【課題】 電気光学パネルの表面が検査基準面に対して傾いている場合であっても、正確な２次元配光分布を取得して適正な検査を行うことが可能な電気光学パネルの検査装置および電気光学パネルの検査方法を提供すること。
【解決手段】 検査装置１は、液晶パネル４０を保持するステージ４７と、検査基準面６５に垂直な方向からレーザ光を照射するレーザ光源６０と、液晶パネル４０の表示光、および液晶パネル４０の表面による反射レーザ光の２次元配光分布に基づく受光画像データを出力する２次元配光測定手段４４と、受光画像データを補正するデータ処理手段４０３とを備える。前記補正は、受光画像データの座標を、反射レーザ光の受光像の重心座標を始点とし、検査基準座標を終点とする位置ベクトルの分だけ平行移動するものである。ここで、検査基準座標は、レーザ光が検査基準面で反射したと仮定したときの反射成分の受光像の座標とする。 （もっと読む）

【課題】顔面認識ソフトウエアを使用するにあたりその判断を精度を向上させた作像装置を提供する
【解決手段】
作像装置は所定の視野に沿って赤外信号を放出する赤外線源（３０）と、視野内の対象物から反射された赤外照射を受け取る赤外センサ（３４）とを使用する。顔面認識ソフトウエアを含むプロセッサは人間を特定し、追跡するように人間の顔面を検出するために使用される。赤外線源は、所定の時間期間だけビデオデータの所定数の駒についてパルス作動させられ、次いで、ビデオデータの同じ数の駒にわたって所定の時間期間だけパルス停止させられるようになっており、上記プロセッサは、背景を排除するように、上記駒の差を求める駒差分を行うようになっている。 （もっと読む）

【課題】 酸化膜などの透明膜が存在する被検査対象に対して、回路パターンに起因するノイズを低減させることで、実害になる異物又は欠陥を高感度に検出可能とする。
【解決手段】 基板試料を載置してＸ-Ｙ-Ｚ-θの各方向へ任意に移動可能なステージ部と、回路パターンを斜方から照射する照明系と、照明された検査領域を上方および斜方から検出器上に結像する結像光学系とを有し、該照明系の照射により前記回路パターン上に発生する散乱光および回折光を集光する。更に、回路パターンの直線部分からの回折光を遮光するためにフーリエ変換面上に設けた空間フィルタを有する。更に、上記検出器で受光された上記照射された試料上からの散乱反射光を電気信号に変換し、該変換された電気信号を繰り返すチップ間で比較して不一致により試料上の異物として検査する。 （もっと読む）

【課題】
より微細化されたパターン上の欠陥の寸法を従来の欠陥検査装置で求めると、同じ欠陥をＳＥＭで測定したときと異なる値になってしまう。そこで、欠陥検査装置で検出した欠陥の寸法値を高精度に算出して、ＳＥＭで測定した値に近づける。
【解決手段】
欠陥検査装置で求めた欠陥の寸法を、欠陥の特徴量または種類に応じて補正することにより、高い精度で欠陥の寸法を算出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】
新幹線から地下鉄まで幅広く営業車に搭載可能で、装置高さを低くすることができるトロリ線摩耗量測定光学系を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、ポリゴンミラーの回転を水平面とし、凹面鏡が所定の水平面に対応する中心線上に受けて所定の水平面より下側に反射するようにしかつレーザ光源およびポリゴンミラーのうちのいずれか低い側の設置面より上側でその反射光をミラー（反射鏡）で受けてトロリ線側に反射する反射光を発生するようにする。これにより、トロリ線摩耗量測定装置の測定光学系の高さを凹面鏡およびポリゴンミラーのいずれかの設置面を基準として実質的にポリゴンミラーの高さあるいは凹面鏡の高さのいずれか高い側までに抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】 ガラス体へ直接接触することなく色収差に基づいて熱ガラス体の厚さを測定する方法を提供する。
【解決手段】 本発明方法を、光源からの光ビームを収束装置を用いて生成直後の熱ガラス体上へ集束させ、ガラス体からの反射光を分光計へ導いて反射光スペクトルを得、ガラス体の前面及び後面それぞれからの反射光の反射光強度が最大となる２つの波長を見出し、見出した２つの波長間の差からガラス体の厚さを測定し、厚さの測定中収束装置の温度を１２０℃以下に維持し、及び少なくとも１個の熱遮断性フィルターを用いて集束装置への熱放射の到達を実質的に遮る各工程から構成する。 （もっと読む）

【課題】 マーカーが小さくても発見や認識が容易で、撮像における被写体フレームから多少はみ出してもマーカー中心位置を知るための方法と装置を提供すること。
【解決手段】 光学式モーションキャプチャシステムにおいて、被写体に対向する受光手段の前面に配設される合焦調整手段によって、受光手段で受けるマーカー像を非合焦状態、または波長によって合焦・非合焦状態を選択させることで、マーカー像を通常の合焦状態はもとより非合焦状態によるより大きな像として撮像し、それ故に得られた撮像画像中のマーカー発見を容易にしたり、またマーカー中心位置が多少被写体フレームからはみ出したとしても中心を含まないマーカー像からマーカー像の中心位置を算出し、その位置がマーカーの位置に対応すると特定する。 （もっと読む）

【課題】 ステレオ法におけるステレオ対応づけのために計測対象に対して投光するパターンとして、より適切なパターンの生成を実現する。
【解決手段】 パターン生成装置２２は、Ｍ値（Ｍは２以上の整数）の数値を項とする数列を生成する数列生成部２２ａと、数列生成部２２ａによって生成された数列の各数値を、当該各数値に応じた階調値に変換することにより画像データを生成する画像データ生成部２２ｂとを備える。数列生成部２２ａは、生成する数列を構成する所定長の部分数列について、当該各部分数列によって表されるベクトルが互いに方向の異なるベクトルとなるように、上記数列を生成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、反射防止フィルムの製造中、フィルム走行状態でフィルム全巾にわたり連続的に反射防止層の膜厚を測定することが可能な、反射防止フィルムの反射防止層の膜厚を測定する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】反射防止フィルムの反射防止層の膜面に３６５〜４００ｎｍの長波長域紫外光を照射し、その膜面および膜の裏面からの反射光を相互に干渉させ、その干渉により得らた濃淡の光像（光信号）によって薄膜の膜厚を測定することを特徴とする反射防止フィルムの反射防止層の膜厚を測定する方法である。 （もっと読む）

【課題】 照明光の波長程度以下の微細パターンを、安価に形成可能な露光技術を提供する。
【解決手段】 照明光を透光性平板Ｐ１上の第１の回折格子及び透光性平板Ｐ２上の第２の回折格子に照射して干渉縞を形成する工程と、干渉縞計測系４１を用いてその干渉縞の周期に対して所定の関係を持つ計測格子とその干渉縞とを相対走査することによって、その干渉縞の位置を計測する工程と、その計測された干渉縞の位置を用いて、ウエハＷ上の所定位置に、その干渉縞によるパターンを露光する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】ごく短時間で、吊り上げビーム等の可動物体により、コンテナ等の固定物体の位置を非常に正確に識別可能にする装置を提供する。
【解決手段】本発明は、固定物体に対する可動物体の位置決定装置に関する。
この装置は、少なくとも部分的に固定物体を照射するために可動物体に固定された赤外線光ビームの照射手段４６と、可動物体に固定された反射ビームの受光手段２１と、反射ビームの強度変化の境界を画定するために反射ビームを分析する分析手段４０、４１とを含む。照射手段は、少なくとも一つの発光ダイオードから構成され、ビームは、固定物体に対して垂直方向に集束され、かつ角度がオフセットされる。
２個の物体の相対的な位置決めに用いられる。 （もっと読む）

【課題】 照明光の波長程度以下の微細パターンを、安価に形成可能な露光技術を提供する。
【解決手段】 光源１からの照明光の光路中に、順に第１の回折格子が形成された透光性平板Ｐ１と第２の回折格子が形成された透光性平板Ｐ２とを直列に配置し、前記第２の回折格子からの回折光をウエハＷに照射し、ウエハＷ上に干渉縞パターンを露光する露光装置であって、レーザ干渉計４０及び８６を用いて透光性平板Ｐ２とウエハＷとの位置関係を計測し、レーザ干渉計８２及び８６を用いて透光性平板Ｐ１と透光性平板Ｐ２との位置関係を計測し、これらの計測値に応じて、それらの位置関係を所定の位置関係に設定する。 （もっと読む）

【課題】 装置の設置作業を簡略化することのできる三次元位置測定装置及びソフトウエアプログラムを提供する。
【解決手段】 対象領域の第１の平面と第２の平面にパターンを形成するパターン光を投影する投影装置１１と；パターン光が投影された、対象物の存在する対象領域を撮像する撮像装置１２と；対象領域に対象物が存在しないときに第１の平面と第２の平面に投影されたパターン光を基準として、撮像された像上のパターンの移動を測定し、該測定されたパターンの移動に基づいて、対象物に投影されたパターン光の三次元位置を算出する測定手段１４と；パターン光１１ｂの投影範囲に比較して十分に広いものと仮想した仮想平面に投光され、投影装置１１と撮像装置１２との光学配置に基づいて算出される仮想のパターン光と、実際に撮像されるパターン光とを比較して、第２の平面での基準の位置を算出する基準位置算出手段２４を備える三次元位置測定装置。 （もっと読む）

【課題】 レーザ光の偏光方向に起因する問題を解消して、レーザ光の自己結合効果を確実に生起して計測対象物までの距離を信頼性良く計測することのできる簡易な構成の反射形レーザ測長器を提供する。
【解決手段】 ＶＣＳＥＬ型のレーザダイオードのような自己結合型のレーザ素子から波長変調したレーザ光を計測対象物に照射すると共に、上記計測対象物により反射されて前記レーザ素子に戻った反射レーザ光と前記照射レーザ光との自己結合作効果により生じる変調レーザ光を解析して前記測定対象物までの距離を測定する反射形レーザ測長器であって、特に前記計測対象物に前記レーザ光を反射する再帰反射体を、具体的には照射レーザ光を反射して円偏波した反射レーザ光を得るコーナキューブリフレクタまたはキャッツアイリフレクタを設ける。 （もっと読む）

【課題】 高精度且つ迅速に液浸液の屈折率の変動を測定する測定装置、及びそれを利用した露光方法及び装置を提供する。
【解決手段】 マスクのパターンを被露光体に投影する投影光学系を有し、前記投影光学系と前記被露光体との間に液体を満たし、前記投影光学系及び前記液体を介して前記被露光体を露光する露光装置であって、前記液体の屈折率を測定する測定装置を有し、当該測定装置は、前記液体を収容すると共に光を透過するセルと、前記セル内の前記液体によって屈折された前記光の入射位置を検出する検出部とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 画像から求めた重ね合わせずれ量が正しいか否かの判断を行うことができる重ね合わせ測定装置を提供する。
【解決手段】 基板１１の異なる層に形成された第１マークと第２マークの画像を測定波長域の光によって取り込み、該測定波長域での画像に基づいて、第１マークと第２マークとの重ね合わせずれ量を求める第１計測手段(１３〜２７)と、第１マークと第２マークの画像を測定波長域とは異なる評価波長域の光によって取り込み、該評価波長域での画像に基づいて、第１マークと第２マークとの重ね合わせずれ量を求める第２計測手段(１３〜２７)と、第１計測手段が測定波長域で求めた重ね合わせずれ量と、第２計測手段が評価波長域で求めた重ね合わせずれ量とに基づいて、測定波長域での重ね合わせずれ量の信頼性に関わる指標を算出する算出手段２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】
欠陥を高い精度で分類することができる検査装置を提供することにある。
【解決手段】
明るさが近いダイ間の画像信号同士の差分画像信号に対して欠陥検出しきい値と該欠陥検出しきい値よりも低い特徴量抽出のしきい値とを設けることで、欠陥の各種特徴量を精度よく抽出する検査装置。 （もっと読む）

本発明は少なくとも１個の照明体（１４）と、光軸に沿って測定する対物レンズを備えた映像処理センサ装置（１２）とからなる透過光照明式座標測定装置に関する。照明体と映像処理センサ装置を一緒に位置決め及び移動しないでも、高い精度で測定を行うことができるように、少なくとも１個の照明体（１４）が拡散光を放射するように形成され、照明体と測定物（１０）の間に例えば貫通穴（３２、３４）を有するハニカム体として形成されたフィルタ（１６）が配置され、この貫通穴が光軸（３０）に対して所定の限界角αより小さいビームを通すことを提案する。
（もっと読む）

【課題】
半導体基板上の絶縁膜に生じるスクラッチを高感度で検査する。
【解決手段】
ステージ９上に載せられたウェーハ８の上の研磨された絶縁膜の表面に発生したスクラッチに対して表側から、光源１３より発せられて環状のフィルタ３を透過させた照明光を当てる。ウェーハ８での反射光に対し、対物レンズ４の後ろ焦点位置に配した環状の位相板５は、零次回折光の強度低減と位相の１／４波長遅延とを行う。光電変換器７は、零次回折光と高次回折光の干渉によってスクラッチの像のコントラストを上げられた光りを電気信号に変換する。全体制御部１１は、この電気信号に基づいてスクラッチを検出する。 （もっと読む）

【課題】 実際のマークの形状が設計値とは異なっており、又は実際のマーク検出装置の特性がずれていても計測エラーを生じずにマーク位置を検出できるようにする。
【解決手段】 ウエハＷ上に形成されたウエハアライメントマーク（例えば、ＹマークＳＹＭ及びθマークＳθＭ）のマーク位置は、これらのマークを撮像して得られた画像信号に対し所定の画像処理を施すことにより求められる。この画像処理を施す際に、ラインパターンＳＭＬ１〜ＳＭＬ４の幅を示す情報及び間隔を示す情報を変更するとともに、その変更の適性度を算出し、この適性度が所定基準を満たすものを用いてマーク位置を求める。 （もっと読む）