【課題】小型化の３次元形状データ取得装置の光学測定ヘッドを提供する。
【解決手段】投射光学系および撮像光学系は、プリズム型偏光ビームスプリッタ１４と、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッタ１７と、プリズム型偏光ビームスプリッタ１４とワイヤーグリッド偏光ビームスプリッタ１７との間に配置される結像光学系１５とを有し、ＭＥＭＳ１３と撮像手段１６は、互いにプリズム型偏光ビームスプリッタ１４の偏光分離面を挟み互いに交差する方向に配置され、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッタ１７は、ＭＥＭＳ１３から出射され結像光学系１５を透過した光を透過し、ミラー１８により被測定物表面に投射され被測定物表面で反射された光は、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッタ１７の偏光分離面で結像光学系１５に向けて反射させる構成とし、ワイヤーグリッド偏光ビームスプリッタ１７の偏光分離面と、ミラー１８の反射面とは互いに非平行とした。 （もっと読む）

【課題】被計測物を精度よく計測することができる３次元計測装置およびそれに用いられる照明装置を提供する。
【解決手段】３次元計測装置１は、被計測物８に円偏光を照射する照明手段２と、照明手段２を移動させる移動手段３とを備える。また、３次元計測装置１は、被計測物８の被照射面からの反射光を受けて上記被照射面を撮像する撮像手段４と、撮像手段４で撮像された撮像画像を用いて反射光の偏光状態を検出し、被計測物８の被照射面の向きを求める演算手段５とをさらに備える。照明手段２は、円偏光を被計測物８の一部に照射する。移動手段３は、被計測物８において被照射面の位置が変わるように照明手段２を移動させる。 （もっと読む）

【課題】偏光解析を用いながら、複数の傾斜面の各傾斜方向の違いを識別できる３次元計測装置、および３次元計測方法を提供する。
【解決手段】３次元演算部４の傾斜算出部４１は、ワーク台座６によってカメラ３の撮像方向とワークＷの表面との相対角度を第１の状態に設定してカメラ３が生成した撮像データに基づいて、透過光Ｌ３の偏光状態を検出し、この検出した偏光状態に基づいて、ワークＷの表面の第１の傾斜角および第１の方位角を求め、ワーク台座６によって相対角度を第１の状態から第２の状態に変化させた後にカメラ３が生成した撮像データに基づいて、透過光Ｌ３の偏光状態を検出し、この検出した偏光状態に基づいて、ワークＷの表面の第２の傾斜角および第２の方位角を求め、傾斜補正部４２は、第１の傾斜角と第２の傾斜角との差に基づいて、第１の傾斜角または第１の方位角を補正する。 （もっと読む）

【課題】参照光および被検光を偏光の回転方向が互いに逆向きとなる２つの円偏光に変換するための光学素子を通過する際の波面の乱れを抑制し、実時間での光干渉測定をより高精度に行うことが可能な実時間測定分岐干渉計を得る。
【解決手段】光源部１からの光ビームを２光束に分岐し、第１光束を第２光束に対して所定の光学距離だけ迂回させた後に１光束に再合波して出射する迂回路部２を設ける。この迂回路部２における第１光束の光路上に第１のλ／２板１５を配置し、第２光束の光路上に、第１のλ／２板１５とは光学軸の方向が４５度だけ異なる第２のλ／２板１９を設置する。さらに、迂回路部２とビーム径拡大部３との間の光路上にλ／４板２１を配置することにより、第１光束および第２光束を偏光の回転方向が互いに逆向きとなる２つの円偏光に変換する。 （もっと読む）

【課題】
エッチング完了後の溝底ショート欠陥やスクラッチを検出するための高仰角照明による暗視野欠陥検出方法において、レンズ反射光などの迷光が像面に到達することによる検査感度を阻害することを防止する。
【解決手段】
欠陥検査装置を、本来同一の形状となるべきパターンが繰り返して形成された試料上の異なる領域に異なる光学条件で同時に照明光を照射する照射手段と、照明光を照射した領域からの反射光を異なる領域ごとに検出する検出手段と、検出した反射光の検出信号を処理して異なる領域ごとに異なる光学条件の元での欠陥候補を抽出する欠陥候補抽出手段と、異なる光学条件の元で抽出した欠陥候補を統合して欠陥を抽出する欠陥抽出手段と、抽出した欠陥の特徴量を求めて該求めた特徴量に基づいて前記欠陥を分類する欠陥分類手段とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】測定部の振動の影響を好適に除去し、高精度の形状計測を行うことのできる形状計測方法及び形状計測装置を提供する。
【解決手段】測定部表面７に当てられた光スポットの散乱光を結像レンズにて集光するとともに、その集光位置の変化から測定部表面７の形状を計測する方法であって、散乱光を結像して得られた光スポットを光位置センサー９で直接受光してその集光位置の変化を計測するとともに、上記散乱光を結像して得られた光スポットをスリット１１を介して光位置センサーで受光してその集光位置の変化を計測し、それら計測した集光位置の変化量の差分から測定部表面７の形状を求めるようにした。 （もっと読む）

【課題】試料表面を正確に検出することができるレーザ共焦点顕微鏡及び表面検出方法を提供する。
【解決手段】照明光を射出するレーザ光源２と、試料１１に照明光を照射する対物レンズ１０と、対物レンズ１０の焦点位置と試料１１の間の距離を変化させるステージ１７と、レーザ光源２と対物レンズ１０の間に配置され光を偏光特性で分離する偏光ビームスプリッタ３と、偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間に固定されたλ／４板７と、偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間で挿脱可能なλ／４板８と、焦点位置と光学的に共役な位置に配置された共焦点絞り１３と、共焦点絞り１３を通過した試料１１からの検出光の強度に応じた信号を出力する光検出器１４と、を含んでレーザ共焦点顕微鏡を構成する。多重反射試料を観察する場合にλ／４板８を偏光ビームスプリッタ３と対物レンズ１０の間に挿入して観察する。 （もっと読む）

【課題】 干渉光の強度のピーク及びコントラストを最適化し、高速かつ高精度に被測定物の表面位置を測定できる測定装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、光源から出射され分岐された光のうちの、参照面で反射された参照光と被測定物の表面で反射された測定光とによる干渉光の強度に基づいて前記被測定物の表面位置を測定する測定装置であって、測定光の光量を検出する検出部と、参照光の光量と前記検出部により検出された測定光の光量とに基づいて算出される干渉光の強度が目標範囲に入るように前記光源の光量を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、口腔内スキャナーと、それを用いた口腔内画像測定装置に関するもので、小型化を図ることを目的とするものである。
【解決手段】そしてこの目的を達成するために本発明は、本体ケース内に設けられた発光素子１と、この発光素子１からの光を歯１１に向けて出射させるプリズム９と、このプリズム９を介して歯１１から戻った反射光を受光する受光素子１５とを備え、前記プリズム９の歯１１側に偏光板１０を配置するとともに、前記プリズム９は、後方に入射面１７および後反射面１８、前方に前反射面１９、下方に出射面２０、上反射面を有し、前記プリズム９を構成する前記３反射面のうち少なくとも１つは選択反射面２１および全反射面２２を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】照明光の光量を安定させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】表面検査装置は、照明部が所定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルターが設けられた波長選択機構７０，７５を有し、当該バンドパスフィルターを透過して得られた所定の波長領域の光を照明光として被検基板の表面に照射する。紫外光を遮断するＵＶカットフィルター６５がランプハウス６１と波長選択機構７０，７５との間の光路上に挿抜可能に設けられ、非検査時にＵＶカットフィルター６５が光路上に挿入されて、ＵＶカットフィルター６５を透過した光が前記バンドパスフィルターに照射されると共に、熱線反射部材が前記バンドパスフィルターの後段の光路上に挿抜可能に設けられ、前記被検基板の非検査時に前記熱線反射部材が前記光路上に挿入されて、前記バンドパスフィルターを透過した熱線が前記熱線反射部材により反射されて前記バンドパスフィルターに照射される。 （もっと読む）

【課題】シルエットとして投影できない形状のエッジでも、非接触で、加工途中のワークなどを精度高く、かつ、リアルタイムで輪郭形状を数値的に測定可能とする光学的なエッジ検出装置を提供すること
【解決手段】本発明のエッジ検出装置は、投影光学系の光軸１６ａと平行な光線を遮光するアンチピンホールフィルタ２５を備えた投影光学系と、投影光学系の光軸１６ａと一定の偏角θをもって配設された光源モジュール１１と、撮像素子２６と、コンピュータとを備え、光源モジュール１１の平行光に照射されたワーク１７からの反射光による投影画像を撮像素子で撮像し、エッジ近傍の信号強度を判定し、２本の帯状の高輝度の部分に挟まれた低輝度の線状部分をエッジと判定する。そのため、ワークのエッジを正確に検出でき、これを画像処理により数値処理することでＣＡＤやＮＣ制御と連動させることができる。 （もっと読む）

【課題】欠陥散乱光の偏光特性に依存されずに欠陥像を顕在化する空間フィルタリング技術と正常パターンの明るさ飽和を抑制して欠陥捕捉率を向上する欠陥検査方法とその欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】検出光路を偏光分岐して少なくても一つ以上の光路にてアレイ状の空間フィルタを配置し、正常パターンからの回折光や散乱光をフィルタリングすることを特徴とする。また、正常パターンの散乱光量に応じて照明光量或いは／及び検出効率を画像検出中に制御することにより明るさの飽和を抑制した画像を得る。 （もっと読む）

【課題】 迷光を除去して、精度の高い形状測定を行うことが可能な形状測定装置、及び形状測定方法を提供すること。
【解決手段】 格子パターンを有するパターン素子３０と、パターン素子３０とビームスプリッタ４０とを介して前記格子パターンを測定対象物６０に投影する投影部と、測定対象物６０に投影された格子パターンをビームスプリッタ４０を介して撮像する撮像部７０と、撮像部７０によって撮像された画像のコントラスト値に基づき測定対象物６０の形状を測定する測定部８２とを有し、ビームスプリッタ４０と測定対象物６０との間に１／４波長板５０を備え、１／４波長板５０に入射させる投影光が直線偏光であり、前記投影光と偏光方向が直交する直線偏光のみを撮像部７０に入射させるように構成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸回りの微小角度変位量の測定が可能な多自由度軸角度センサを提供する。
【解決手段】光検出素子が、１対の非分割型の単素子ＰＤ（フォトダイオード）３ａ，３ｂを有している。一方の単素子ＰＤ３ｂは、その受光面の一部に光スポット３ｂｓが入射するように、光ビーム分割用光学素子により分けられたレーザ光源２からの一方の光ビームにより定義される光軸９ｂから、ＰＤ受光面の長さ以下のオフセット量を与えて配置されている。他方の単素子ＰＤ３ａは、位置の変化による光強度変化量の検出用として光スポット３ａｓの大きさよりも十分に大きな素子サイズを有している。単素子ＰＤ３ａは、光ビーム分割用光学素子により分けられたレーザ光源２からの他方の光ビームにより規定される光軸９ａに沿って配置されている。単素子ＰＤ３ａは、光強度変化の正規化のための光量モニタリング用として設けられている。 （もっと読む）

【課題】
光干渉を用いた変位計測装置において、プローブ光路と参照光路とが空間的に分離して
いるため、空気の揺らぎ等による温度分布や屈折率分布、あるいは機械振動が生じた場合
、両光路間で光路差が変動し、測定誤差となってしまう。
【解決手段】
プローブ光の光軸と参照光の光軸を外乱の影響を受けない距離まで近接させて、プロー
ブ光を対象物に、参照光を参照面に各々照射し、その反射光同士を干渉させ、生じた干渉
光から対象物の変位量を求める （もっと読む）

【課題】小型で光弾性測定装置へのセッティングが容易な光弾性変調器およびそれを備えた光弾性測定装置を提供する。
【解決手段】円盤状の光学素子４６の周側面の一端に圧電素子４７を接触させ、当該圧電素子４７と対向する側をフレーム４８に接触させて光学素子４６の両端を支持する。当該構成において、光弾性変調器４５の共振周波数を光学素子４６の共振周波数より低い周波数に設定して圧電素子４７から振動させる。このとき、光学素子４６に付与される振動は減衰した後、光学素子４６には圧電素子４７の慣性による応力のみが付与されるので、光学素子４６内には均一に複屈折量が発生し、この状態で光学素子４６に光を透過させることにより、透過光に変調がかけられる。 （もっと読む）

【課題】基板の処理面の位置情報に基づいて、位置決め誤差を解決した位置決め装置を提供する。
【解決手段】表面状態計測部（顕微鏡カメラ９、表面計測部５３ａ）は、基板の表面状態を観察して画像データとして計測する。位置計測部５３ｂは、インクジェットヘッド１０および表面状態計測部の位置を計測する。記憶部５３ｃは、予め基板の表面状態を記憶している。誤差量演算部５３ｄは、インクジェットヘッド１０の移動において、位置計測部５３ｂにより計測された、表面状態計測部の移動前の位置および表面状態計測部の移動量を基に、記憶部５３ｃから移動後の基板の予想される表面状態を求めて、予想される表面状態と、移動後の位置における表面状態計測部により計測された表面状態とを、比較することで、移動誤差量を求める。位置補正部５３ｅは、誤差量演算部５３ｄにより求められた移動誤差量を基に、インクジェットヘッド１０の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】
安価で高精度の絶対位置の計測装置を提供する。
【解決手段】
計測装置１００は、第一の光線を射出する第一の光源１と、第一の光線より干渉性の低い第二の光線を射出する第二の光源２と、第一の光線に第二の光線を重ね合わせる第一のビームスプリッタ３と、第一のビームスプリッタからの射出光を計測光と参照光とに分岐する第二のビームスプリッタ４と、参照光及び計測光の反射光を合成して干渉信号を検出する干渉計測装置８と、干渉計測装置から出力された信号を処理する信号処理装置２０とを有し、第一の光線及び第二の光線の波長は同一に設定されており、信号処理装置２０は、第二の光源２から得られる干渉信号の強度を計測する信号強度計測部１４−１、１４−２、及び、第二の光源２から得られる干渉信号の強度の最大点を原点と判定する原点判定部１６を有する。 （もっと読む）

【課題】光学系の組み立て調整が容易で、かつ、スケール部に異物等が付着した際の光量低下を抑えることが可能な光学式変位測定装置を提供する。
【解決手段】光学式変位測定装置１Ａは、スケール部１１Ａの回折格子１１Ｔで回折された２つの１回回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を再度回折格子１１Ｔに照射する反射光学系１６を備える。反射光学系１６は、直角を３つ合成した頂点を持つ三角錐のプリズムで構成されるマイクロコーナーキューブプリズムが、縦横に並べて配列されるマイクロコーナーキューブプリズム集合ミラー１７ａ，１７ｂを備える。 （もっと読む）