【課題】電極取り出し部のように広い面積を有する部分の強度を上げるようにすることにより、基板加工中の割れを防いで歩留まりを向上させ、さらに電極取り出し部をドライエッチングで開口するに際して、治具の形状、サイズ等による制約を受けることなく加工精度を向上させることができる液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出ヘッドの製造方法において、電極基板２と接合前のシリコン基板１００の接合面側の電極取り出し部２６に対応する部分にボロン拡散層１０２ａを選択的に厚く形成し、シリコン基板を電極基板に接合し薄板化した後、シリコン基板にウェットエッチングを施して凹部２６ｃを形成し、電極取り出し部以外を開口したマスク部材を使用してシリコン基板にＳｉＯ₂膜１０５を形成し、ＳｉＯ₂膜が形成されていない電極取り出し部の凹部の底部をドライエッチングにより除去して開口する。 （もっと読む）

【課題】応答性がよく、かつ低駆動電圧の静電アクチュエータ、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び静電駆動デバイス並びにそれらの製造方法を得る。
【解決手段】板状の可動電極である振動板２２と、振動板２２と対向し、長辺方向について、振動板２２に対して段又は傾斜を有するように形成された矩形状の固定電極となる個別電極１２とを備え、振動板２２は、個別電極１２Ａとの間に発生する静電引力により個別電極１２Ａに当接する順に合わせて板厚が薄くなっている。 （もっと読む）

【課題】 完全に目が詰まることがなく、かつ、目が細かいフィルターを持っていて、高い信頼性を有していながら、流抵抗の増大によるスループットの低下が少ない記録ヘッドを提案すること。
【解決手段】 基板の供給口から各々の吐出圧力発生素子の手前までが掘り込まれている彫込み流路のヘッドであって、彫込みの上に複数の孔またはスリットが開けられたフィルター層が被さっている構成とする。
製造方法としては、フィルター層に開けられた孔またはスリットから等方エッチャントを導入して、基板に彫込みを形成する。 （もっと読む）

【課題】製造工程を簡略化してコストを低減した液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板からな流路形成基板と、前記流路形成基板の一方面側に接合されたリザーバ形成基板３０とを具備する液体噴射ヘッドの製造方法であって、リザーバ形成基板３０の流路形成基板に接合される一方面とは反対側の他方面に、少なくともリザーバ部が開口する領域を覆う防壁膜１３１を形成する工程と、リザーバ形成基板３０にリザーバ部３１を形成する工程と、流路形成基板の一方面にリザーバ形成基板３０を接合する工程と、流路形成基板の他方面側からウェットエッチングすることにより、圧力発生室及び連通部を形成する工程と、防壁膜１３１を除去する工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】安価で精密な液体吐出ヘッドの吐出素子チップを製造する。
【解決手段】シリコン基板からなる基板材料１１上に電気熱変換素子２、流路形成部材６等を形成し、基板材料１１の裏面側をウエットエッチングによって薄加工し、厚みの小さい基板１を形成する。次いで、基板１の裏面にマスクを形成し、マスクのパターン開口から基板１１に異方性エッチングを施して供給口となる部分のシリコンを除去し、流路形成部材６内の流路パターンＲを除去することで、流路を形成する。基板材料１１の薄加工にウエットエッチングを用いることで、基板面の汚染や変形を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】異物によるノズル詰まり等の吐出不良を確実に防止することができる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】流路形成基板の一方面側に振動板を介して圧電素子を形成する工程と、連通部となる領域の振動板を除去して貫通部を形成する工程と、密着層と金属層とで構成されるリード電極を形成すると共に密着層と金属層とからなりリード電極とは不連続の配線層で貫通部を封止する工程と、リザーバ形成基板を流路形成基板に接合する工程と、流路形成基板をウェットエッチングして液体流路を形成する工程と、配線層を構成する密着層及び金属層を順次ウェットエッチングすることによって除去してリザーバ部と連通部とを連通させる工程とを具備し、且つ振動板に貫通部を形成する際、貫通部の少なくとも一部を構成し、弾性膜の表面に対して傾斜すると共に内面の一部に弾性膜の表面に対する傾斜角度が４５°以上である急傾斜部を有する貫通孔を形成する。 （もっと読む）

【課題】ノズルの高密度化を可能にし、かつノズル間の圧力干渉を防止することができる液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法等を提供することを目的とする。
【解決手段】液滴吐出ヘッド１０は、ノズル基板１と、吐出室３１を有するキャビティ基板３と、リザーバ２３を有するリザーバ基板２とを少なくとも備え、リザーバ２３の壁の一部に圧力変動を緩衝する樹脂薄膜１１１を備えたダイアフラム部１００を設けたものである。
また、液滴吐出ヘッド１０の製造方法は、シリコン基材２００の一方の面からダイアフラム部になる部分１００ａを所要の深さエッチングし、その後、シリコン基材２００の反対側の面からリザーバになる部分２３ａをウェットエッチングにより加工して、ダイアフラム部１００を形成するようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】ノズルの高密度化を可能にし、かつノズル間の圧力干渉を防止できる液滴吐出ヘッド及びその製造方法などを提供すること。
【解決手段】複数のノズル孔１１を有したノズル基板１と、複数の吐出室３１を有し、該吐出室３１の圧力変動を利用して各吐出室３１に対応したノズル孔１１から液滴を吐出させるキャビティ基板３と、吐出室３１と連通し、吐出室３１に供給する液体を貯えるリザーバ２３を有したリザーバ基板２とを備え、リザーバ基板２はその表裏面が面方位１００のシリコン基板からなり、リザーバ２３を構成する側壁２５が、シリコン基板を両面からエッチングして得られた面方位１１１の傾斜壁からなるダイアフラムとなっている。 （もっと読む）

【課題】インク供給孔などの貫通孔を加工形成した後のガラス基板に電極を形成して電極基板とする際に、貫通孔の加工に起因するチッピングを残さない電極基板の製造方法を提案する。
【解決手段】ガラス基板２ａにインク供給孔２３を貫通させた後、インク供給孔２３を含んだガラス基板２ａの片面にエッチング保護膜５１と、ドライフィルムレジスト７１とを順に積層するステップと、フォトリソグラフィーによってエッチング保護膜５１を形成しようとする溝形状に合わせてパターニングするステップと、エッチング保護膜５１がパターニングされたガラス基板２ａをインク供給孔２３を含めてエッチング液に浸しガラス基板２ａの表面に溝２１を形成するステップと、ガラス基板２ａに導電材を成膜して溝２１に電極２２を形成するステップとを備えた電極基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】インク吐出効率の優れたインクジェットヘッドを得ることを目的とする。
【解決手段】流路部材１６に接合材１４を介して固定され、圧力室２を形成する複数の区画壁２ａと、複数の区画壁２ａ上に固定され振動板および第１の電極としての振動板兼共通電極１１と、振動板兼共通電極１１上に形成された圧電体膜１０と、圧電体膜１０上に形成された第２の電極３と、を備え、振動板兼共通電極１１と第２の電極３との間に所定の電圧が印加されることにより、圧力室２の容積を変化させる方向に圧電体膜１０を変位させるインクジェットヘッドであって、複数の区画壁２ａはそれぞれ段差部２ｂを有している。接合材１４が圧力室２にはみ出したとしても、このはみ出した接合材１４は区画壁２ａの段差部２ｂで止まり、振動板兼共通電極１１には到達していない構成とする。 （もっと読む）

【課題】所望のノズル形状を形成することができるノズル基板の製造方法を得、さらにそのノズル基板に基づく液滴吐出ヘッドの製造方法を得る。
【解決手段】シリコン基板の一方の面側からノズル供給口３１Ａ−１を開口するとともに、ノズル３１（第１ノズル３１Ａ、第２ノズル３１Ｂ）となる凹部を形成する工程と、ノズル３１となる凹部を形成した面と反対側の面から異方性ドライエッチングによるエッチングを行って凹部に穴を空け、ノズル吐出口３１Ｂ−１を開口する工程とを有するものである。 （もっと読む）

【課題】圧電素子の変位特性を均一化した液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】液体を噴射するノズル開口に連通する圧力発生室が形成される流路形成基板１０の一方面側に下電極６０、圧電体層７０及び上電極８０からなる圧電素子３００を形成する工程と、前記圧電素子３００の外周面に無機絶縁材料からなる第１の保護膜１０１を形成する工程と、前記第１の保護膜１０１の前記圧電素子３００の上面の主要部に相対向する領域を前記上電極８０に達するまで除去して開口部１０１ａを形成する工程と、前記開口部１０１ａを含む前記圧電素子３００の外周面に相対向する領域に第２の保護膜１０２を形成することにより、前記第１の保護膜１０１及び前記第２の保護膜１０２からなる保護膜１００を形成すると共に該保護膜１００の前記圧電素子３００の上面の主要部に相対向する領域に他の領域よりも膜厚の薄い薄膜部１０３を形成する工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】短時間で加工可能かつ加工精度の高い圧電型液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】圧電体１６にマイクロクラック３２が存在することにより、圧電体１６を除去すべき部分である凸部１３と周囲の圧電体１６との間にエッチャントが侵入する。このためエッチングの初期からパターン分離が良好に促進され、早めにエッチングを停止しても問題が発生しにくい。マイクロクラック３２部は下部電極１４と圧電体１６との界面にエッチャントが侵入することでエッチングが促進されるので、Ｄｒｙエッチングよりもマイクロクラック３２内部に薬液が回りこむＷｅｔエッチングのほうがより効果が大きい。このことを利用し、圧電素子の加工寸法を下部電極１４の段差部３４で規定することで、圧電体１６を除去したい部分を容易にエッチングし、かつ加工精度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】異物によるノズル詰まり等の吐出不良を確実に防止することができる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】流路形成基板の一方面側に振動板を介して圧電素子３００を形成すると共に振動板を除去して貫通部５２を形成する工程と、リード電極９０を形成すると共にリード電極とは不連続の配線層１９０で貫通部を封止する工程と、リザーバ形成基板１３０を流路形成基板１１０の一方面側に接合する工程と、流路形成基板をウェットエッチングして液体流路を形成する工程と、液体流路の内面に保護膜１５及び剥離層１６を形成し且つ少なくとも保護層にレーザ加工によって配線層との境界面に達する亀裂を生じさせる工程と、剥離層をウェットエッチングによって除去すると同時に配線層上の保護膜を選択的に除去する工程と、配線層を除去してリザーバ部と連通部とを連通させる工程とを具備するようにする。 （もっと読む）

【課題】水、有機溶剤、または油などの液体において撥液性を示す撥液増大構造体、およびこの撥液増大構造体を安価かつ大量に製造することができる製造方法を提供することにある。また、水、有機溶剤、または油などを安定して吐出させることができる液体吐出ヘッドを提供することにある。さらに、汚れを防止する保護フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の撥液性構造体は、支持体と、有機化合物を溶解した有機溶媒溶液を支持体上に塗布し、この支持体を水蒸気雰囲気中に置き、有機溶媒溶液の表面に液滴を形成させた後、有機溶媒および液滴を蒸発させて形成されたハニカム構造膜と、ハニカム構造膜の表面に形成されたフッ素を含む材料からなるコーティング膜とを有する。 （もっと読む）

【課題】優れた密着性を有する積層電極の製造方法、アクチュエータ装置及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドを提供する。
【解決手段】基板１１０、弾性膜５０、絶縁体膜５５上に密着性金属からなる密着層６１を形成すると共に密着層６１上に導体層６２を積層して積層電極からなる下電極６０を形成し、下電極６０上に圧電体層７０、上電極８０を積層して圧電素子３００を形成する工程と、密着層の端面を含む表面が露出した状態でウェットエッチングによりパターン形成を行う成膜プロセスによって基板上に所定の機能性膜を形成する工程とを有し、機能性膜を形成する工程前に、露出した前記密着層の端面を含む表面に絶縁化処理を施し、絶縁処理膜６３を形成する。 （もっと読む）

【課題】優れた圧電特性を得ることができる圧電素子の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１０上に下電極６０を形成する工程と、前記下電極６０上に圧電材料からなる圧電体前駆体膜７１を形成して、該圧電体前駆体膜７１を焼成して結晶化させた圧電体膜７２からなる圧電体層７０を形成する工程と、前記圧電体層７０上に上電極を形成する工程とを具備し、前記下電極６０を形成する工程では、最下層に密着層６１を形成する工程と、白金からなる白金層６２をＸ線回折広角法による（１１１）面半価幅が０．４６度以上で形成する工程と、最上層に拡散防止層６３を形成する工程とを有し、且つ前記圧電体層７０を形成する工程では、前記圧電体前駆体膜７１を昇温レート５０℃／ｓｅｃ以上で焼成する。 （もっと読む）

【課題】圧電体層の特性を向上でき且つ圧電体層の特性を均一化できる圧電素子の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１０上に下電極６０を形成する工程と、前記下電極６０上に厚さが３．５〜５．５ｎｍの種チタン層６４を形成する工程と、前記種チタン層６４上に圧電材料からなる圧電体前駆体膜７１を形成すると共に該圧電体前駆体膜７１を昇温レートが５０℃／ｓｅｃ以上で焼成して結晶化させた圧電体膜７２からなる圧電体層７０を形成する工程と、前記圧電体層７０上に上電極を形成する工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】シリコン基材を薄板化加工する際に破損させずに加工し、しかもノズル孔先端の稜線部に樹脂残渣等が残ることがない液滴吐出ヘッドの製造方法等を提供する。
【解決手段】２段形状で連通したノズル孔１１をエッチング加工によってシリコン基材１００に形成する工程と、ノズル孔１１内にシリコン酸化膜５０を充填する工程と、シリコン基材１００の大径孔１１ｂ側の面に樹脂層６２を介して支持基板１２０を貼り合わせる工程と、シリコン基材１００の小径孔１１ａ側の面１００ｂを薄板化して小径孔１１ａの先端部を開口する工程と、充填されたシリコン酸化膜５０を除去する工程と、シリコン基材１００の小径孔１１ａ側の面１００ｂに酸化膜１０５、撥水膜１０６を成膜する工程と、支持基板１２０をシリコン基材１００より剥離する工程とを有するノズル基板１の製造方法を用いて、液滴吐出ヘッド１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜のパターン異常を防止し、基板を常に高精度に加工することができる基板加工方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】基板３０上に塗布したレジストを露光及び現像することで所定パターンのレジスト膜１３２を形成し、このレジスト膜をマスクとして前記基板をエッチングすることにより基板を所定形状に加工する際、基板上にレジストを塗布する前に、湿度が４０％以下のヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）１５１雰囲気中に基板を一定時間保持するＨＭＤＳ処理工程を実施する。 （もっと読む）