【課題】正確な検査を短時間で行うことができる検査装置及び検査方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様にかかる検査装置は、フォトマスク３３を透過した透過光とフォトマスク３３で反射した反射光とを用いて検査を行う検査装置１であって、レンズ３２の視野６０の一部である同時照明領域６２を、フォトマスク３３のレンズ３２側から照明する反射照明光源２１と、同時照明領域６２と同時照明領域６２以外の透過照明領域６１とを照明する透過照明光学系１０と、同時照明領域６２からの透過光と反射光とを、レンズ３２を介して検出する合成像用センサ４４と、透過照明領域６１からの透過光を、レンズ３２を介して検出する透過像用センサ４３とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】検査で検出した欠陥の観察を容易に行う。
【解決手段】検査テーブル５は、四角形の基板１をその向かい合う二辺だけで支持する。投光系は、光線を基板１の表面へ斜めに照射しながら、光線を基板１の支持された二辺と垂直な方向へ移動して、光線による基板１の走査を行う。欠陥検出回路２５は、上受光系２０が受光した散乱光から基板１の表面の欠陥を検出する。ＣＰＵ６０は、光線が照射されている基板１の表面上の位置を検出して、欠陥検出回路２５が検出した欠陥の基板１の表面上の位置を検出し、欠陥の基板１の表面上の位置の座標を水平面へ投影した位置の座標へ変換する。観察系移動制御回路８３は、ＣＰＵ６０が変換した位置の座標を用いて観察系移動機構８２を制御し、観察系移動機構８２は、観察系８０を欠陥検出回路２５が検出した欠陥の上方へ移動する。 （もっと読む）

【課題】 マスク欠陥検査方法及びこれに使用されるマスク欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係るマスク欠陥検査方法によれば、透明な基板上に欠陥検査するパターンが形成されたマスクを準備し、ウェハー表面に照明光を照射し反射される光に基づいて映像を得て、欠陥を検出する欠陥検査部及び欠陥検査部に対向するようにウェハーを装着するウェハーステージを含むウェハー欠陥検査装置を準備する。その後、ウェハーステージに装着される前記ウェハーの表面高さと対等な表面高さにマスクを支持するマスクステージで前記ウェハーステージを交替し、マスクステージにマスクを装着する。そして、前記欠陥検査部を動作して、前記マスク表面に照明光を照射し映像を得て、マスク欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】周期性パターンのムラを安定的、高精度に撮像、検出可能な周期性パターンムラ検査装置を提供する。
【解決手段】検査対象基板が持つ周期性パターンのムラの検査装置であって、検査対象基板を載置しＸ軸方向及びＹ軸方向にそれぞれ移動させる移動機構とその移動量及び現在位置の検知機構を備えたＸＹステージと、検査対象基板の周期性パターンに略平行光かつ斜め透過光の照明を個別に行う複数光源と、検査対象基板に対して平行な二次元平面内で、前記光源の各々を個別に移動させる光源移動手段と、光源の各々の向きを個別に変えられる光源角度調整手段と、ＸＹステージを挟んで光源の反対側に配置され、斜め透過光照明された周期性パターンからの回折光を撮像するラインセンサカメラを用いた撮像手段と、前記ＸＹステージ、光源、光源移動手段、光源角度調整手段、撮像手段の動作の制御と、検査画像への画像処理を行う、処理手段を備える。 （もっと読む）

【課題】試料の被検査面を撮像した画像を検査することによりこの被検査面に存在する欠陥を検出する外観検査装置及び外観検査方法において、現在設定されている検査条件が、実際の試料に適した条件であるか否かを判定する。
【解決手段】外観検査装置１を、試料２の被検査面を撮像した画像を入力しこの画像に存在する欠陥を検出する欠陥検出部２０、２４と、検査対象である試料２の表面に予め設けられた既知の標準欠陥９の位置情報を記憶する標準欠陥データ記憶部６１と、標準欠陥９が設けられた試料２の表面を撮像した画像中の、標準欠陥データ記憶部６１に記憶された位置情報が示す位置に存在する標準欠陥９を欠陥検出部２０、２４が検出できるか否かを判定する検出感度判定部５０と、を備えるように構成する。 （もっと読む）

【課題】基板の内部又は裏面の欠陥を基板の表面からの深さに関わらず検出し、かつ基板の表面の欠陥を検出して基板の内部又は裏面の欠陥と区別する。
【解決手段】高角度投光系は、光線をその一部が基板１の表面で反射され一部が基板１の内部へ透過する入射角θ１で基板１の表面へ斜めに照射しながら、光線を移動して光線による基板１の第１の走査を行う。低角度投光系は、光線をそのほとんどが基板１の表面で反射される入射角θ２で基板１の表面へ斜めに照射しながら、光線を移動して光線による基板１の第２の走査を行う。ＣＰＵ６０は、第１の走査時及び第２の走査時に欠陥検出回路２５が上受光系で受光した散乱光から同じ位置で検出した欠陥を、基板１の表面の欠陥と判定し、第１の走査時に欠陥検出回路３５が下受光系で受光した散乱光から検出したそれ以外の欠陥を、基板１の内部又は裏面の欠陥と判定する。 （もっと読む）

【課題】 単位パターンのピッチが例えば５０μｍ〜１０００μｍであるような繰り返しパターンに生じた欠陥を、短時間で、高信頼に検査する。
【解決手段】 単位パターンが周期的に配列された繰り返しパターンを備えた被検査体の、繰り返しパターンに生じた欠陥を検査するパターン欠陥検査方法であって、繰り返しパターンに所定の入射角で光を照射して回折光を生じさせる工程と、繰り返しパターンからの回折光を受光して結像させる工程と、回折光を結像させた像を観察することにより繰り返しパターンに生じた欠陥を検出する工程と、を有し、回折光を受光して結像させる工程では、繰り返しパターンからの回折光のうち、絶対値が４５次〜１６００次の超高次回折光を受光する。 （もっと読む）

【課題】被検査試料のパターン検査の精度を高めること。
【解決手段】被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、光学画像を参照画像により補正処理を含むアライメント処理するアライメント処理部と、アライメント処理部で処理された異なった光学画像同士を比較処理する比較処理部と、を備える、パターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】グレートーンマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができるグレート
ーンマスクの検査方法を提供し、また、このグレートーンマスクの検査方法を用いた液晶
装置製造用グレートーンマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供する。
【解決手段】光源１から発せられた所定波長の光束を照明光学系２を介してグレートーン
マスク３に照射し、グレートーンマスク３を経た光束を対物レンズ系４を介して撮像手段
５によって撮像して撮像画像データを求め、この撮像画像データから、グレートーンマス
クの半透光部を含む領域の透過光の強度分布データを取得する。 （もっと読む）

【課題】特に高感度化を必要とせず、粒径の小さい例えば発生期のヘイズであっても短時間で好適に検出することができ、しかもパターンからの散乱光の影響による誤検出の問題もないといった、優れた欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】パターンを形成したパターン領域Ｓｘ及びパターンの形成していない非パターン領域Ｓｙを表面Ｓａに有し、前記パターン領域Ｓｘへの異物の付着等を防止するためのペリクル膜Ｐ２を支持するペリクル枠Ｐ１が前記非パターン領域Ｓｙに設けられた検査対象面であるサンプル表面Ｓａに対して、検査光Ｌ１を照射する光源と、前記検査光Ｌ１を前記サンプルＳの表面Ｓａ上で走査する光走査部２３と、前記光走査部２３が前記検査光Ｌ１を前記サンプルＳの表面Ｓａ上で走査した場合に、前記サンプルＳの表面Ｓａ及び前記ペリクル膜Ｐ２から回折及び／または散乱する光を検出光Ｌ２として検出する光検出器３２と、を具備し、検査対象領域を、非パターン領域Ｓｙに設定した。 （もっと読む）

【課題】装置の設置面積の増大を抑えつつ、大型のフォトマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができ、また、大型のフォトマスクに対する安全性やハンドリング性が確保されたフォトマスクの検査装置を提供する。
【解決手段】フォトマスク３を保持し、光源１からの所定波長の光束を照明光学系２を介して照射し、対物レンズ系４を介して、撮像手段５によりフォトマスク３の像を撮像する。照明光学系２、対物レンズ系４及び撮像手段５の光軸を一致させ、対物レンズ系４及び撮像手段５を光軸方向に互いに独立に移動操作して、フォトマスク３の像を撮像する。 （もっと読む）

【課題】高い精度でステンシルマスクの異物検査を実現できるステンシルマスクの検査方法および装置を提供すること。
【解決手段】レーザをシートビーム状に形成するスリットもしくはシリンドリカルレンズと対物レンズ等の集光レンズを組み合わせ、マスク表面に対して斜め上方から表面上に焦点を結ぶよう光学系を構成する。ステンシルマスクに対し前記光学系により斜め上方から照射されたシートビームは前記ステンシルマスク表面で集光して反対側へ反射するが、反射光を撮像素子等へ任意の倍率で結像させることで、前記ステンシルマスク表面の照射部位の形状に応じた光切断線画像が得られる。そして、前記光切断線画像に対し特定のエリアを監視することでマスク表面の異物を検出する。 （もっと読む）

【課題】検査精度が高いフォトマスクの検査方法及びフォトマスクの検査装置を提供する。
【解決手段】フォトマスクの検査装置１には、撮像手段２、記憶手段３及び演算手段４が設けられている。記憶手段３には、エッジの画像に設定された複数の画素列であって、エッジ部分を跨ぎ、画素に対するエッジ部分の相対的な位置が相互に異なる画素列の各画素の明るさを示すエッジデータが記憶されている。また、演算手段４は、フォトマスクのセンサ画像及び参照画像におけるエッジ部分をエッジデータにマッチングして、画素に対するエッジ部分の相対的な位置をそれぞれ検出し、これらの検出結果及びエッジデータに基づいて、参照画像から補正画像を作成する。補正画像においては、フォトマスク部分の位置をセンサ画像と等しくする。そして、センサ画像を補正画像と比較することにより、フォトマスクの検査を行う。 （もっと読む）

【課題】平面に沿って分布した特性をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析方法であって、精度良く評価を行えるものを提供すること。
【解決手段】分布形状パターンを、解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、上記各矩形領域毎に、上記解析対象データの特性値の相対的な大小関係を表すように或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義する（Ｓ１０１）。所定の分布形状パターン調整用特性データ群の特性値を用いて、その特性データ群の特性値の大きさが上記評価に反映されるように上記分布形状パターンの濃度値を調整する（Ｓ１０２，Ｓ１０３）。解析対象データと調整後の分布形状パターンとを比較して、解析対象データの特性値の分布と調整後の分布形状パターンの濃度値の分布との定量的な類似度を求める（Ｓ１０４）。 （もっと読む）

【課題】高分解能のマスク検査装置を提供すること。
【解決手段】本発明のマスク検査装置１００では、マスク１０８のパターン面１０８ｃの裏面側に対物レンズ１１２を配置した構成になっているため、パターン面１０８ｃと、対物レンズ１１２との間に、空気層を形成させることなく、屈折率約１．４４の純水１１４と屈折率約１．５６のマスク基板１０８ａだけであるため、液浸光学系を形成できる。これによって、同じ検査波長を用いた場合であっても、従来のマスク検査装置に比べ、分解能を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】高性能でコンパクトな構成のマスク検査光源装置、及びそれを用いたマスク検査装置を提供することである。
【解決手段】本発明の一態様に係るマスク検査装置１は、レーザ光源を備え、レーザ光源から出力されるレーザ光の波長を変換して、波長４００ｎｍ以下のレーザ光を出力し、かつ、４００ｎｍ以下のレーザ光の第二高調波を出力するマスク検査光源１００を備え、波長４００ｎｍ以下のレーザ光の第二高調波を検査用照明光として用いたものである。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置において、複数の角度方向に出射される基板からの光を用いて、効率的に検査を行うことができるようにする。
【解決手段】基板２１を載置して照明領域Ｌの長手方向と直交する方向に相対移動させる移動ステージ１３と、照明領域Ｌに照明光を照射する第１照明部１０、第２照明部１１、第３照明部１２と、照明領域Ｌからの光を結像する結像光学系２５と、基板２１の像を取得する１次元撮像部２７と、各照明部からの照明光の入射角度を互いに異なる角度に設定する角度設定部とを備え、各照明部は、照明光として互いに異なる波長の光を照射し、１次元撮像部２７は、互いに異なる波長の光をそれぞれ選択するダイクロイックミラー３０、３１と、選択された波長の光をそれぞれ受光する第１受光部２０１、第２受光部２０２、第３受光部２０３とから構成される。 （もっと読む）

【課題】空間像エミュレーティング光学によってレチクルを評価する。
【解決手段】レチクル評価のためのシステム、方法及びコンピュータ可読媒体であり、該方法は、（i）イメージングプロセス中に、異なる偏光条件及び必要に応じて干渉条件下で、レチクルの複数のイメージを得るステップと、（ii）（i）該複数のイメージ及び（ii）イメージングプロセスと露光プロセスの違いに応じて、出力空間像を生成するステップとを含み、該露光プロセス中に、該レチクルのイメージがウェーハ上に投影される。 （もっと読む）

【目的】パターンへの追従性を向上させながらフォーカスボケを起こさないで光学画像を取得する手法を提供することを目的とする。
【構成】パターンの設計形状データと前記パターンの膜厚情報とを入力し、前記パターンの設計形状データと前記パターンの膜厚情報とに基づいて、所定の領域の平均膜厚を演算する平均膜厚演算回路２５０と、前記パターンの設計形状データと前記パターンの膜厚情報とに基づいて作成されたマスクパターンを用いて、前記所定の領域に対応するマスクパターンの領域の光学画像を取得する場合に、前記平均膜厚に合焦位置を合わせて光学画像を取得する光学画像取得部１５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクに付着した異物を高精度で検知することが可能な蒸着マスクの検査方法及び蒸着マスクの検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】表示素子を構成するパターン化された薄膜を蒸着法により形成するのに必要な蒸着マスクの検査装置であって、蒸着マスク２１２が配置される支持台３１０と、支持台３１０の所定位置に配置された蒸着マスク２１２を照明する赤外線光源３２０と、赤外線光源３２０により照明された蒸着マスク２１２からの反射光に基づき蒸着マスク表面の異物の有無を検知する検知部３３０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）