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Fターム[2F065LL05]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 光学系 (17,149) | レンズ;レンズ系 (2,973) | 変倍レンズ (254)

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【課題】 微小な凹凸に加えて周期と変動量の大きな凹凸が存在する測定対象物の表面粗さも検出できるようにする。
【解決手段】 測定対象物OBの表面上を接触しながら移動するスライダ44に対物レンズ305を配置するとともに、スライダ44をプローブ40によって光学ヘッド本体30に弾性的に支持する。レーザ光源301からのレーザ光を対物レンズ305により集光させて測定対象物OBの表面に照射し、測定対象物OBの表面からの反射光をフォトディテクタ308で受光して、フォーカスエラー信号を生成する。フォーカスエラー信号を用いてレーザ光の焦点位置から測定対象物OBの表面位置までの距離に応じて変化する距離を計算して、前記計算した距離に、スライダ44の光学ヘッド本体30に対する相対位置の変動量を加味して測定対象物OBの表面の基準面に対する凹凸の大きさを計算する。 (もっと読む)


【課題】光学画像のパターンと基準画像のパターンとの位置合わせを高い精度で行いつつ、且つ、高速で欠陥検出のできる検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】画像センサから試料の光学画像を取得する工程と、光学画像および判定の基準となる基準画像のいずれか一方について、そのX方向とY方向の移動量をそれぞれα(0≦α<1)とβ(0≦β<1)として、αおよびβと光学画像と基準画像の差分の2乗和との関係を表す方程式を求める工程と、この方程式から得られる差分の2乗和が最小となる(α,β)の組から、位置合わせに最適な移動量を求める工程とを有する。この方程式についてαおよびβの偏微分を解くことにより、位置合わせに最適な移動量を求めてもよい。 (もっと読む)


【課題】本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第1の特徴とする。前記補正は、前記ハードディスクメディアからの反射光の強度を前記反射光の短波長領域をカットした状態とカットしない状態で波長毎に検出し、両者の前記反射光の強度との差に基づいて行なうことを第2の特徴とする (もっと読む)


【課題】光学システムにおいて、位相および振幅情報を含む波面分析、ならびに3D測定を実行する方法および装置、特に、光学システムの画像面のような、中間面の出力の分析に基づく方法および装置を提供する。
【解決手段】 薄膜コーティング、または多層構造の個々の層が存在する表面トポグラフィの測定について記載する。多重波長分析を、位相および振幅マッピングと組み合わせて利用する。マクスウェルの方程式の解に基づき、仮想波面伝搬を用いて、波面伝搬および再合焦によって位相および表面トポグラフィの測定を改良する方法について記載する。このような位相操作方法によって、または広帯域およびコヒーレント光源の組み合わせを利用する方法によって、光学撮像システムにおいてコヒーレント・ノイズの低減を達成する。本方法は、集積回路の分析に適用され、コントラストを高めることにより、または1回のショット撮像における3D撮像によってオーバーレイ測定技法を改善する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、サンプルの厚み情報を短時間で精度よく取得する。
【解決手段】本発明は、取得した位相差像の基準像に対する相関状態を算出し、該相関状態に応じて組織切片TSの厚み情報を取得するようにしたことにより、1つの位相差像から組織切片TSの厚み情報が取得でき、またサンプルの厚み方向の分布を反映した厚み情報を取得することができ、かくして厚み情報を短時間で精度よく取得することができる。 (もっと読む)


【課題】 溝底に照射するレーザビームを利用して切削ブレードの消耗量を正確に管理可能な切削ブレードの消耗量管理方法を提供することである。
【解決手段】 切削装置における切削ブレードの消耗量管理方法であって、レーザポインタの出射ビームが撮像手段の焦点を通過するように設定し、切削ブレードで被加工物を切削した切削溝中にレーザビームを照射してレーザビームのビームスポットが切削溝の溝底で撮像手段の焦点に一致するように撮像手段を高さ方向(Z軸方向)に移動させる基準位置合致工程を遂行する。被加工物を切削ブレードで適宜切削加工した後に、ビームスポット形成工程及び基準位置合致工程を遂行し、前回実施した基準位置合致工程後の撮像手段のZ軸方向の位置と、今回実施した基準位置合致工程後の撮像手段のZ軸方向の位置の差から、切削ブレードの消耗量を割り出す。 (もっと読む)


【課題】 ウェハステージとマスクステージのアライメントマークを1台の撮像装置で撮像可能とする。
【解決手段】 マスクステージ18は、マスクステージマーク20を備え、マスク16を支持する。ウェハステージ32は、ウェハステージマーク42を備え、ウェハ30を支持する。撮像装置48は、マスクステージマーク20が撮像可能となる状態と、ウェハステージマーク42が撮像可能な状態とに切替えられる。制御部40は、撮像装置48によって撮像されたマスクステージマーク20の位置情報とウェハステージマーク42の位置情報に基づいてアライメントを実行する。 (もっと読む)


【課題】ワーク表面に発生したプローブの二次像とプローブの先端部との位置関係から、プローブの先端部とワーク表面との距離を測定する距離測定装置を提供する。
【解決手段】LEDランプ7からプローブ6に光を照射することによりワーク9の表面に現れる二次像とプローブ6とを撮像した画像において、プローブ6のエッジを特定するエッジ特定部101と、二次像の外縁に沿った直線を画像上に挿入する直線挿入部102と、上記エッジと上記直線との重なりを判定する重なり判定部103と、を備え、1以上のLEDランプ7、撮像装置、及びプローブ6が、ワーク9の表面に対して一体に移動可能に保持されている。それゆえ、距離測定装置100は、ワーク9の表面に発生したプローブ6の二次像とプローブ6のエッジとの位置関係から、プローブ6のエッジとワーク9の表面との距離を測定することができる。 (もっと読む)


【課題】 表面の状態を適切に評価する。
【解決手段】 波長380nm〜500nmの光を出射し、該範囲以外の可視光領域の光を出射しない光源と、光源を出射した光を集光する集光光学系と、集光光学系で集光された光の光路上に配置され、評価対象物を保持し、集光光学系で集光された光が評価対象物の表面に入射するように、評価対象物を移動させることのできるステージと、集光光学系で集光された光がステージに保持された評価対象物の表面に入射して生じる光のうち、正反射光と透過光とを除いた結像されない光の、ある立体角内へ散乱する分のパワーを計測する計測装置とを有する半導体薄膜の表面評価装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】1台のステレオカメラで周辺を見る画角を広げることが可能なシステムにおいて、統合処理や画像変換処理の負担を増大させることなく、かつ、対応点探索における対応付け精度を低下させることのない周辺表示装置を提供する。
【解決手段】ステレオカメラSCで撮影された画像データが入力される画像入力部11と、画像入力部11から出力される画像データに基準点および比較点を設定するポイント設定部と、基準点が設定された基準画像データおよび比較点が設定された比較画像データにウインドウを設定するウインドウ設定部13と、ウインドウが設定された画像データに対応点探索処理を施す対応点探索処理部14とを備えている。 (もっと読む)


【課題】試料表面のパターン形状の良否を、環境温度変化の影響を受けることなく判定する表面検査方法を提供する。
【解決手段】偏光子7及び対物レンズ9を含み、ウェハ10の表面を照明する照明光学系21と、ウェハ10の表面からの反射光を、対物レンズ9を介して集光し、偏光子7とクロスニコル条件を満たすように配置された検光子12を通して対物レンズ9の瞳面の像を結像する検出光学系22と、瞳面の像を検出する第1の撮像素子17と、を有する表面検査装置100による表面検査方法は、第1の基準像を取得する第1のステップと、検査像を取得する第2のステップと、第2の基準像を取得する第3のステップと、第1及び第2の基準像の階調値の差を求め、当該差が所定値を越えたときに、検査像の階調値を補正する第4のステップと、補正後の検査像及び第1若しくは第2の基準像の階調値を用いてウェハ10の欠陥を検出する第5のステップと、を有する。 (もっと読む)


【課題】測定領域が狭小の場合のみならず比較的広大の場合であっても、被測定物の三次元形状を測定可能とする三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】色が規則的に経時変化する光パルスを生成するパルス光源30及びチャープ導入装置32と、生成された前記光パルスをワーク24の表面26に照射し、前記ワーク24で反射された前記パルス光を所定のタイミングで所定の光量だけ切り出し、前記光パルスの反射光像を取得する反射光像取得部70と、取得された前記反射光像の二次元情報及び色情報を用いてワーク24の三次元情報を取得するカラー二次元検出器52とを備え、反射光像取得部70は、ワーク24に照射される前記光パルスの照射領域42を拡縮する焦点位置補正部66と、拡縮された照射領域42に応じて前記光パルスを切り出す前記所定の光量を調整するシャッタ動作補正部68とを有する。 (もっと読む)


【課題】誤差の少ない高精度な位置検出が可能な平面モータを実現する。
【解決手段】プラテン上に配置されたスライダをX軸方向及びY軸方向に位置制御する平面モータにおいて、
前記スライダにレーザ光源、レンズおよびイメージセンサを搭載し、前記レーザ光源から出射したレーザ光を前記プラテンで反射させ前記レンズを介して前記イメージセンサで受光するように構成した。 (もっと読む)


【課題】光導電性感光体におけるフィラー微粒子を分散させた表面層の膜厚及びフィラー微粒子を分散させた表面層を含む感光層の膜厚を、同時に且つ精度良く確実に測定すること。
【解決手段】中間層及び感光層を有し、感光層の所定厚さ部分が表面層として形成された光導電性感光体の膜厚を測定する際に、光源からの光を光導電性感光体に垂直入射し、表面層表面において反射した第1の反射光と、中間層表面において反射した第2の反射光とが干渉した第1の干渉光、及び、第1の反射光と、入射光の中で表面層の中間層側の面において反射した第3の反射光とが干渉した第2の干渉光を、分光手段に導いて分光し、分光した分光スペクトル強度から反射率を演算する際に、反射率を任意の大きさに拡大することにより干渉波形を求め、干渉波形の低周波成分に基づき表面層の膜厚を演算算出し、干渉波形の高周波成分に基づき感光層の膜厚を演算算出することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被検面のパターン又は反射率分布の影響を低減させて、被検面の法線方向の位置情報を高精度に検出する。
【解決手段】計測光L1をレチクル面Raに照射し、レチクル面Raからの反射光L2を光電センサ37で受光して、レチクル面Raの面位置情報を検出する装置において、計測光L1をレチクル面Raに照射して反射光L2を受光する対物レンズ35と、対物レンズ35を介した反射光L2を光電センサ37に通すピンホール板36とを含む共焦点光学系と、計測光L1にレチクル面Ra上での照射面積を広げるように、かつ反射光L2にピンホール板36上での照射面積を狭くするように位相分布を付与する位相板33とを備える。 (もっと読む)


【課題】測定範囲を拡大することが可能な形状測定装置及び形状測定方法を提供すること。
【解決手段】格子パターンを有するパターン素子30と、パターン素子30と投影レンズ22とビームスプリッタ40とを介して格子パターンを測定対象物60に投影する投影部と、測定対象物60に投影された格子パターンをビームスプリッタ40を介して撮像する撮像部70と、撮像部70によって撮像された画像のコントラスト値を検出し、検出されたコントラスト値に基づき前記測定対象物の形状を測定する測定部82とを有し、測定部82が、焦点位置を変化させて撮像された2つの画像のコントラスト値を検出し、検出された2つのコントラスト値に基づき前記測定対象物の形状を測定することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】照明ユニットの交換費用を抑えることができとともに、生産効率の向上を図ることができ、さらに、誤った光量のまま使用してしまう危険もなくすことができる光学式測定装置を提供する。
【解決手段】測定装置本体1と、この測定装置本体に着脱可能に装着されLED44、49を光源とする照明ユニット4,5と、光量指令値に応じて照明ユニットを制御する照明用コントローラ6とを備えた光学式測定装置であって、照明ユニットには、光量指令値に対応する光量を発生するためのキャリブレーション値を記憶した記憶部48が設けられており、照明用コントローラは、光量指令値が与えられた際、この光量指令値に対応するキャリブレーション値を照明ユニットの記憶部から読み出し、このキャリブレーション値に基づいてLED44,49を制御する。 (もっと読む)


【課題】高速近似焦点用システムおよび方法を提供する。
【解決手段】いくつかの後続する検査動作をサポートするために十分に焦点合わせされた、近似的に焦点合わせされた画像を提供する高速近似焦点動作である。これらの動作は、平面ワークピースを検査する場合に主流である連続検査動作用の画像を提供するために用いられる場合に特に有利である。検査スループットの改善がもたらされる。なぜなら、従来の自動焦点動作とは対照的に、高速近似焦点動作は、最良の焦点合わせされた画像を決定するための基礎として実行モード中に画像スタックを取得しないからである。より正確に言えば、学習モード中に特徴固有の代表焦点曲線および焦点閾値が決定され、実行モード中に用いられて、いくつかの検査動作を確実にサポートする近似的に焦点合わせされた画像を提供する。一実施形態において、許容可能な、近似的に焦点合わせされた検査画像が、2つの対応する画像を提供する2つの焦点調整移動の範囲内で提供される。調整移動は、学習モードにおいて提供される特徴固有の代表焦点曲線に基づいている。 (もっと読む)


【課題】
被検体測定面の水平面に対する傾きと、回転する被検体の場合には回転中心に対する偏芯をほぼ同時に検出し測定する。
【解決手段】
レーザ光源1からの光束を回転する被検体Dに向かわせ、その測定面d1からの反射光をテレセントリック対物レンズ7で検出して対物レンズ10で受光部11に投影する傾き測定用光学系13を形成する。また被検体測定面d1に予め施した指標をテレセントリック対物レンズ7で検出して対物レンズ10で受光部11に投影する顕微鏡用光学系15を形成する。
両光学系13、15を結合し、夫々が検出した像を共通の受光部11に投影し、表示部Cに表示して測定する。


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【課題】顕微鏡の被写界深度を大幅に超えた立体形状を持つ被測定物を、被測定物や顕微鏡等を移動させることなく、短時間で効率的に、高精度な形状測定を行うことができる形状測定装置および形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る形状測定装置1は、被測定物100に向けて平行光Rを照射する照明装置30と、被測定物100を挟んで照明装置30と対向する位置に、前記平行光の光軸と自身の光軸が一致するように配置される被写界深度の大きな顕微鏡40と、顕微鏡40により拡大された被測定物100の像を、0.2μm乃至2μmの分解能で撮像するカメラ50と、平行光Rが被測定物100の測定部分の外周形状を映し出すように平行光R内に被測定物100の測定部分を配置する保持装置20と、を備える。 (もっと読む)


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