プラズマエッチング後残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記残留物を洗浄するための洗浄組成物および方法。組成物は、チタン含有、銅含有、タングステン含有、および／またはコバルト含有のエッチング後残留物を含む残留材料の、マイクロ電子デバイスからの非常に有効な洗浄を達成するが、同時に、マイクロ電子デバイス上に同様に存在する層間誘電体、金属相互接続材料、および／またはキャッピング層に損傷を与えない。さらに、組成物は、窒化チタン層をその上に有するマイクロ電子デバイスからそれを除去するためにも有用であり得る。 （もっと読む）

窒化ケイ素材料をその上に有するマイクロ電子デバイスから、ポリシリコン、酸化ケイ素材料および／またはシリサイド材料に対して窒化ケイ素材料を選択的に除去するために有用な組成物。除去組成物は、フルオロケイ酸、ケイ酸、および少なくとも１種の有機溶媒を含む。典型的な工程温度は約１００℃よりも低く、窒化物対酸化物のエッチングの典型的な選択性は、約２００：１〜約２０００：１である。典型的な工程条件下では、ニッケルベースのシリサイドならびに窒化チタンおよびタンタルはあまり影響を受けず、ポリシリコンのエッチング速度は約１Å分^−１未満である。
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対応する金属含有薄膜のＣＶＤ／ＡＬＤに有用なアンチモン、ゲルマニウム、およびテルル前駆体、ならびに該前駆体を含む組成物、該前駆体を作製する方法、ならびに該前駆体を使用して製造される膜およびマイクロ電子デバイス製品、さらに対応する製造方法が記載される。本発明の前駆体は、ゲルマニウム−アンチモン−テルル（ＧＳＴ）膜、および該膜を含む相変化メモリデバイス等のマイクロ電子デバイス製品の形成に有用である。
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【課題】キャッピング層及び絶縁層のマイクロ電子デバイスからの除去に関する改良された組成物を提供する。
【解決手段】シリコン含有層を、かかる層をその上に有するマイクロ電子デバイスから除去する除去組成物及び方法を開示する。除去組成物は、次のものに限定されないが、シリコン酸化物、プラズマエンハンスド・テトラエチルオルソシリケート（Ｐ−ＴＥＯＳ）、ボロホスホシリケートガラス（ＢＰＳＧ）、プラズマエンハンスド酸化物（ＰＥＯＸ）、高密度プラズマ酸化物（ＨＤＰ）、ホスホシリケートガラス（ＰＳＧ）、スピンオン誘電体（ＳＯＤ）、熱酸化物、アップドープされたシリケートガラス、犠牲酸化物類、シリコン含有有機ポリマー類、シリコン含有ハイブリッド有機／無機材料類、有機シリケートガラス（ＯＳＧ）、ＴＥＯＳ、フッ素化シリケートガラス（ＦＳＧ）、半球状グレイン（ＨＳＱ）、炭素ドープされた酸化物（ＣＤＯ）ガラス、及びこれらの組み合わせを含む総を、下部電極、デバイス基板、及び／又はエッチストップ層の材料に対して、選択的に除去する。 （もっと読む）

【課題】レジストアッシング工程に続いて残留物を効果的に除去する化学処方物であって、ウエハ上に残ることになる脆い構造を攻撃せずかつ分解するおそれのないものを提供すること。
【解決手段】以下に示した重量パーセント範囲で、以下の成分を含有する、プラズマアッシング後の半導体製造で使用する半導体ウエハ洗浄処方物：フッ化アンモニウムおよび/またはそれらの誘導体１〜21％；有機アミンまたは２種のアミンの混合物20〜55％；水23〜50％；金属キレート化剤またはキレート化剤の混合物０〜21％。 （もっと読む）

対応のソース試薬蒸気中に粒子を生成または存在させやすいソース試薬を気化させる装置および方法であって、かかる粒子生成または存在は、当該蒸気生成システムの構造的または処理特徴部により抑制される。かかる装置および方法は、液体および固体ソース試薬、特に、固体ソース試薬、例えば、塩化ハフニウム等の金属ハロゲン化物に適用可能である。一実施形態におけるソース試薬は、ソース試薬材料の多孔質モノリシックバルク形態により構成されている。本発明の装置および方法を有効に用いると、原子層蒸着（ＡＬＤ）およびイオン注入等の用途向けのソース試薬蒸気が提供される。
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【課題】多種類の半導体ガスの貯蔵、供給装置を低圧で小型化する。
【解決手段】直方体形状の流体貯蔵・計量分配容器を含む流体貯蔵・計量分配装置及び、こうした流体貯蔵・計量分配装置および／または使用時換気ガス清浄器を、換気されたガスキャビネット内に含む一体型ガスキャビネットアセンブリを開示する。たとえば、ガスキャビネットから供給された処理ガスが、有毒又は有害な特性のものである場合、ガスキャビネットは、物理的吸着剤及び化学吸着媒体の使用によって、運転の安全面で強化されることが可能である。 （もっと読む）

【課題】情報記憶とくに電子情報記憶を利用して材料貯蔵・分配槽およびその内容物を管理および利用するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】材料管理システムおよびその方法は、情報（たとえば電子情報）記憶を有する材料貯蔵槽を含む。記憶デバイスからプロセスツールコントローラーに情報を通信して、プロセスツール操作パラメータを設定または調整するために利用することが可能である。遠隔分析により材料情報を決定し、続いて、そのような材料の入った槽の電子情報記憶デバイスに通信することが可能である。材料固有の情報のさらなる転送を併行して行いながら、顧客設備内の材料貯蔵槽の位置および移動を自動追跡することが可能である。製品製造に利用された材料固有の情報と共に製品情報を関連付けて記憶することが可能である。 （もっと読む）

【課題】流体を利用するツール、プロセス又は位置に流体材料を供給するのに有用な分配システムを提供する。
【解決手段】液体と気体又は蒸気状態が同時に存在する多種多様な材料を、好ましくは流体を収容した折り畳み可能なライナーを含むパッケージから送出するためのシステムについて記載する。圧力分配パッケージから液体を分配する前に、そこからヘッドスペースガスを除去し、その後の分配動作中に進入気体を除去する。少なくとも１つのセンサが、リザーバ内の気体又は気液界面、又は気体と液体の分離領域の存在を感知する。容器から分配されている液体から気体を非常に効率的に除去するために、一体リザーバと、少なくとも１つのセンサと、少なくとも１つの流量制御要素と、を含む気体除去システムを、圧力分配パッケージと嵌合するように適合されたコネクタ内に含むことができる。 （もっと読む）

容器ライナーは、その部分に沿って接着され少なくとも１つの周辺シームを形成する少なくとも１つのシートを含み、少なくとも１つのシートは、少なくともその周辺部分に沿って接着された第１のフルオロポリマー層、バリヤー・フィルム層、および第３の層を包含する。このような層のいずれも、周辺が接着してその間にギャップもしくはポケットが形成されていてもよく、または実質的にその全体の大部分の表面に沿って接着されていてもよい。そうでなければ異なる表面エネルギーを有する材料の接着を容易にするために、表面改質を用いることができる。このように得られたライナーは、例えば、ライナーをオーバーパック内に入れ、ライナーを徐々にコンパクトにするためにライナーとオーバーパックとの間の空間に加圧ガスを加え、その内容物を分配することによって、高純度化学試薬を保管し分配するために適合される。
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