【課題】 サーボ信号に基づく評価値を用いて光ディスクの光透過層の表面の評価を行う際に、サーボ残差とデータ復号エラーの発生量との相関関係が低いために評価の精度が低いという課題を解決する。
【解決手段】 フォーカスまたはトラッキングのサーボ信号を検出し、検出された前記サーボ信号とその検出時間から前記サーボ信号の推移を検出し、前記サーボ信号の推移から得られたピークのうち、所定の閾値を超えた部分について、前記所定の閾値からのピーク高さをその継続時間と線速度との積で算出される距離で積分し、積分によって得られた積分値を合計して評価値を算出し、該評価値とデータ復号エラーの発生量との相関関係に基づいて、前記光ディスクの光透過層の表面の凹凸を評価する。 （もっと読む）

【課題】画像測定装置において、照明手段の光量が変化した場合に、被測定箇所毎に設定された照明設定値を修正しなくても、同じ照明光量となるように容易に設定できる照明光量の設定方法を提供すること。
【解決手段】画像測定装置は、予め設定された測定手順に基づいて複数の被測定箇所を撮像するカメラと、被測定箇所を照射する照明ユニット１９とを備え、被測定箇所毎に予め設定された照明設定値Ｌ_Ｐを参照し、これに対応した照明光量を照明ユニット１９によって照射しながら、被測定物の寸法や形状を測定する。照明光量の設定方法は、被測定箇所毎に設定された照明設定値Ｌ_Ｐに対応した照明光量を照射させる指令信号を出す指令信号出力工程と、指令信号にオフセット値Ｌ_０を付与して照明手段に与えるオフセット値付与工程と、オフセット値Ｌ_０を可変可能に設定する設定工程とを備える。 （もっと読む）

方法は、試験対象物をモデル化するための異なるモデルパラメータに対応した複数のモデル信号の各々と、試験対象物の位置に対して得られた走査干渉法信号とを比較することを有する。各モデル信号に対して、比較することは、走査干渉法信号とモデル信号の間の相関関数を算出し、走査干渉法信号とモデル信号の間の表面高さオフセットを特定すること、および、特定した表面高さオフセットに基づいて、共通の表面高さに対する、走査干渉法信号とモデル信号の間の類似点を表わす高さオフセット補正済メリット値を算出することを有する。本方法は、異なるモデル信号に対する各々のメリット値に基づいて、試験対象物の位置での試験対象物パラメータを判定することをさらに有する。
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【課題】光学系の収差の影響を排除して薄膜の膜厚の測定精度を向上させる。
【解決手段】光検出器７は、試料１である薄膜にスポット光を照射したときにおける該薄膜からの反射光の輝度を、対物レンズ２を介して検出する。リファレンスメモリ１６には、対物レンズ２からの光軸方向の距離と該距離の位置より対物レンズ２へ向かう光の光検出器７により検出される輝度との関係を示す基準データが格納される。顕微鏡制御部１１は、該薄膜の対物レンズ２からの距離を光軸方向に変化させて、該距離と光検出器７で検出される輝度との関係を示す測定データを取得する。膜位置検出部１７は、基準データ及び測定データに基づいて、該薄膜からの反射光の輝度が極大の高さとなるときの対物レンズ２からの距離を特定する。フィッティング計測部１８は、膜位置検出部１７により特定された距離に基づいて、該薄膜の膜厚を取得する。 （もっと読む）

【課題】
従来、半導体ウェハの外観検査装置において、顕微鏡画像の撮像に高解像度のカメラを使用するとフレームレートが低下し、低解像度のカメラを使用すると画質が劣化するという問題があった。
【解決手段】
本発明では、被検物の像を形成する結像光学系と、前記結像光学系で観察する画像を撮像する撮像部と、前記撮像部で撮像した画像を表示する表示部と、前記被検物を前記結像光学系に対して相対的に移動させる移動部とを備える画像取得表示装置であって、前記画像取得表示装置の変化または前記撮像部で撮像する画像の変化を検出する変化検出部と、前記変化検出部の検出結果に基づき解像度を設定して、前記表示部に前記解像度に応じた画像を出力するように制御する解像度制御部とを設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＡＦ検出系の検出光の光路上の屈折率が変化しても精度良く基板面位置情報を検出してデバイスを製造できる露光方法を提供する。
【解決手段】マスクのパターンの像を投影光学系により基板上に投影して、基板を露光する露光方法であって、基板表面に複数の検出光を異なる入射角で投射するとともに、基板表面からの反射光を受光することによって、検出光及び反射光の光路の屈折率情報を検出することと、マスクのパターンの像を投影光学系により基板上に投影することを含む。 （もっと読む）

【課題】波長依存性を有する多層膜試料の膜厚をより高い精度を測定することが可能な多層膜解析装置および多層膜解析方法を提供する。
【解決手段】波数変換部７２１は、バッファ部７１に格納される波長毎に、波数Ｋ_１（λ）および波数変換反射率Ｒ_１’（λ）（＝Ｒ（λ）／（１−Ｒ（λ）））を順次算出し、バッファ部７３１へ出力する。バッファ部７３１は、波数変換部７２１から順次出力される波数Ｋ_１（λ）と波数変換反射率Ｒ_１’（λ）とを対応付けて格納する。フーリエ変換部７４１は、バッファ部７３１に格納される波数変換反射率Ｒ_１’（Ｋ_１）を波数Ｋ_１についてフーリエ変換を行って、パワースペクトルＰ_１を算出する。ピーク探索部７５１は、フーリエ変換部７４１によって算出されたパワースペクトルＰ_１の中に現れるピークを探索し、各ピーク位置に対応する膜厚を取得する。 （もっと読む）

【課題】計測対象の反射率などによらず、フォーカスを合わせて、計測対象の撮影を可能にする。
【解決手段】計測対象である基板２に投影されるパターンを、ビームスプリッタ１６で分岐し、ラインセンサ１９で検出してオートフォーカスを行うオートフォーカス時と、基板２を、二次元ＣＣＤで撮影する撮影時とで、照明用光源１１の光源１１ａ〜１１ｃを切り替え選択できるようにし、オートフォーカス時には、投影パターンのコントラストが十分得られるようにする一方、撮影時には、基板２の画像が鮮明に得られるようにしている。 （もっと読む）

【課題】凹んだ部分に設けられた外径を測定可能な外径測定装置の実現。
【解決手段】光ビームを走査する光ビーム走査手段21と、走査面を通過した光ビームを集光して対応した電気信号を出力する受光手段23と、走査光ビームの途中に被測定物を配置した時の電気信号から被測定物の幅を算出する処理手段74と、を備える外径測定装置において、光軸が平行になるように対向して配置された２個の梯子型プリズム31,32と、２個の梯子型プリズム31,32を保持する保持ブロック33と、を備える走査面移動素子を備え、２個の梯子型プリズムの間の光ビームが走査される空間で、保持ブロックにより一方が限定される空間に、被測定物が配置される。 （もっと読む）

【課題】カラーハイライト照明で検出が難しいはんだの急峻な面や平坦面を判別できるようにするとともに、はんだ以外の部位を白色照明下で撮像できるようにする。
【解決手段】基板Ｓの上方に、カラーカメラ１Ａと赤外線カメラ１Ｂとを各受光面が基板面に対向するように配備する。またカメラ１Ａ，１Ｂと基板Ｓとの間には、赤、緑、青の各可視光をそれぞれ異なる方向から照射する第１照明部２Ａと、カメラ１Ａの光軸１１に沿って赤外光を照射する第２照明部２Ｂとを設ける。カメラ１Ａでは、第１照明部２Ａからの光に対する基板Ｓからの反射光の入射によるカラー画像を生成し、カメラ１Ｂは、赤外光に対する反射光の入射による濃淡画像を生成する。フィレット以外の部位を検査する場合には、カラー画像の対応箇所の画像を処理し、フィレット検査の際には、カラー画像および濃淡画像を用いて５段階の傾斜レベルに相当する部位を特定する。 （もっと読む）

【課題】パターンの画像を測定しているパターン付き基板上の位置を正確に決定する方法および装置を提供することである。
【解決手段】基板特性の測定方法は、放射ビームＢがマスクＭＡを通過するように構成されたパターン付きマスクを生成してパターンを取得すること、マスクを使用してパターンが与えられたパターン付き放射ビームでの基板Ｗの照射をシミュレーションしてシミュレーションパターンを獲得すること、パターニングの誤差が発生しやすいシミュレーションパターンの少なくとも１つの位置を決定すること、および、リソグラフィプロセスを使用して前記パターン付き放射ビームで前記基板を照射することを含む。方法は、パターニングの誤差が発生しやすいとして決定された基板上のパターンの少なくとも１つの位置の少なくとも１つの特性の精度を測定し、測定に従ってリソグラフィプロセスを調整することも含む。 （もっと読む）

【課題】 被写体の大きさ（寸法）が一目で解るように、主被写体に対して寸法を添付し実寸法で印字する。
【解決手段】 撮像素子に結像される被写体像の合焦情報・ズーム情報・フォーカス情報・距離情報を得て、被写体の実寸法に関するデータを演算し、前記演算した結果を基に、実寸法に対し指定倍率で、出力を行なう。出力を行なう際、被写体を選択し選択した主被写体に対して寸法を添付して出力する。 （もっと読む）

【課題】被検物の測定手順を自動的に設定して被検物との干渉を防止した形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る形状測定方法は、パターン投影部を利用して投影光より明るい予備投影光を被検物に投影するとともに、撮像部を利用して予備投影光が投影された被検物を撮像し、予備投影光が投影された被検物の画像に基づいて被検物の三次元形状を予備測定する第１のステップ（Ｓ１０１〜Ｓ１０３）と、第１のステップで予備測定した被検物の三次元形状に基づいて、被検物に対する測定手順を設定する第２のステップ（Ｓ１０４）と、第２のステップで設定した測定手順に基づいて、被検物の三次元形状を本測定する第３のステップ（Ｓ１０５）とを有している。 （もっと読む）

【課題】別途の撮影装置を用意することなく、測定と同時に光学画像を記録することができる光学式測定装置を提供する。
【解決手段】基準線を有するスクリーン１１と、移動可能な載物台１２と、載物台１２の移動量を検出する検出手段１２１と、載物台１２に載置された測定対象物の光学画像をスクリーン上に結像させる第１結像手段１３および第２結像手段１４と、光学画像を記録する記録手段１７１と、を備える光学式測定装置１であって、第１結像手段１３は、光学画像を撮像する撮像手段と、撮像手段が撮像した光学画像をデジタル形式の画像データとして出力する出力手段と、出力手段が出力した画像データに基づいて光学画像をスクリーン１１に投影する投影手段と、を備え、記録手段１７１は、出力手段が出力した画像データを記録する。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイを測定する方法、及び、オーバーレイ測定に使用するターゲットであって、基板上の所要スペースが少なくかつ測定方向間のクロストークを防ぐターゲットを提供する。
【解決手段】スキャトロメータと共に使用するオーバーレイマーカは、重なり合う二つの２次元格子を有する。この二つの格子は同一のピッチを有するが、上方の格子のデューティ比は、下方の格子のデューティ比に比べて小さい。このようにすることで、Ｘオーバーレイ測定値とＹオーバーレイ測定値の間のクロストークを防ぐことができる。格子は、直接重なり合っていてもよく、あるいは、一方向又は二方向で交互に配置されるようにずれていてもよい。 （もっと読む）

【課題】使用可能なすべての情報を効果的に使用し、プロファイルスペースを構成する公称プロファイル及びそのバリエーションをユーザが設定するのを手助けする。
【解決手段】オブジェクトのイメージ42を取り込み、このイメージ上に、手動又は自動によって推定プロファイル20を重畳すること、を含む。推定プロファイルは数学的に定義され、かつ、上記イメージと一致するようにセグメント毎にハンドル30を調節40する。あるいは又はこれに加えて、ユーザは、既知のイメージのプロファイルをトレース（又は自由描写）し、その後、多項式、スプライン、又はベクトル等の数学関数の形状定義物を推定プロファイル上に描くことにより、未知のオブジェクトのプロファイルをその回折パターンから再構成する際に使用し得る、プロファイル及び当該プロファイルの一つ以上の可変例を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ユーザが意図した内容と異なる内容が教示されることによる誤計測や計測失敗が生じるのを防止する。
【解決手段】教示した計測位置４５が、該計測位置２５が設定された輝度プロファイルの輝度勾配部分の開始点および終了点である変曲点４３，４４と共に特定された状態で表示されるので、複数の輝度勾配部分が近接するような複雑な輝度プロファイルにおいて、計測位置が設定された輝度勾配部分を、目視確認することができ、これによって、ユーザが意図した輝度勾配部分とは異なる輝度勾配部分に対して計測位置の教示が行われるのを防止することができる。 （もっと読む）

【目的】検査対象試料の画像を適切に補正した補正画像を生成する装置を提供することを目的とする。
【構成】補正パターン画像生成部２００は、任意座標の画像データに対して、第１の予測モデルに基づく連立方程式を生成する手段２１０と、連立方程式における係数を演算する手段２１２と、係数のｘ方向成分要素和とｙ方向成分要素和を演算する手段２１７と、両画像の位置ずれ量から第２の予測モデルに基づく連立方程式のｘ方向成分係数とｙ方向成分係数とを演算する手段２１８と、第１の予測モデルに基づく一方の方向成分の要素和と第２の予測モデルに基づく逆方向成分の係数とを合成する手段２２０と、合成された合成係数を第１の予測モデルに基づく連立方程式の係数として用いて、任意座標の補正パターン画像データを演算する手段２２２とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ステージの位置を測定するための干渉計等の位置測定装置を用いることなく、基板を的確な位置に位置づけることができる投影露光装置及び投影露光方法を提供する。
【解決手段】基準基板に形成された基準基板基準マークの位置に基づいて、載置台の位置の誤差を補正するための載置台位置補正データを演算し、載置台位置補正データと、露光基板に形成された露光基板基準マークの位置とに基づいて、露光基板基準マークの位置の線形成分の誤差を補正するための線形誤差補正データを、最小二乗法を用いて演算する。 （もっと読む）

【課題】所望の開口と対物レンズとを容易に対向させることを可能にする。
【解決手段】プレート検査装置は、制御装置と、複数の孔２ａが形成されたプレート２を支持する平板３２を有するステージと、ステージが設けられた顕微鏡とを含んでいる。制御装置は、第１〜第３記憶部と、測定部と、算出部と、移動制御部とを有している。算出部は、第１〜第３記憶部４２〜４４に記憶された座標を、Ｘｍ´＝Ｘ１´＋（Ｘｍ−Ｘ１）×（Ｘ２´−Ｘ１´）／（Ｘ２−Ｘ１）、及び、Ｙｍ´＝Ｙ１´＋（Ｙｍ−Ｙ１）×（Ｙ２´−Ｙ１´）／（Ｙ２−Ｙ１）の２式に代入し、平板３２の所定位置からずれた位置に配置されたプレート２の所望の孔２ａの座標（Ｘｍ´、Ｙｍ´）を算出する。そして、移動制御部が、算出部によって算出された座標（Ｘｍ´、Ｙｍ´）と対物レンズの光軸とが一致するように、ステージを制御する。 （もっと読む）