【課題】移動体の正確な速度を取得可能とする干渉計システム、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】移動体に固定され、第１光屈折率を有する第１導波部と、前記移動体に固定され、前記第１光屈折率とは異なる第２光屈折率を有する第２導波部と、前記第１導波部を通過した第１電磁波と、当該第１電磁波と同一波長を有し前記第２導波部を通過した第２電磁波とを干渉させる干渉部と、前記干渉部で生じる干渉波を用いて前記第１電磁波と前記第２電磁波との位相差を検出する検出装置と、検出された前記位相差を用いて前記移動体の移動速度に関する情報を取得する速度取得装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】
変調信号のフーリエ成分である基本波、２倍高調波の信号強度比から位相抽出を行うことにより、高周波ノイズの影響を無くすとともに信号強度変化による測定誤差を低減し高精度化することができ、実時間制御での利用が可能なディスパーション干渉計を提供する。
【解決手段】
ディスパーション干渉計の非線形結晶素子１０は、レーザ光（基本波Ｗ１）の一部を２倍高調波Ｗ２に変える。光弾性素子１２は、基本波Ｗ１に変調角周波数ω_ｍ分の位相変調を発生させる。非線形結晶素子１４はプラズマ３０を透過した基本波Ｗ１を２倍高調波Ｗ２に変える。波長選択フィルタ１６は２倍高調波Ｗ２を選択的に透過させる。干渉計は、干渉信号における変調角周波数ω_ｍの基本波成分と２倍高調波成分の強度比を求め、該強度比と、位相変化量に基づいて、プラズマ３０の物理量である線平均電子密度を算出する。 （もっと読む）

【課題】光ドップラ方式における長さ調整用ファイバが不要で、安価な汎用部品を用いた小型のシステム構成が可能な配管の厚み測定方法および装置を提供すること。
【解決手段】予め定められた周波数帯域内を掃引して出力する電磁石発振器３００と、測定対象物の動的歪みを検出する光ファイバセンサ２００とを一体化して有するアクティブセンサを用意し、前記アクティブセンサを前記測定対象物である配管１０に取付け、前記配管の厚み方向に０〜１０ＭＨｚの間の所望周波数に指定した超音波または振動を入力し、入力した超音波または振動の反射波またはその合成波を検出し、検出した超音波または振動信号における前記配管による共振を基に前記測定対象物の厚みを測定する、配管の厚み測定方法および装置。 （もっと読む）

【課題】透明な平行平板の厚みを非接触で高精度に測定し得るようにする。
【解決手段】コンピュータシミュレーションにより、測定用レンズ１と基準球面反射鏡７との間に、厚みが既知の模擬平行平板が配置された状態での模擬透過波面測定を行い、測定用レンズ１および模擬平行平板を透過してなる模擬透過波面の球面収差と模擬平行平板の厚みとの対応関係を求める。測定用レンズ１と基準球面反射鏡７との間に補正板６を配置し、測定用レンズ１および補正板６を透過してなる被検透過波面の球面収差を実際に測定し、その測定値と上記対応関係とに基づき、補正板６の厚みを算定する。 （もっと読む）

【課題】従来、分光器を用いて断層を計測する手法においては、離散フーリエ変換を用いていたため、断層の値は離散的な値しか表現できなかった。そのため、断層の計測精度の向上が求められていた。
【解決手段】本発明に係る断層像計測方法は、波数スペクトルから、層厚の光学距離に対応した情報を計算する第１の工程と、前記光学距離に対応した情報から、各層の情報を分離して抽出する第２の工程と、各層の情報をそれぞれ再度波数スペクトルに変換する第３の工程と、第３の工程の結果から干渉波数を求める第４の工程と、干渉波数と各層の光学距離とから干渉次数を算出する第５の工程と、干渉次数が整数であることを利用して各層の光学距離を計算する第６の工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 干渉光学系を移動するだけで位置決めができ、迅速に精度よく膜厚を測定することができる光干渉計及びそれを用いた膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】 波長スペクトルの狭い狭波長帯域をもつ狭波長帯域の光源１１から射出された光束は、光束分岐手段２０を経て光束分割合成手段３１に入射し、参照光路３０の光束は、参照鏡３４で反射し、光束分割合成手段３１に入射し、測定光路５０に分割された光束は、被検物６０の面で反射し、光束分割合成手段３１に入射し、光束分割合成手段３１で、参照光路３０の光束と測定光路５０の光束とが合成され、合成された光束は、光束分岐手段２０を経て光電変換手段７０に入射することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
フィゾー型干渉計の測定系で発生する波面収差の変化を抑制し、投影光学系の波面収差の計測精度の劣化を防止する露光装置を提供する。
【解決手段】
原版ステージに搭載され参照光を形成するフィゾー面を有する対物レンズ前群、前記対物レンズ前群より上流に位置する対物レンズ後群および基板ステージに搭載され被検光を形成する反射ミラーから成るフィゾー型干渉計と、原版ステージに構成される原版基準板のマークおよび基板ステージに構成される基板基準板のマークを投影光学系を介して同時に観察し、原版ステージと基板ステージの相対位置を計測し、原版基準板のマークより上流に位置する第３の対物レンズ群を有するＴＴＲ方式検出系と、を有し、投影光学系を介して原版のパターンを基板に投影露光する露光装置において、対物レンズ後群と、第３の対物レンズ群とが、原版ステージとは別に構成される同一の駆動テーブルに配置されている。 （もっと読む）

【課題】被検光学系（投影光学系）の波面収差を高精度に測定することができる測定装置を提供する。
【解決手段】被検光学系の波面収差を測定する測定装置であって、前記被検光学系の物体面側に配置され、光源からの光を被検光と参照光とに分離する光学素子と、前記被検光と前記参照光との位相差を変化させて複数の位相状態を生成する生成部と、前記被検光と前記参照光との位相差を変化させてフリンジスキャンを行うフリンジスキャン部と、前記生成部によって生成された前記複数の位相状態のそれぞれにおいて、予め決定された制御データに従って前記フリンジスキャン部でフリンジスキャンを行って、前記制御データに対する前記被検光と前記参照光との干渉パターンから導出される特徴量の非線形な変化を示す非線形誤差を決定する決定部と、前記決定部によって決定された前記非線形誤差に基づいて、前記被検光と前記参照光との干渉パターンから算出される前記被検光学系の波面収差を補正する補正部と、を有することを特徴とする測定装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】被測定体によって形成される光束の波面を高精度（例えば、高空間周波数のうねり成分まで）、且つ、短時間で測定することができる測定方法を提供する。
【解決手段】参照面を有する光学系と、検出面を有する検出部とを備え、前記光学系によって前記検出面に形成される被測定体又は基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出する測定装置を用いて、前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する測定方法であって、前記測定装置における位相伝達関数及びパワースペクトル密度を用いて、前記測定装置による測定結果から前記光学系に起因する波面誤差を分離する測定方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 光学素子を介して得られる干渉縞に不明瞭な部分がある場合でも、不明瞭の部分の透過波面を精度よく算出することができる波面計測方法及びそれを用いた波面計測装置を得ること。
【解決手段】 被検物を透過した光束の透過波面を算出する波面計測方法において、光束を被検物に第１の角度で入射させ、透過した光束を用いて形成した干渉縞画像から２次元位相画像を算出する位相算出工程と、該位相算出工程で算出された２次元位相画像から干渉度合の違いに基づいてマスクを生成するマスク生成工程と、被検物に光束を第１の角度と異なる第２の角度で入射させ、透過した透過波面を第１の角度における透過波面に合致するように変換する波面変換工程と、前記位相算出工程で算出された２次元位相画像及びマスク生成工程で生成されたマスク及び波面変換工程からのデータをもとに位相接続を行う位相接続工程と有すること。 （もっと読む）

【課題】アパーチャとして機能させるための金属層やドーピング層を用いなくても、アパーチャの光遮断能力を高めることができるファブリペロー干渉計を提供する。
【解決手段】半導体基板１１の他方の面１１ｂのうち透過領域４０に対応する領域に、半導体基板１１を通過する光をこの光の進行方向と同じ方向に射出する射出面１１ｃを設けると共に、半導体基板１１の他方の面１１ｂのうちアパーチャ部４１に対応する領域に、当該領域から射出される光を透過領域４０から遠ざける方向に屈折させる傾斜面１１ｅを設ける。これにより、透過領域４０の周囲の光を傾斜面１１ｅによって透過領域４０からアパーチャ部４１に遠ざけることが可能となり、アパーチャのための金属層やドーピング層を設けることなく傾斜面１１ｅを実質的にアパーチャとして機能させることができる。 （もっと読む）

【課題】 気体の屈折率を高精度に計測すること。
【解決手段】 光源１２からのレーザビーム１００を測定ビーム１０２と参照ビーム１０４に分岐させ、合成ビーム１０６を出射する台形型偏光ビームスプリッタ１４と、台形型偏光ビームスプリッタ１４に相対向して配置された再帰ミラー１８と、台形型偏光ビームスプリッタ１４と再帰ミラー１８とを連結し、参照ビーム１０４の光路を形成する真空容器１６と、測定ビーム１０２と参照ビーム１０４の干渉に伴う測定を行う計測器２０を備え、第１の半透過部２６ａと第２の半透過部２６ｂとを結ぶ光路のうち測定ビーム１０２の光路と参照ビーム１０４の光路が同一の光路長に設定されている。 （もっと読む）

【課題】
液浸露光装置の投影光学系の波面収差を高精度に測定する波面収差測定装置を提供する。
【解決手段】
光源からの光を被検光と参照光とに分離し、投影光学系に前記被検光を入射させる入射光学系と、前記投影光学系から出射される前記被検光を、再び、同一光路で前記投影光学系に向けて反射する反射光学系と、前記反射光学系により反射され前記投影光学系から出射される前記被検光と、前記投影光学系を通過しない前記参照光との干渉により生成された干渉縞を検出する検出器と、を有し、前記投影光学系と基板との間の浸液を介して前記基板を露光する露光装置の前記投影光学系の波面収差を測定する波面収差測定装置において、前記反射光学系を回転させる回転機構および傾斜させる傾斜機構を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トラッキング用のサブビームが混在した状態で光ピックアップ装置から出力されたメインビームの波面測定を、容易かつ高精度に行うことが可能な光ピックアップ用波面測定装置を得る。
【解決手段】画像処理部３４および波面解析部３５を解析手段３１に設ける。画像処理部３４は、撮像カメラ１９により得られた干渉縞画像をフィルタ処理し、光ビームに含まれるトラッキング用のサブビームに対応した周波数成分が除去されたフィルタ処理後の干渉縞画像を得るように構成され、波面解析部３５は、フィルタ処理後の干渉縞画像に基づき、光ビームに含まれるメインビームの波面解析を行うように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 干渉計におけるフォーカス誤差を低減できて波面の微細なうねりまで高精度に測定する。
【解決手段】 被測定物の干渉計結像光学系による共役位置に干渉計の画像検出器の位置を調整するために、干渉計のフォーカス制御手段を利用して複数の測定面で波面測定を行う。測定した波面データのうち空間周波数が高いうねり成分のみ抽出して、さらに空間周波数毎にパワースペクトル密度で表す。それらを特定の帯域内で積分し、その積分値が最小となる測定位置を算出する。 （もっと読む）

【課題】
被測定物の屈折率均質性または透過波面の収差を高精度に測定する干渉測定装置、露光装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】
反射面６ａを有する反射物である反射プレート６を有し、被測定物１２を介した光を反射面６ａで反射させて干渉縞を形成する干渉測定装置であって、反射面６ａを焦点位置とした時の干渉測定装置の変調伝達関数であるＭＴＦに基づいて、前記干渉縞から得られる位相差分布を補正することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】姿勢が変化し得る状態で保持されたシート状の被検体において、被検層の厚みや厚みムラを測定することが可能な厚み測定用光干渉測定装置を得る。
【解決手段】光源１１からの出力光を、発散レンズ１２およびコリメータレンズ１４を介し平行光からなる測定光として被検体５に照射するとともに、被検体５を透過した光束を、収束レンズ１６および撮像レンズ１７を介し撮像カメラ１８に取り込む。この撮像カメラ１８は、被検体５の被検層を透過した光束のうち、該被検層に対し互いに略同一の位置を通過しつつ、該被検層の両面での反射回数の違いにより互いの光路長が該被検層の厚みの光学距離の２倍だけ異なる光束同士の光干渉によって得られる干渉縞を撮像する。この干渉縞に基づき、被検層の厚みや厚みムラを測定する。 （もっと読む）

【課題】干渉計測の精度を向上させ、屈折率の標準測定装置としても使用可能な、高精度の屈折率の計測を行うことができるようにする。
【解決手段】被測定プリズム１と補償用プリズム２の斜面１１、２１を近接対向配置してプリズム対を形成し、これをマッハ・ツェンダー干渉計等の干渉計の中に配置し、レーザ測長器１０によって被測定プリズムの移動量を測定可能とする。被測定プリズムを補償用プリズムに向かい合っている面内で平行移動させ、干渉計中の被測定プリズム中の光路長を変化させ、被測定プリズム中の光路長変化と、レーザ測長器で測定した被測定プリズムの移動量の関係から、プリズムの屈折率を求める。被測定器物はプリズム、くさび、それらの形状の容器に液体を充填したものでも良く、また種々の二光束干渉計を使用することができ、プリズムへの入射も種々の態様で実施することができる。 （もっと読む）

【課題】被測定物の表面粗さの程度によらず、その測定対象寸法を正確に測定できる寸法測定装置及び寸法測定方法を提供する。
【解決手段】寸法測定装置１は、白色光源２からの光を、被測定物に向かう第１の光束と第２の光束に分岐し、第１の光束と第２の光束の間に被測定物の測定対象寸法に対応する第１の光路差を生じさせる第１の干渉計３と、被測定物で散乱された光を検出する受光素子３８と、第１の干渉計３を出射した光束を、参照鏡４３に向かう第３の光束と光路に沿って移動可能な移動鏡４４に向かう第４の光束に分岐して、第３の光束と第４の光束との間に第２の光路差を生じさせる第２の干渉計４と、第３及び第４の光束を受光し、第１の光路差と第２の光路差とが略等しい場合に生じる干渉信号を検出する検出器５と、被測定物の測定対象寸法を測定し、得られた測定値を受光素子３８で受光した散乱光の光量に基づいて補正するコントローラ６を有する。 （もっと読む）

本発明は、干渉計の本体に対する干渉計の少なくとも１つの可動手段の移動に関する。本発明によるシステムは、別個に操作可能な少なくとも２つの干渉計アクチュエータを備えることによって、少なくとも２つのアクチュエータが、干渉計の少なくとも１つの可動手段を移動させることが可能である。少なくとも２つの干渉計アクチュエータの少なくとも１つを作動させる時、干渉計の少なくとも１つの可動手段は、例えば、傾斜を補正する最小限の必要性を伴って、移動される。好ましい構成では、本発明によるシステムおよび方法は、別個に操作可能な３つの干渉計アクチュエータを備える。
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