する個々のフレーム画像やサブフレーム画像に対してパターンの有無を判定するパターン有無判定部１０１２や倍率補正部１０１４、歪曲補正部１０１８、画像合成部１０１５及びそれら画像を動画形式で圧縮保存する記憶部１１１１を備える。 （もっと読む）

【課題】複数の光学式変位計を用い、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】チャック１０ａ，１０ｂを、ＸＹ方向へ移動及びθ方向へ回転する移動ステージに搭載する。複数の光学式変位計（レーザー変位計４２）によりチャック１０ａ，１０ｂの変位を複数箇所で測定し、移動ステージのθ方向の角度に応じて、光学式変位計毎に予め決定した補正値により、各光学式変位計の測定値を補正する。補正した測定値から、チャック１０ａ，１０ｂのθ方向の傾きを検出し、検出したチャック１０ａ，１０ｂのθ方向の傾きに応じて、移動ステージによりチャック１０ａ，１０ｂをθ方向へ回転して、基板１のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ドライ洗浄方法において、スループット向上し処理枚数を増やすことができるマスクドライ洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスクドライ洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い製造装置を提供することである。
【解決手段】本発明はレーザ光源から出射されるレーザ光をマスクに付着した付着蒸着材料に照射し該マスクを洗浄する際に、前記レーザ光を円形状から楕円形状に変更し、該楕円形状のレーザ光を前記マスクの前記付着蒸着材料に照射し洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】周囲の機器の配置に制限されることなく容易に装着可能であり、且つ、製造コストが比較的安いマイクロ流路チップを提供する。
【解決手段】マイクロ流路チップは、凹部を有する基板ホルダと、該基板ホルダの凹部に装着された反応基板と、該基板ホルダ及び前記反応基板を覆うように配置された第１のシートと、該第１のシートを覆うように配置された第２のシートと、を有する。反応基板は、前記反応チャンバに露出している第１の面と、前記基板ホルダの凹部に設けられた観察窓を介して外部に露出している第２の面と、を有し、前記反応基板の第１の面には微細構造からなる反応スポットが形成されており、該反応スポットは前記反応チャンバに露出されている。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板の局所的な除去加工を行うことで招く基板の脆弱化を回避しつつ、フォトリソグラフィー技術などの高価でスループットの遅いプロセスを用いずに、高効率の太陽電池を提供する。
【解決手段】基板を準備する工程（ステップＳ１０１）と、基板表面に、柔軟性を有する転写層を形成する工程（ステップＳ１２１）を有する。また、転写層上に凹凸形状が形成されたモールドを押し付け、転写層に凹凸形状を転写し、基板表面に光の反射率を低下させるための凹凸部を形成する工程（ステップＳ１２２）を有する。これにより、基板自体を加工することなく、基板上に形成された転写層に光反射率を低減するための凹凸部を形成することができる。 （もっと読む）