電気的特性及び光学的特性の両方によって、電気光学デバイス５２を高速で検査及び選別するための改善された方法及び装置を開示する。電気光学デバイス５２、特に発光ダイオードは、ダイシングデバイス１４によってダイシングされ、線形トラック１２に移送され、ここで、電気的特性及び光学的特性が検査（２０）される。そして、デバイスは、検査された特性に応じて、多数の異なるビン２４に選別（２６）される。 （もっと読む）

ガラス８等の脆性材料内の特徴形状をレーザマシニングするための改善された方法を提供し、ここでは、特徴形状に関連するツール経路１０を分析し、隣接しないレーザパルス１２を用いて、特徴形状をレーザマシニングするために、何回の通過が必要であるかを判定する。後続する通過の間に適用されるレーザパルス１２は、所定の重複量だけ前のレーザスポット箇所に重複するように位置決めされる。これによって、どの単一のスポットも、前のパルス箇所に隣接して適用される直後のレーザパルス１２が引き起こす過度なレーザ放射を受けることがない。 （もっと読む）

【課題】短い行程を精密に案内する短行程ステージ用たわみガイド軸受を提供する。
【解決手段】ビーム軸に沿いかつレンズを透過して伝播して、支持部に置かれた目標試料の作業表面にレーザビームが入射するレーザ加工システム。レンズはレーザビームの焦域を形成する。支持部は、レーザビームと目標試料を互いに対して作業表面の選択した位置に移動させる多軸位置決めシステムに動作可能に接続されている。アッセンブリは、レンズを支持し、輸送力に応じて、ビーム軸に沿ってレンズの移動を案内して作業表面に対してレーザビームの焦域を調節する少なくとも１つのたわみ部を有している。 （もっと読む）

【課題】複数の電子部品を支持するキャリアプレートを提供する。
【解決手段】処理時に、電子部品を支持するキャリアプレートは、電子部品を支持する六角形状に配置された穴を有している。穴の壁部は把持弾性材料を備えている。六角形状の配置にすることで、バッチ処理毎に増大させて製品歩留まりを向上させ、従来のキャリアプレートに対し位置精度が向上した高強度の親板を提供する。 （もっと読む）

レーザ処理システムは、選択的に整形されたバースト包絡線を有する超高速レーザパルスのバーストを供給する。バーストパルスレーザは、列中の各パルスが独立して制御された振幅を有するパルスの列を送り出すために高い繰返し率の超高速レーザを含む。群の中の各超高速パルスのそれぞれの振幅は「バースト包絡線」を規定する。バースト包絡線内の各超高速パルスの振幅を独立して制御することに加えて、このシステムは、各超高速パルス間の間隔、及び/又はバースト包絡線の全時間幅の選択的制御を行うこともできる。したがって、このシステムは、特定のレーザ処理用途のためにバースト包絡線の選択的整形を行う。 （もっと読む）

密集パターンで配置された被加工形状（１８）の高スループットレーザ加工を実現する方法は、被加工形状の加工中にレーザビームを方向付けるレーザビーム位置決め器と光学素子に対する動的熱負荷によって生じる被加工形状の加工精度と品質の劣化を最小化する。望ましい実施形態は、音響光学ビーム偏向器（ＡＯＤ）タイプまたは電気光学偏向器（ＥＯＤ）タイプのゼロ慣性光学偏向器と、ガルバノメータヘッド（３０）と、被加工形状の間でレーザビーム（１６）を位置決めするため協調動作するリニアステージ（３４）と、を備えるレーザビーム位置決めシステム（３２）を用いて実装される。 （もっと読む）

磁力によって浮上する一体式ステージ位置決めシステムは、３相リニアモータと、一体式ステージに接続され、強磁性体ベースと相互作用するコイル巻線とを含む。３相リニアモータを励起して、Ｘ軸方向の動き、Ｙ軸方向の動き及びＺ軸を軸にした回転を提供できる。一体式ステージは、空気軸受上で浮上する。一体式ステージに接続された複数のコイル巻線は、磁力によって空気軸受に予圧を加える役割を果たすことができる。複数のコイル巻線を励起して、Ｚ軸方向の動き、並びにＸ軸及びＹ軸を軸にする一体式ステージの回転を提供してもよい。 （もっと読む）

ガラスまたはガラス類似材料６２をレーザ（６２）加工する、レーザ加工プロセスが開示される。このプロセスは、１回の製造作業で、面取りされた端部９６を有するように、物品６０を加工する。ガラスまたはガラス類似材料６２における面取りされた端部９６は、望ましい。これは、破砕やチップに対する耐久性があり、尖った端部を除去できるからである。１回の製造作業で面取り（９６）された物品６０を生成することは、望ましい。これは、物品をレーザ（７２）加工後に面取り（９６）する分離装置へ運ぶ必要がなくなり、時間と費用を節約できるからである。これに代えて、より低コストな装置を用いることもできる。これは、面取り（９６）を実施するための別のプロセスを設けることに代えて、同じレーザ７２を加工に用いて面取り９６を形成できるからである。 （もっと読む）

プログラマブルレーザパルス(126)は、所定のパルス波形のレーザパルスを形成するためにパルス周波数の電気変調とパルス波形の光変調とを組み合わせる。所定のパルス波形は高いピークパワー及び低い平均パワーを特徴とする。開示されるレーザシステム(90)は、さらに、パワースケーリング(102)と、他の(より短い又はより長い)波長への非線形変換(104)とを可能にする。このシステムは、様々な波長での整形パルスを達成するために、高い繰返し率をもつレーザ源の使用に代わる経済的で高信頼の代替を提供する。開示される組合せ方式は既存の減法方法よりも本質的に効率的である。 （もっと読む）

レーザ処理システムは、被加工物に対してビーム送達座標を整列させるビーム位置決めシステムを含む。ビーム位置決めシステムは、この整列に対応する位置データを生成する。また、システムは、パルスレーザ光源と、パルスレーザ光源からレーザパルスを受け取るビームレット生成モジュールとを含む。ビームレット生成モジュールは、レーザパルスからビームレットアレイを生成する。ビームレットアレイは、複数のビームレットパルスを含む。システムは、更に、ビームレットアレイ内の各ビームレットパルスの振幅を選択的に変調するビームレット変調器と、変調されたビームレットアレイを、位置データに対応する被加工物上の箇所の１つ以上の標的に集光するビームレット送達光学素子とを備える。 （もっと読む）