【課題】パターン検査において、膜厚の違いやパターンの太さの違いなどから生じる比較画像間の明るさむらを低減し、ノイズや検出する必要のない欠陥に埋没した、ユーザが所望する欠陥を高感度、かつ高速に検出するパターン検査技術を実現する。
【解決手段】同一パターンとなるように形成されたパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、並列に動作する複数のＣＰＵを実装した処理システムを用いて構成される画像比較処理部１８を備えて、膜厚の違いやパターンの太さの違いなどから生じる比較画像間の明るさむらの影響を低減し、高感度なパターン検査をパラメータ設定なしで行えるようにした。また、比較画像間で各画素の特徴量を算出し、複数の特徴量を比較することにより、輝度値からでは不可能は欠陥とノイズの判別を高精度に行えるようにした。 （もっと読む）

【目的】インテグレータによって生ずる輝点に起因する光学部品の劣化を抑制し、高精度の欠陥検査を長期間持続可能なレチクル欠陥検査装置およびこれを用いた検査方法を提供する。
【構成】パターンが形成されたレチクルに光を照射して得られるパターン画像を用いてレチクル上の欠陥を検査するレチクル欠陥検査装置であって、このレチクルに検査光を照射する照明光学系と、検査光が照射されたレチクルのパターン画像を検出する検出光学系を備え、照明光学系が、検査光の照度分布を均一化するためのインテグレータと、このインテグレータを、インテグレータの光軸に対して垂直方向に微動可能とする移動機構とを有することを特徴とするレチクル欠陥検査装置およびこれを用いた検査方法。 （もっと読む）

【課題】レチクルを静止させた状態での検査の際の、検査光照射によるレチクルの損傷を抑制するレチクル欠陥検査装置およびレチクル検査方法を提供する。
【解決手段】パターンが形成されたレチクル１０１に光を照射して得られるパターン画像を用いてレチクル上の欠陥を検査するレチクル欠陥検査装置であって、光のレチクルへの照射量を測定する照射量モニタ手段７２と、この照射量モニタ手段で測定された照射量から積算照射量を算出し、予め定められた閾値と比較する手段７４と、比較の結果、積算照射量が前記閾値を超えた場合に、光のレチクルへの照射を停止する手段７６とを有することを特徴とするレチクル欠陥検査装置およびレチクル欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】
検査対象基板において不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する課題があった。
【解決手段】
光源から出射した光を検査対象基板上の所定の領域に所定の複数の光学条件をもって導く照明工程と、前記所定領域において、前記複数の光学条件に対応して生じる複数の散乱光分布の各々につき、所定の方位角範囲および所定の仰角範囲に伝播する散乱光成分を受光器に導き電気信号を得る検出工程と、該検出工程において得られる複数の電気信号に基づいて欠陥を判定する欠陥判定工程とを有することを特徴とする欠陥検査方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】 パターンからの回折光に基く誤検出を低減し、高精度な異物検査を実現できる異物検査装置を提供すること。
【解決手段】 被検査面（１ａ）に照射光を斜入射させる照射手段（４）と、前記被検査面に対して前記照射手段と同じ側に配置された、前記被検査面上の異物で生じる散乱光を検出する第１，第２の検出手段（８，９）と、を備え、前記第１，第２の検出手段は、前記照射手段の照射光の入射面に関して互いに逆側に配置されていることを特徴とする構成とした。 （もっと読む）

【課題】ダイ比較方式を用いた光学式半導体欠陥検査方法及び検査装置に関して、より微細な欠陥や回路パターンに対して致命性の高い検出を、より高い感度で検出する検査方法及び検査装置を提供すること。
【解決手段】（１）光源、照明光学系、（２）散乱光検出用の複数の欠陥検出光学系及び光検出器、（３）基板ホルダと走査用ステージ、（４）隣接ダイ画像との位置ずれ情報を求める手段、及び該位置ずれ情報を全ての欠陥検出画像処理ユニットに伝送する手段、（５）位置ずれ情報を、各検出光学系の設計及び調整条件に合うように補正をする手段と、補正された位置ずれ情報をもとにダイ間差画像を算出する手段、（６）ダイ間差画像をもとに欠陥判定/検出処理を実施する欠陥検出画像処理ユニット、（７）位置ずれ情報に影響のある各検出光学系の設計及び調整条件を、手動もしくは半自動で算出して設定する手段。 （もっと読む）

【課題】大型のフォトマスクやガラス基板を高速で欠陥検査できる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】断面がほぼ楕円形をした走査ビームを発生する走査ビーム発生装置１０，１１，１２と、入射する走査ビームの楕円形断面の長軸と平行な回転軸線及び当該回転軸線のまわりで回転する１個又は複数個の反射面を有し、入射する走査ビームを周期的に偏向するビーム偏向装置１５と、ビーム偏向装置から出射した走査ビームを集束して検査すべき試料に向けて投射する対物レンズ２０と、走査ビーム発生装置とビーム偏向装置との間の光路中に配置した微分干渉光学系１４と、複数の受光素子を有し、 前記試料表面で反射し、前記対物レンズ、ビーム偏向装置及び微分干渉光学系を介して入射する試料表面からの反射光を受光する光検出手段２２〜２７と、光検出手段からの出力信号に基づいて欠陥検出信号を発生する信号処理回路とを具える。 （もっと読む）

【課題】 低コスト且つ誤謬の少ない欠陥探索並びにその型分類を自動的に行なう基板検査装置とその方法、特にマスク・レチクル等の基板に於いて欠陥粒子及び設計者の意図とは異なる欠陥図形を探索発見する自動検査と、それ等欠陥の型の自動分類とを行なう基板検査装置及びその自動検査方法を提供する。
【解決手段】 光ビームを発生し、その光ビームをして一定の光路を通過せしめ検査基板の上の表面にほぼ実質的に直角入射するようにする照明系、その光路に対して同軸になるように調整して透過光を集めて検出する透過光検出器３４、同様に反射光を集めて検出する反射光検出器３６とそれぞれの電気信号を互いに比較して比較値を提供する為の比較器、別にその比較値の期待値を得て比較値とその期待値との一致性を判定するプロセッサにて構成する。 （もっと読む）

【課題】大型のフォトマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができるフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を提供し、これらフォトマスクの検査装置及びフォトマスクの検査方法を用いた液晶装置製造用フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供する。
【解決手段】フォトマスク３を保持し、光源１からの所定波長の光束を照明光学系２を介して照射し、対物レンズ系４を介して、撮像手段５によりフォトマスク３の像を撮像する。光源１より発せられた光束は、少なくとも、ｇ線、ｈ線、または、ｉ線のいずれかを含み、あるいは、これらのうち任意の二以上を混合した光束を含み、波長選択フィルタ６を介して、フォトマスク３に照射される。 （もっと読む）

【課題】 繰り返しパターンに生じた欠陥を、短時間で、信頼性よく検査する。
【解決手段】 単位パターンが周期的に配列された繰り返しパターンを備えた被検査体の、繰り返しパターンに生じた欠陥を検査するパターン欠陥検査方法であって、繰り返しパターンに所定の入射角で光を照射して回折光を生じさせる工程と、繰り返しパターンからの回折光を受光して結像させる工程と、回折光を結像させた像を観察することにより繰り返しパターンに生じた欠陥を検出する工程と、を有し、単位パターンの配列のピッチを１μｍ〜８μｍとする。 （もっと読む）

【目的】レチクル厚のばらつきによる透過照明光の焦点ズレを容易に補正することにより、検出感度の高い欠陥検査を行うことが可能なレチクル欠陥検査装置およびレチクル欠陥検査方法を提供する。
【構成】パターンが形成された被測定試料に光を照射して得られるパターン画像を用いて被測定試料上の欠陥を検査するレチクル欠陥検査装置であって、被測定試料の一方の面に第１の検査光を照射する透過照明光学系と、被測定試料の他方の面に第２の検査光を照射する反射照明光学系と、第１の検査光の被測定試料への照射による透過光と、第２の検査光の被測定試料への照射による反射光とを同時に検出可能な検出光学系を有し、透過照明光学系が、被測定試料の厚さに起因する透過光の焦点ズレを補正する、焦点合わせ用レンズ駆動機構を備えることを特徴とするレチクル欠陥検査装置およびこれによるレチクル欠陥検査方法 （もっと読む）

【目的】少ない部品点数で構成されるため調整が容易で、被照射面における照度および照度均一性の高い、遠紫外線光源を用いる照明光学装置および試料検査装置を提供することを目的とする。
【構成】遠紫外線が出射される遠紫外線光源と、遠紫外線が入射され、第１の複数の光束に分割して出射する、円柱軸が直交した構成でシリンドリカルレンズアレイを両面に有する第１の両面シリンドリカルレンズと、第１の両面シリンドリカルレンズから出射される第１の複数の光束が入射され、第１の複数の光束の方向を揃えて第２の複数の光束として出射する、円柱軸が直交した構成でシリンドリカルレンズアレイを両面に有する第２の両面シリンドリカルレンズと、第２の複数の光束が入射され、第２の複数の光束を重ね合わせるコンデンサレンズとを具備することを特徴とする照明光学装置および試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク基板の法線が、測定用ステージの回転軸に対しずれているような場合でも、精度よく表面および裏面のマーク等の位置ずれを測定することができる方法・装置を提供する。
【解決手段】回転可能な測定用ステージ１０上にフォトマスク基板１を載置した第１状態で、該測定用ステージ１０の１８０°回転前後の２回の測定によりフォトマスク基板１の表面及び裏面のパターンの第１の位置ずれ量を求める第１位置ずれ量測定ステップと、該第１状態からフォトマスク基板１自身を９０°もしくは１８０°回転させた第２状態で、該測定用ステージ１０の１８０°回転前後の２回の測定によりフォトマスク基板１の表面及び裏面のパターンの第２の位置ずれ量を求める第２位置ずれ量測定ステップと、該第１の位置ずれ量と該第２の位置ずれ量とから真の位置ずれ量を算出するステップと、からなることを特徴とする基板表裏面パターン位置測定方法である。 （もっと読む）

【課題】表面スペックル形成に対するフィルタを提供する一方、コヒーレント光を保持すること。
【解決手段】物体からの放射を検出デバイスに結像する方法。方法は、コヒーレント放射ビームを物体に誘導することと、物体に対する入射面の内側または外側の角度に渡って放射ビームをスキャンすることと、物体からの散乱線を検出デバイスに結像することとを含む。 （もっと読む）

【課題】
検査装置で得られた欠陥の情報とレビュー装置で得られた欠陥の情報とを自動的に突合せして得られたデータの加工を容易として、欠陥の種類ごとの分類が容易なデータ処理装置，検査作業支援システム，データ処理方法を提供する。
【解決手段】
検査装置から送信された試料の欠陥に関する検査情報と、レビュー装置から送信された該欠陥の観察により得られたレビュー情報とを表示するディスプレイと、検査情報とレビュー情報とを突合せして同一の欠陥に関する検査情報とレビュー情報とを並べてディスプレイに表示させるマイクロプロセッサとを備え、該マイクロプロセッサは、欠陥から選択された複数の欠陥のＩＤをひとつの軸とし、ディスプレイに表示された特徴量を得たときの複数の条件をひとつの軸とし、該特徴量をディスプレイへ表として表示させ、さらに選択された特徴量のデータを別のソフトへ貼り付け可能とした。 （もっと読む）

【課題】高速な試料検査を提供すること。
【解決手段】被検査試料からの透過光、又は反射光を検出して測定パターンデータを取得する測定パターンデータ取得装置と、被検査試料の設計データから複数層の展開パターンデータを生成する展開パターンデータ生成装置と、透過光又は反射光の画素の領域が小さい方に相当する展開パターンデータを上層とし、複数の層の展開パターンデータの中の１つの層の画素を抽出して、測定パターンデータに対応した合成パターンデータを生成する合成パターンデータ生成装置と、合成パターンデータの画素が抽出された展開パターンデータの層を示す層識別データを生成する層識別データ生成装置と、合成パターンデータと層識別データから測定パターンデータに類似する基準パターンデータを生成する基準パターンデータ生成装置と、測定パターンデータと基準パターンデータとを比較する比較装置とを備え被検査試料を検査する試料検査装置。 （もっと読む）

【目的】検査対象試料の画像を適切に補正した補正画像を生成する装置を提供することを目的とする。
【構成】補正パターン画像生成部２００は、任意座標の画像データに対して、第１の予測モデルに基づく連立方程式を生成する手段２１０と、連立方程式における係数を演算する手段２１２と、係数のｘ方向成分要素和とｙ方向成分要素和を演算する手段２１７と、両画像の位置ずれ量から第２の予測モデルに基づく連立方程式のｘ方向成分係数とｙ方向成分係数とを演算する手段２１８と、第１の予測モデルに基づく一方の方向成分の要素和と第２の予測モデルに基づく逆方向成分の係数とを合成する手段２２０と、合成された合成係数を第１の予測モデルに基づく連立方程式の係数として用いて、任意座標の補正パターン画像データを演算する手段２２２とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】空間コヒーレンシーの高い光源を用いたケーラー照明系を実現する上で好適な光学構成を提供すること。
【解決手段】マスクのパターンを検査するパターン検査装置において、レーザ光を発生するレーザ発生装置と、パターンを有するマスクと、レーザ発生装置とマスクの間の光路に配置され、レーザ光を拡大して平行光束の光路を形成するエキスパンダ光学系と、平行光束の光路に配置され、光路を２つの光路に分けるビームスプリッタ光学系と、一方の光路に配置され、マスクに透過光を照射する透過照明光学系と、他方の光路に配置され、マスクに反射光を照射する反射照明光学系と、マスクのパターン画像を受光する受光装置と、受光装置で受光したパターン画像と基準画像とを比較する比較部と、備える、パターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】エッジ部においてはプロセス上不可避なパターン形成時の微妙なエッジ部差異を欠陥候補、または欠陥として検出しないようにする一方で、非エッジ部欠陥に対しては高い検出力を維持するパターン検査ができるようにする。
【解決手段】被検査対象物の二次元的な繰返し性を有するパターンを２次元の画像信号として検出する工程と、
該２次元の画像信号を２次元のデジタル画像信号に変換する工程と、
該２次元のデジタル画像信号における着目点（１０１）の画素に対して、比較対象の比較点（１０２）の画素を、着目点（１０１）の十字方向にパターンピッチの整数倍離れた画素に取る工程と、
４つの比較点（１０２）それぞれの近傍点（１０３）の画素から最大値及び最小値を算出する工程と、
着目点（１０１）の画素が、最小値から最大値範囲に予め設定した許容値を付加した範囲内に入れば正常部、外れれば欠陥候補部と判定する工程とを含むパターン検査方法。 （もっと読む）

【課題】高い検出感度で、高速に欠陥検査をすることができる検査装置提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係る欠陥検査装置１０は、光ビームを発生するレーザー光源１１と、レーザー光源１１から出射された光ビームを集光して試料Ｗの表面に光スポットを形成する対物レンズ１３と、試料Ｗで反射した光ビームを２つの光ビームに分岐するプリズム１５と、プリズム１５によって分岐された光ビームをそれぞれ受光し、受光した光の光量に基づく出力信号を出力する受光素子１７ａ、１７ｂと、受光素子１７ａからの出力信号と受光素子１７ｂからの出力信号とが略同時に検出されたときに、実欠陥と判定する実欠陥判定部２３とを備える。 （もっと読む）