【課題】光パルスの検出タイミングにかかわらず、奥行き方向の空間分解能及び測定精度を向上可能である三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】色が規則的に経時変化する光パルスを生成するチャープ導入装置と、前記光パルスをワークに照射し切り出すことで該光パルスの反射光像を取得する反射光像取得部と、反射光像を分光し複数のカラーチャンネルでの各色情報を二次元位置毎に取得する色情報取得部とを備える。前記各色情報に対応する分光特性は、前記光パルスの波長範囲において少なくとも２つが交差する。 （もっと読む）

【課題】対象物の変位を正確に検出することが可能な光学式変位計を提供する。
【解決手段】投光部１は、偏光方向が互いに異なる第１および第２の光を選択的にワークＷに照射する。ワークＷからの反射光が、受光レンズ２２を通して受光素子２１に入射する。波形生成部は、受光素子２１による第１および第２の光の受光量分布を示す第１および第２波形データを生成する。波形処理部７は、第１および第２の波形データの間で互いに対応するピークの比を算出し、算出された比に基づいて、第１および第２の波形データの各々から１つのピークを選択し、そのピークの位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】反射面を通過した光束に発生する偏光成分による相対的な位置ずれなどの影響を実質的に受けることなく、被検面の面位置を高精度に検出することのできる面位置検出装置。
【解決手段】投射系は、第１反射面７ｂ，７ｃを有する投射側プリズム部材７を備えている。受光系は、投射側プリズム部材に対応するように配置された第２反射面８ｂ，８ｃを有する受光側プリズム部材８を備えている。第１反射面および第２反射面を通過した光束の偏光成分による相対的な位置ずれを補償するための位置ずれ補償部材をさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】欠陥散乱光の偏光特性に依存されずに欠陥像を顕在化する空間フィルタリング技術と正常パターンの明るさ飽和を抑制して欠陥捕捉率を向上する欠陥検査方法とその欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】検出光路を偏光分岐して少なくても一つ以上の光路にてアレイ状の空間フィルタを配置し、正常パターンからの回折光や散乱光をフィルタリングすることを特徴とする。また、正常パターンの散乱光量に応じて照明光量或いは／及び検出効率を画像検出中に制御することにより明るさの飽和を抑制した画像を得る。 （もっと読む）

装置、方法およびコンピュータアクセス可能な媒体が設けられうる例示的な実施形態は、構造の少なくとも１つの特徴の決定を容易にすることができる。例えば、第１の軸に沿う少なくとも１つの第１の透過された放射と、第２の軸に沿う少なくとも１つの第２の透過された放射とを提供するように構築された少なくとも１つの第１の構成部を用いることができる。第１および第２の透過された放射は、構造に衝突し、第１および第２の戻り放射それぞれを生成することができる。第１および第２の軸は、互いに対して０より大きい所定の角度で設けられることができる。さらに、少なくとも１つの第２の構成部は、第１および第２の戻り放射に関連付けられたデータを受信するように構成され、かつ第１および第２の軸に沿う構造と少なくとも１つの構成部との間の少なくとも１つの相対速度を決定するように構成されることができる。 （もっと読む）

【課題】
被測定用光ファイバのみを用いてブリルアン散乱を測定可能なブリルアン散乱測定装置を提供すること。
【解決手段】
プローブ光ａ_０とポンプ光ｂ_０とを生成する測定用光生成手段と、該測定用光生成手段で生成されたプローブ光とポンプ光とを、偏波面が異なる状態で合成する偏波合成手段４０と、該偏波合成手段からの合成光が一端に入射される被測定用光ファイバ４１と、該被測定用光ファイバの他端側に配置され、合成光の偏波面を回転すると共に、合成光中の少なくともプローブ光を反射させて該被測定用光ファイバの他端に再入射させる回転反射手段４２と、該被測定用光ファイバの一端側に配置され、該回転反射手段により反射したプローブ光ａ_３を検出するプローブ光検出手段とを有することを特徴とするブリルアン散乱測定装置である。 （もっと読む）

【課題】照明ビームの偏向角を高精度で測定する。
【解決手段】化学線波長での表面プラズモン共鳴効果を示すよう構成されたグレーティングセンサを用いて、拡大された連続的な角度範囲に対して照明ビームの偏向角が高精度で測定される。この放射ビーム測定システムおよび方法は、マスクを用いたリソグラフィツールおよびマスクレスリソグラフィツールの両方に適用可能である。制御システムは、ＳＰＲ効果が検出されたか否かに基づいて、適切な較正アルゴリズムを採用する。ＳＰＲの影響を受けた回折次数の相対的な強度シフト、および／またはＳＰＲ効果の影響を受けていない回折次数の相対的な位置および傾斜の変化が、採用された較正アルゴリズムの基礎として用いられる。 （もっと読む）

【課題】光学式の回転センサを用いた伸縮測定装置を提供する。
【解決手段】回転軸と一定の距離にある第１円周を表面の一部とし、回転軸の周りに回転する第１回転体と、第１円周に沿って、かつ、第１回転体の表面にＮ極またはＳ極を向けて配置された複数の第１磁石と、第１円周と対向するように第１回転体の外部に配置され、磁界の状態を検出する第１近接センサ、第２近接センサを備える回転センサと、対象物に取り付けるワイヤーと、ワイヤーが巻きつけられるワイヤー巻取り部と、ワイヤーの張力を一定に保つように、ワイヤー巻取り部を回転させ、ワイヤーの繰り出しまたは巻取りを行う張力保持部と、基準物とワイヤー巻取り部とを固定する固定部と、を備え、張力保持部のワイヤーの繰り出しまたは巻取りの量に応じて、第１回転体と第２回転体が回転する伸縮測定装置。 （もっと読む）

本開示の一態様の方法は、顕微鏡を用いて、直交偏光状態を有する複数の成分を含む光を試験対象物に向けるとともに試験対象物から反射された光を検出器に向けること、光の成分間の光路長差（ＯＰＤ）を変化させること、成分間のＯＰＤを変化させながら検出器から干渉信号を収集すること、収集された干渉信号に基づいて試験対象物に関する情報を決定することを備える。 （もっと読む）

【課題】高光出力かつ高感度を有するとともに小型化することの可能な双方向光モジュールを提供すること。
【解決手段】本発明の双方向光モジュール１００は、光ファイバ７に光を出射し、光ファイバ７から戻り光を入射させるものであって、光ファイバ７に入射する光を発する複数の発光素子１１０、１２０と、光ファイバ７から出射された光を受光する受光素子１７０と、発光素子１１０、１２０から光ファイバ７へ向かう順方向における光路と光ファイバ７から受光素子１７０へ向かう逆方向における光路とを相違させる非相反部１５０とを備える。このとき、複数の発光素子１１０、１２０から発せられた、光ファイバ７に入射する光の偏波面は互いに直交し、非相反部１５０は、複数の発光素子１１０、１２０から発せられ、光ファイバ７から受光素子１７０へ向かう戻り光を１つの受光素子１７０へ出射する。 （もっと読む）

【課題】微小機械-電気構造から構成された振動型発電装置の開発や保守管理に用いるのに適した振動変位計測装置を提供する。
【解決手段】先端にレンズなどの集光機能が付加され、振動緩衝のため粘弾性材料が使用されている、最大群遅延差が1ナノ秒／メートル以下のマルチモードファイバーを用いた光ファイバーケーブルによるプローブ部１と、連続発振するレーザー光源２−１による光源部２と、フォトダイオードによる光電変換部３と、光干渉ビート信号を配送する光サーキュレータ１０と、発電電圧又は発電電流値、及び振動変位情報を含む干渉ビート信号をディジタル信号に変換する信号収集部４と、電子計算機による解析部５と、記憶部６とを構成要素として有し、振動の瞬時変位量検出に光ホモダイン干渉計の原理を用いている。 （もっと読む）

【課題】温度変化や振動等の環境に強い光画像計測装置を提供する。
【解決手段】光カプラ４は、直線偏光の低コヒーレンス光Ｌ０を、それと同じ偏光軸方向を有する直線偏光の信号光ＬＳと参照光ＬＲとに分割する。信号光ＬＳは、ＰＭファイバ６により偏光軸方向を保持しつつ被検眼Ｅに導光され、眼底Ｅｒを経由後、このＰＭファイバ６を通じて光カプラ４に戻ってくる。参照光ＬＲは、ＰＭファイバ５により偏光軸方向を保持しつつ参照ミラー１４に導光され、参照ミラー１４に反射された後、このＰＭファイバ５を通じて光カプラ４に戻ってくる。光カプラ４に戻ってきた信号光ＬＳと参照光ＬＲは、互いに重畳されて干渉光ＬＣを生成する。干渉光ＬＣは、スペクトロメータ３０により検出され、その検出信号に基づいてコンピュータ４０が被検眼Ｅの画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光ファイバの長尺方向について歪み及び／又は温度を高精度かつ高空間分解能でより高速に測定し得る分布型光ファイバセンサを提供する。
【解決手段】本発明に係る、連続光及び内側に向かうほど光強度が大きくなるように光強度が階段状になった光パルスをそれぞれポンプ光及びプローブ光として検出用光ファイバ１８に入射させ、これら間で生じるブリルアン散乱現象に係る光に基づいて検出用光ファイバ１８の歪み及び／又は温度を測定する分布型光ファイバセンサ１は、連続光を第１周波数間隔で掃引しながら検出用光ファイバ１８に入射させ、この際に検出用光ファイバ１８から射出されるブリルアン散乱現象に係る光の光強度が所定条件を満たした場合に、この所定条件を満たした周波数を含む所定周波数範囲において連続光を第１周波数間隔より小さい第２周波数間隔で掃引しながら検出用光ファイバ１８に入射させる。 （もっと読む）

【課題】従来技術のもとでこれまでに行うことができた分解能よりも高い分解能で変位を測定し、制御するための改善された方法及び装置を提供する。
【解決手段】干渉計コアに誘導される光ビームを含み、干渉計コアは光ビームを第１の成分のビーム及び第２の成分のビームに分割し、第１の成分のビームはリトロー角で回折格子に誘導され、干渉計コアにより受光され、第２の成分のビームと合成され、合成された第１の成分のビーム及び第２の成分のビームは、合成された第１の成分のビーム及び第２の成分のビームを測定し回折格子の変位を判定する検出器に誘導される、変位を測定するための装置や方法である。 （もっと読む）

【課題】 位置または位置姿勢計測において，複数の計測対象物体が同じ指標を持っているときに各物体の位置または位置姿勢が計測できなくなる。
【解決手段】 撮像装置によって計測対象空間を撮像し、該撮像画像中に撮像されている前記計測対象物体の投影像の画像特徴を抽出する手段と、撮像装置とは別の手段によって夫々の計測対象物体の概略の位置を検出する手段と，得られた夫々の計測対象の位置情報を利用して前記画像特徴が前記複数の計測対象のうちのいずれの計測対象の投影像から得られたものであるかを区別する手段と、区別された前記画像特徴を利用して個々の計測対象の位置または位置姿勢を算出する手段とにより，複数の計測対象を区別しながら位置または位置姿勢の計測を実現する。 （もっと読む）

本発明は、殊に可動基板上に積層プロセス中に真空内で積層される薄い層の層厚測定のための光学式モニタリングシステムに関する。ここでは基準光線路内に入力され、第１のピエゾ圧電式または電子ひずみ式または磁気ひずみ式光チョッパによって解放された光源の光の光強度が基準フェーズにおいて光検出器ユニットによって検出される。光源の光は測定フェーズにおいて第１の測定光線路内に入力され、第２のピエゾ圧電式または電子ひずみ式または磁気ひずみ式光チョッパによって解放された光は基板上に案内され、基板によって反射されたまたは透過された光の光強度は第２の測定光線路を介して光検出器ユニットによって検出され、少なくとも１つの暗フェーズにおいて残光強度が光検出器ユニットによって検出される。ここで基準フェーズ、測定フェーズおよび暗フェーズは光チョッパを介して時間的にずらされ、基板の位置に依存してデジタル調整される。
（もっと読む）

本発明は、回折パターン（３）が加えられている物体（２）の並進（T）を検出するシステム（１）に関する。該システムは、前記回折パターンに入射光ビーム（I）を与え、前記回折パターンからの回折光ビーム（D）を得る手段（４）と；前記入射光ビームと前記回折ビームとの間の干渉によって位相差を測定する手段（４）と；前記測定された位相差に基づいて前記並進を検出する手段（４）とを有する。本発明はさらに、物体（２）の並進を検出する方法；再方向付け装置６および周波数多重システムに関する。
（もっと読む）

（ｉ）第１の偏光および第１の周波数を有する第１のビーム成分と、第１の偏光と異なる第２の偏光および第２の周波数を有する第２のビーム成分を含むビームを、光接続を使用して干渉計ヘッドに向ける工程と、（ｉｉ）第１のビーム成分の偏光を第２の偏光まで回転させる工程と、（ｉｉｉ）第２のビーム成分の偏光を第１の偏光まで回転させる工程と、（ｉｖ）光接続を使用して、回転された偏光を有するビームを干渉計ヘッドから戻す工程と、を含む方法。例えば、この向ける工程は、第１のビーム成分を光接続の第１のファイバに向ける工程と、第２のビーム成分を光接続の第２のファイバに向ける工程とを含んでもよい。第１のビーム成分は、第２のファイバを使用して戻してもよく、第２のビーム成分は、第１のファイバを使用して戻してもよい。
（もっと読む）