【課題】さらに付加的な情報の取得が可能で、かつ堅牢な装置構造と高度な測定精度とを有する光干渉測定技術の提供。
【解決手段】光干渉測定装置は、光源１からの出発ビーム２を測定ビーム３と第１の参照ビーム４ａとに分割するビームスプリッタ５ａと、光の重ね合わせ手段と、第１の検出器８ａとを備える。重ね合わせ手段と第１の検出器８ａとは互いに連携する。物体７によって反射された測定ビームと第１の参照ビームとが第１の検出器の検出面で重ね合わされる。ビームスプリッタ５ａは、出発ビーム２を測定ビーム３と、第１の参照ビーム４ａと、少なくとも第２の参照ビーム４ｂとに分割する。重ね合わせ手段と互いに連係する第２の検出器８ｂが備えられ、物体７によって散乱させられた第１の受信ビーム４ｂ’としての測定ビームと第２の参照ビーム４ｂとが第２の検出器８ｂの検出面で重ね合わされる。 （もっと読む）

【課題】高精度に被検面と参照面の間の絶対距離を計測可能な計測装置および計測方法を提供する。
【解決手段】第１の基準波長λ_１と第２の基準波長λ_２との間で波長走査が可能な光源１１と、第３の基準波長λ_３の光を射出する光源１０を有する光波干渉計測装置は、各波長に対応した干渉光の信号に基づいて被検面と参照面との間の光路長に相当する位相の誤差を補正し、誤差が補正された位相に基づいて被検面と参照面の間の絶対距離を算出する処理部１９を有する。 （もっと読む）

【課題】測長結果から精度よくデッドパスの影響を排除するヘテロダインレーザー干渉測長器を提供する。
【解決手段】ヘテロダインレーザー光源１０からのビームを分岐させて測定ビームＢ１と参照ビームＢ２を生成する分岐器８０と、測定ビームＢ１及び参照ビームＢ２を分割する偏光ビームスプリッタ３０と、測定光路ＬＰ１，ＬＰ２に設けられる１／４波長板３１，３２と、可動測定物５０に固定され、測定ビームＢ１１，Ｂ１２が照射される測定ミラー３４１，３４２と、測定ミラー３４１，３４２近傍に配置され、参照ビームＢ２１，Ｂ２２が照射される反射ミラー４１１，４１２と、測定ミラー３４１，３４２の反射光を干渉させた光と反射ミラー４１１，４１２の反射光を干渉させた光に基づく２つのビート信号から変位を算出する演算回路７０を備え、分機器８０は測定ビームＢ１と参照ビームＢ２の光量比を連続的に変化させて調整する調整手段を有する。 （もっと読む）

【課題】計測装置の測長軸の調整を不要とし、簡便な取り付け及び光学素子の汚染防止の点で有利な技術を提供する。
【解決手段】参照面と被検面との間の距離を計測する計測装置であって、光源からの光を分割させる光分割素子と、前記参照面、前記被検面及び前記光分割素子を内部に収納すると共に、前記内部において前記参照面及び前記光分割素子を固定するハウジングと、前記ハウジングの外部に設けられ、前記光分割素子から前記参照面までの第１の光路長と前記光分割素子から前記被検面までの第２の光路長とが等しくなるときの前記被検面の位置を示す測長基点を表示する第１の表示部と、前記ハウジングの外部に設けられ、前記第２の光の光路に平行な軸を示す測長軸を表示する第２の表示部と、前記参照面と前記被検面からの反射光との干渉信号から前記参照面と前記被検面との間の距離を算出する処理部と、を有することを特徴とする計測装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】測定範囲を拡大できるとともに機器の簡略化が可能な斜入射干渉計を提供すること。
【解決手段】光源４１と、光源４１からの原光を分割する光束分割部と、測定光を被測定物Ｗに照射する照射部４３と、測定光と参照光とを合成する光束合成部４４と、合成された光束を受光する受光部４５とを有する斜入射干渉計１において、干渉計本体３０と、被測定物Ｗを保持する基台１０と、干渉計本体３０を被測定物Ｗに沿って移動可能な移動機構２０と、干渉計本体３０の移動軸線の延長上に配置された補助反射鏡５１と、光源４１からの原光から補助光を分割して補助反射鏡５１に照射する補助光束分割部５２と、干渉計本体に設置されかつ補助反射鏡５１で反射された補助光を受光する補助受光部５５と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】調整の容易な干渉計測装置を提供する。
【解決手段】撮像素子が受光した全体領域から第１および第２部分領域を抽出し、抽出された第１および第２各部分領域で受光した干渉光の強度を複数の時刻で取得し、各時刻における前記強度のうちの一方および他方をそれぞれX座標値およびY座標値としたときのY座標値の最大値と最小値との差分を第１差分Aとして算出し、X座標値およびY座標値の組み合わせのデータを一次関数で近似した場合の傾きαを算出し、この傾きがゼロとなるようにXY座標系を回転し、回転後のXY座標系におけるY座標値の最大値と最小値との差分を第２差分B’として算出し、δ＝asin{(B’/cosα)/A}で表される角度δを算出し、当該角度δを干渉光の位相分布の均一性を示す指標として決定する。 （もっと読む）

【課題】移動する被検体までの絶対距離を高精度に計測するために有利な波長走査干渉計を提供する。
【解決手段】波長走査干渉計は、光源から射出される光束の波長を変更しながら該光束から分割された参照光と被検光との干渉光の信号に基づいて被検体までの絶対距離を計測する。波長走査干渉計は、前記光源から射出される光束の波長が互いに等しい時刻である第１時刻およびその後の第２時刻と、前記第１時刻、前記第２時刻のそれぞれにおける前記干渉光の信号の周波数である第１周波数、第２周波数とに基づいて、前記被検体の移動による誤差成分が低減された絶対距離を算出する処理部を備える。 （もっと読む）

【課題】参照面と被検面との間の距離の測定に有利な技術を提供する。
【解決手段】光源からの光を２つの光に分割して、一方の光を参照面に入射させ、他方の光を被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出する検出部と、距離を求める処理を行う処理部、前記光源からの光の波長を固定しての干渉光である第１の信号と、前記光源からの光の波長を連続的に変更させながらの干渉光である第２の信号、前記第２の信号を周波数解析して前記第２の信号に含まれる周期誤差を算出し、前記第１の信号に含まれる周期誤差と前記第２の信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、前記算出された前記第２の信号に含まれる周期誤差に対応する前記第１の信号に含まれる周期誤差を特定し、前記第１の信号から前記特定された周期誤差を減算し、前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相を求める。 （もっと読む）

【課題】測定の空間分解能を向上しつつ装置の大型化を回避できる２直交偏光式の斜入射干渉計を提供すること。
【解決手段】 光源１１からの光を光束分割素子１４で分割し、一方を測定対象物２０に照射して測定光とし、測定光と参照光との偏光方向を直交させた後、光束合成素子１６で合成して合成光とする。得られた合成光を光束分割部３３で複数系統に分割し、各系統の分割光により形成される複数の干渉縞画像を撮像素子３５Ａ〜３５Ｃで撮像する。撮像素子と光束分割部３３との間には、偏光軸が互いに異なる複数の偏光板３４Ａ〜３４Ｃが配置され、各偏光板と撮像素子との間には画像拡張手段としてのスクリーン３６Ａ〜３６Ｃが光軸に対して傾斜配置され、各系統の干渉縞画像をその一軸方向に拡張する。 （もっと読む）

【課題】外乱の影響を受けにくい距離測定装置を提供する。
【解決手段】本発明を例示する距離測定装置の一態様は、光周波数コム光源（１１）が発振する光パルス信号（Ｓ）を光電変換して電気信号に変換する光電変換部（１２）と、前記光電変換部が生成する電気信号（Ｓ’）から、前記光パルス信号の複数種類のモード間ビート信号を分離して抽出する分離抽出手段（１３−１、１３−２、１３−３、１３−４）と、抽出された前記複数種類のモード間ビート信号の間の強度関係と、前記複数種類のモード間ビート信号の間の周波数関係とに基づき、前記光周波数コム光源から前記光電変換部までの距離（Ｄ）を算出する演算手段（１４）とを備える。 （もっと読む）

【課題】レーザ干渉測長装置に対する再帰反射体の絶対位置を精度良く測定できる絶対位置測定方法を提供する。
【解決手段】絶対位置測定方法は、予め設定された３つ以上の各位置に再帰反射体をそれぞれ位置付ける工程Ｓ１，Ｓ４と、回転機構を動作させ、前記各位置にそれぞれ位置付けられた再帰反射体に対して測定光を出射可能とする各姿勢に干渉計を設定する工程Ｓ２と、回転機構の動作量に基づいて前記各姿勢間での測定光の光軸の角度変化量を算出する工程Ｓ５と、干渉計から出力される信号に基づいて前記各姿勢間での前記光軸に沿う方向の再帰反射体の位置変化量を算出する工程Ｓ６と、前記各位置、角度変化量、及び位置変化量に基づいて、レーザ干渉測長装置の基準位置を算出する工程Ｓ７と、基準位置に対する再帰反射体の絶対座標を算出する工程Ｓ８とを備える。 （もっと読む）

【課題】移動体の絶対位置を高い精度で求めること。
【解決手段】絶対位置測定装置は、移動体２に形成された２つの減圧空間部３，２３に個々に収容されて、中心波長が単一の光源を用いて移動体に光を照射して干渉信号を得る２つの干渉計６，２５と、２つの減圧空間部の少なくとも一方を減圧して、２つの減圧空間部を互いに異なる圧力にする真空ポンプ４及び真空排気流路５，２４と、２つの干渉計より得られる干渉信号の位相を検出する２つの位相検出器１７，３５と、２つの位相検出器で検出される位相を比較する位相比較器１９と、位相比較器１９における位相比較結果に応じて原点を設定する原点信号発生器２１と、原点信号発生器２１で設定される原点を基準として移動体の絶対位置を求める絶対位置算出器２２，３７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ゼーマンレーザ等を使った２周波干渉計における，被測定物体の速度制限をなくすことを目的とする．
【解決手段】僅かな周波数差を持った互いに直交する２つの直線偏光の光f1とf2の両方を信号光，および，参照光として使う．ドップラーシフトを受けた信号光f1’とf2’に対して，信号光の２つの偏光成分f1 と f2 を分離・合成し，f1とf2’が混ざったビーム，及び，f1’とf2が混ざったビームを作る．これにより，２つのビートシグナル|f1-f2’|及び，|f1’-f2|を得る．これにより，f1-f2’及び，f1’-f2の符号（正負）に関わらず，被測定物のあらゆる速度Vについて，|f1-f2’|と|f1’-f2|の少なくとも１つから計算することが可能となる． （もっと読む）

【課題】 参照光を適切に反射できて、反射された参照光と測定光とを確実に干渉させることができ、部品点数も削減できるレーザ干渉計を提供する。
【解決手段】 レーザ干渉計は、光源からの光が分割された一方の光であって被測定物に向けて出射される測定光と、光源からの光が分割された他方の光である参照光Ｌ３とが合成された干渉光に基づいて被測定物までの距離を測定するものであって、参照光Ｌ３を反射して測定光と合成させるコーナーキューブプリズム２１４を備える。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成からなる位置検出装置を得る。
【解決手段】所定の移動方向（矢印ＡＲ）に移動する板ばね部４１（被測定物）の位置を検出する位置検出装置７０は、受光部７２Ａと、受光部７２Ａに対向し受光部７２Ａに向けて測定光８０を投光する投光部７１Ａとを備える。受光部７２Ａおよび投光部７１Ａは、受光部７２Ａおよび投光部７１Ａの間で移動する板ばね部４１の移動方向（矢印ＡＲ）に対して、測定光８０が斜めに交差するように配置される。板ばね部４１の移動に伴って、測定光８０の一部は板ばね部４１に遮られるとともに、測定光８０の残部は受光部７２Ａに到達する。受光部７２Ａが受光する測定光８０の残部の受光量に基づいて、板ばね部４１の位置が検出される。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で参照面と被検物との間の絶対距離を高精度かつ高速に計測する。
【解決手段】第１の波長走査範囲について検出された第１の干渉信号による波数に対する前記第１の干渉信号の位相の傾きである第１の位相の傾きと前記第１の波長走査範囲に含まれる任意の波数における前記第１の干渉信号の位相である第１の位相の端数成分とを決定し第２の波長走査範囲について検出された第２の干渉信号に基づいて前記第２の波長走査範囲に含まれる任意の波数における前記第２の干渉信号の位相である第２の位相の端数成分を決定し前記第１の位相の傾きと前記第１の位相の端数成分と前記第２の位相の端数成分とにより第１の干渉次数差を決定し前記第１の干渉次数差と前記第１の位相の端数成分と前記第２の位相の端数成分とにより前記光束の波数に対する前記第１の干渉信号および前記第２の干渉信号を含む干渉信号の位相の傾きである第２の位相の傾きを決定する。 （もっと読む）

【課題】 干渉計測の応答速度を損なう事無く高精度な屈折率補正を実現可能な干渉計測方法を提供する。
【解決手段】 参照面で反射された光束と被検面で反射された光束との干渉信号を検出することによって被検光路の幾何学的距離を計測する干渉計測方法において、互いに波長が異なる複数の光束を用いて被検光路の光路長を算出する多波長光路長算出工程、多波長光路長算出工程で算出された被検光路の光路長から被検光路の空気の屈折率を算出する屈折率算出工程、屈折率算出工程で算出された屈折率を平滑化することによって平滑化屈折率を算出する平滑化屈折率算出工程、平滑化屈折率算出工程で算出された平滑化屈折率から被検光路の幾何学的距離を算出する幾何学的距離算出工程を有する事を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】干渉計を利用した測長において、環境変動により測定光路上の光学窓の厚みが変動しても影響の小さい測長装置を提供する。
【解決手段】測定光路上に、内部が真空で両端に光学窓１０ｂ、１０ｃを有する真空管１０を配置する。各光学窓１０ｂ、１０ｃは、厚みが異なる２つの部分を有する構成とする。各光学窓１０ｂ、１０ｃの厚みが異なる部位へ２本の測長レーザ２ａ、２ｂの測定光を入射させ、測定ミラー５でそれぞれ反射させて、参照ミラー６による参照光と干渉させる。測長レーザ２ａ、２ｂによる２つの測長値を用いて、環境変動に起因する光学窓１０ｂ、１０ｃの厚み変化による光路長変動の影響を除去した測長を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】共振器の可動側反射面の変位量を高精度に取得できる変位測定装置を提供する。
【解決手段】一定の波長可変幅を有する２つの測定用レーザ光源１０、１１と、ファブリーペロー共振器１２と、共振器からのレーザ光出力を検出する光検出器１８、１９と、光検出器の値に基づき共振器長Ｌの変位量に追従するように測定用レーザ光源１０、１１の周波数を該共振器１２の共振周波数にロックする波長制御手段２０と、測定用レーザ光の周波数の変化量を検出する周波数検出手段５０とを備える。波長制御手段２０は、所定の共振周波数に測定用レーザ光源１０の周波数をロックする第１ロック手段６２と、測定用レーザ光源１０の波長可変幅内で、ロック状態が解除されている他の測定用レーザ光源１１の周波数を、第１ロック手段でロックされた共振周波数よりも大きいまたは小さい別の共振周波数にロックする第２ロック手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ上の欠陥分布を検査する表面検査装置において、欠陥検査と同時進行でウェーハの厚さとフラットネスを測定できるようにする。
【解決手段】本発明は、ウェーハを固定し、回転及び直線移動を行う搬送系と、前記直線移動の経路上に配置されたウェーハ上の欠陥の位置とサイズを特定する散乱光学系と、前記直線移動の経路であって、前記散乱光学系よりも前に配置されたフラットネス測定系と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）