【課題】半導体製品の製造などの用途に用いるための、加圧ガスを貯蔵及び送出するシステムを提供する。
【解決手段】ガスを所望の圧力で保持するための容器（１０２）を備えるガス貯蔵送出システム（１００）を開示する。容器（１０２）は、その容積内部にガス圧レギュレータ（１３２）を具有し、送出するガスの圧力をレギュレータ（１３２）の設定値により決定された所望の圧力に維持する。第二のガス圧レギュレータ（２６０）を、第一のガス圧レギュレータ（２４２）に直列に接合して、ガス流を連通させることができる。このとき、送出されるガスは、第一のガス圧レギュレータを通過する前に、第二のガス圧レギュレータ（２６０）にまず進入し、第二のガス圧レギュレータの圧力設定値は、第一のガス圧レギュレータが有する圧力設定値の少なくとも２倍である。 （もっと読む）

【課題】産業又は商業に使用するために複数成分の配合物を提供する状況で、原料物質の浪費を回避し、構成成分保存及び／又は分配構成部品を洗浄する必要性を最小化しながら、所望のプロセスに多種多様な配合物を迅速に提供する。
【解決手段】流体を含む供給材料をプロセス機器に送出するシステム及び方法を開示する。ライナとオーバーパックの間に真空を適用することにより、ライナ系圧力分配槽を充填する。１つの供給材料に対して、較正済み流量範囲が異なる複数の供給材料流量制御器が、選択的に並列に動作することができる。複数のライナ系圧力分配容器から供給材料を供給する状態で、拡大のための供給材料の調合及び検査を実行することができる。重量測定システムを使用して、複数成分の溶液又は混合物の少なくとも１つの成分の濃度を求めることができる。 （もっと読む）

【課題】半導体製造等の工業プロセスにおけるガス分配のための装置および方法を提供すること。
【解決手段】ガスマニホルド（１２６）と選択的なフロー関係で結合されたガスソース（１０２）を使用してガスを分配するための装置および方法。ガスを使用するゾーンにガスを放出するためのフロー回路（１１０）を含むガスマニホルド（１２６）、およびガスソース（１２６）は、過圧のガスを含む圧力調整式ガスソース容器（１２６）を含む。 （もっと読む）

【課題】 ジルコニウム含有膜の原子層堆積に有用なジルコニウム前駆体を提供する。
【解決手段】 式


で示されるジルコニウム前駆体。そのような前駆体は、室温で液体であり、ジルコニウム含有膜、たとえば高κ誘電体膜をマイクロ電子デバイス基板上に形成するためのＡＬＤなどの気相堆積プロセスで利用されうる。ジルコニウム前駆体は、熱安定化用アミン添加剤によりそのような気相堆積プロセスにおいて安定化されうる。 （もっと読む）

【課題】確実な読み取りシステムを提供する。
【解決手段】塗布に使用される材料を収容する容器のための確実な読み取りシステム（ＳＲＳ）を開示する。材料に関する情報を記憶する情報記憶メカニズムを有する容器を提供する。読み取り装置を有するＳＲＳのコネクタを設けて、容器に物理的に結合して、そこから定期的に情報を読み取る。コネクタは物理的に容器に結合するように構成されるとともに読み取りと同時に容器から材料を抜き出すことができる。 （もっと読む）

【課題】
当技術分野は、ルテニウム含有フィルムの蒸気相形成のための改善された組成物を求めている。
【解決手段】
ルテニウム堆積の速度及び程度をそのような補助金属種の不存在下でのルテニウムの堆積に比較して増大させる補助金属種と共にルテニウムを堆積させることを含む、蒸着プロセスでルテニウム含有フィルムを形成する方法。そのような方法を実施するために有用な実例となる前駆物質組成物は、ルテニウム前駆物質及びストロンチウム前駆物質を溶媒媒質中に含み、組成物中において、ルテニウム及びストロンチウムが互いに共堆積されるように、ルテニウム前駆物質及びストロンチウム前駆物質のうちの一方が他方の前駆物質の中心金属原子に配位する側鎖官能基を含む。 （もっと読む）

イオンインプランテーションシステムまたはその部材のクリーングおよび、カソードバイアス電力をモニタし、カソードをエッチングまたは再生させるための比較値に依存する修正処置による、イオンインプランテーションシステムのための間接加熱カソードのカソードの成長／エッチングを可能にする反応性クリーニング剤を提供する。 （もっと読む）

表面から高分子材料を除去する、好ましくは、リソグラフ装置を完全には分解しないでリソグラフ装置から汚染物質の蓄積を清浄化する組成物および前記組成物の使用方法。 （もっと読む）

【課題】固体および／または液体ケミカルソースを効率的に蒸発させる蒸発器システム及び方法を提供する。
【解決手段】可蒸発ソース材料を保持するための複数の垂直に積重された容器２２を備え、半導体製造プロセスで用いるための蒸発器配送システム。垂直に積重された容器２２のそれぞれが、各積重された容器２２の内部へ延伸する複数の孔付き突出部３０を備え、それによって、近接し垂直に積重された容器間に、キャリヤガスが通過するための通路。 （もっと読む）

【課題】低ｋ誘電体材料又は銅相互接続材料を損なわずに、マイクロ電子デバイスの表面からのＣＭＰ後の残渣及び汚染物質材料を効果的に洗浄を達成すること。
【解決手段】化学的機械的研磨（ＣＭＰ）後の残渣及び汚染物質を、自身上に前記残渣及び汚染物質を有するマイクロ電子デバイスから洗浄する洗浄組成物及びプロセス。洗浄組成物は新規の腐食防止剤を含む。 （もっと読む）