溶融金属を脱ガスするために、溶融金属と溶融金属上のスラグ層とを収容する容器が、チャンバ内に設置され、チャンバが排気される。チャンバ内の圧力が減少すると、溶融金属とスラグとの間の界面でガスが発生し、スラグを発泡させる。容器からスラグが溢れ出るのを抑制するために、ゲージが、スラグ面の高さを示す信号を出力し、チャンバの排気速度が減少されて、ガスの発生速度を減じる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スクロール型ポンプ装置を提供する。
【解決手段】本発明のスクロール型ポンプ装置は、端板を有し、第１の螺旋ラップ（１１８）が端板から延びている固定スクロール部材（１０６）を含む固定子（１０４）と、端板を有し、第２の螺旋ラップ（１２０）が端板から延びて上記第１の螺旋ラップと互いに噛み合っている旋回スクロール部材（１０８）と、を含む。モータは、固定スクロール部材（１０６）に対する旋回スクロール部材の旋回運動を発生させるための駆動軸を駆動する。装置は、駆動軸の回りに配列された複数の可撓性ロッド（１２２）を含み、各可撓性ロッドは、一端が上記旋回スクロール部材（１０８）に連結され、他端が上記固定子（１０４）に連結され、上記旋回スクロール部材（１０８）を上記固定子に対して支持しかつ固定子に対する旋回スクロール部材の回転を阻止する。 （もっと読む）

【課題】極紫外（ＥＵＶ）放射線を反射する光学システムに使用される多層ミラーの保護およびフォトリソグラフィチャンバ内に伝達されるＥＵＶが通る表面の保護を行う方法および装置を提供することにある。
【解決手段】ＥＵＶ放射線は、ＥＵＶ放射線および荷電粒子の両方を放出するプラズマから発生される。チャンバには有機分子が供給され、該有機分子はＥＵＶ放射線と相互作用して、ミラー表面上に炭質デポジットのコーティングを形成する。プラズマから放出された荷電粒子はデポジットと衝突して、ミラー表面からデポジットをスパッタリングする。ミラー表面上へのデポジットのデポジション速度およびミラー表面からのデポジットの除去速度の少なくとも一方を制御することにより、コーティングの厚さが能動的に制御され、ミラー表面上への荷電粒子の直接衝突が防止されかつコーティングの形成によるミラー表面の反射率の低下を最小限にすることができる。 （もっと読む）

本発明による真空ポンプ(100)は、長手方向軸線(107)周りに延びる環状ポンプチャンバ(112,114,116)を備えたポンプ機構を有する。流体は、ポンプ機構によってり環状ポンプチャンバ(112,114,116)の中を通ってポンプ送りされる。ポンプ機構から離れて位置するプレナム(126)が、ポンプ機構によってポンプ送りすべき流体を受け入れる入口(128)と、長手方向軸線(107)周りに配置され且つ流体を環状ポンプチャンバ(114,116)に供給する複数個の出口(132)とを有している。
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本発明によるポンプ装置は、複合ポンプ(100)を有し、複合ポンプ(100)は、第１チャンバ(10)に連結された第１入口(130)と、第２チャンバ(14)に連結された第２入口(132)と、第１ポンプセクション(106)と、その下流側に位置する第２のポンプセクション(108)とを有する。複合ポンプ(100)に第１入口(130)から入った流体は、第１及び第２ポンプセクション(106,108)を通り、第２入口(132)から入った流体は、第２ポンプセクション(108)だけを通る。ポンプ装置は、更に、第３チャンバ(11)に連結されたブースタポンプ(140)と、それに連結されたバッキングポンプ(142)とを有し、これらのポンプのいずれかに、複合ポンプ(100)から排出された流体を移動させる。
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