【課題】半導体装置製造用レチクルに生じる異物の発生を検知する方法を提供する。
【解決手段】レチクル基板のパターン面上に、光非透過部と光透過部とが設置された検査部を設け、前記光非透過部の少なくとも一部と、前記光透過部の少なくとも一部とを含む所定の領域の実効透過率を測定し、前記実効透過率に基づいて、レチクルにおける異物を検知する。 （もっと読む）

【課題】試料全体における異物検出感度を向上させ、簡便に行うことができる異物検査方法及び異物検出装置を提供する。
【解決手段】試料の像の輝度が異物検出閾値よりも低い箇所を異物として検出する異物検出方法であって、透過率及び反射率が異なる複数の領域を有する試料に対して、落射照明光と反射照明光とを照射する照射ステップと、試料で反射した反射光と、前記試料を透過した透過光とを受光して、試料の像を撮像する撮像ステップと、最も低い領域のレベルに応じた異物検出閾値を用いて異物を検出する異物検出ステップと、異物検出閾値よりも高い領域抽出閾値によって、最も輝度の低い領域と、異物検出ステップで検出された異物とを含む領域を抽出する領域抽出ステップと、抽出された領域をマスクした像に対して、異物検出ステップと領域抽出ステップとを繰り返し行うステップとを備える異物検出方法。 （もっと読む）

【課題】例えば小さいターゲットで特殊な照明モードを使用できるスキャトロメータを提供する。
【解決手段】照明開口絞りを有するスキャトロメトリ装置において、中間像に視野絞りを設けて、基板上のスポットサイズを制御する。視野絞りは、アポダイズすることができ、例えば不等辺四辺形またはガウスの形態の透過率を有する。 （もっと読む）

【課題】欠陥分類において、ルールベース型の欠陥分類は、全てを手動で設定するのは困難であるという課題があった。
【解決手段】欠陥検査装置から取得される検出信号を基に抽出される欠陥の特徴量に基づいて二分木構造の分類器を用いて欠陥を分類する欠陥分類方法であって、予め欠陥クラスと対応付けられた特徴量データとの教示に基づいて、二分木構造の分岐点毎に、分岐の両側のグループにそれぞれ属する欠陥クラス、分岐に使用する特徴量および判別基準からなる分岐条件を設定することにより前記二分木構造の分類器を構築する分類器構築過程を有し、該分類器構築過程において、さらに予め欠陥クラス毎並びに全体および最悪のピュリティおよびアキュラシーの目標分類性能について優先順位をつけて指定しておく優先順位指定過程と、前記設定した分岐条件による前記指定した目標分類性能を満足するか否かを項目毎に評価して該項目毎の評価結果を表示する評価過程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】欠陥検出、特にフォトリソグラフィープロセスに使用されるマスクの欠陥検出のためのシステム、方法およびコンピュータプログラム製品を提供する。
【解決手段】（i）オブジェクトの第１の画像のテスト済み画素に対応する第２の画像の第２の画素を検索するステップであって、該第１の画像および第２の画像は異なる取得方法を使用して得られたステップ１５０と、（ii）該第２の画素の隣接部分が第３の画素の隣接部分に類似するような該第２の画像の該第３の画素を探すステップ１６０と、（iii）該第３の画素に対応する該第１の画像の第４の画素を検索するステップ１７０と、（iv）該テスト済み画素と該第４の画素を比較するステップ１８０とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】被検査物の周期性パターンの欠陥を画像検出するために、回折光によるコントラストの高い画像を検出する照明角度を容易に精度良く見出し、作業者間の検査精度のばらつきを抑えること。
【解決手段】 被検査物に光源からの光を略平行光として照射することで生じる回折光の測定を複数の照明角度で行い、各照明角度での回折光強度を取得する回折光強度データ取得ステップと、 照明角度ごとの回折光強度データを蓄積するデータ蓄積ステップと、 照明角度ごとの回折光強度データを用いて、照明角度ごとの欠陥の見易さを評価する欠陥評価値を計算する欠陥評価値計算ステップと、 欠陥評価値が最大値となる照明角度を設定する照明角度決定ステップと、 を含む欠陥検査装置における照明角度設定方法。 （もっと読む）

【課題】Ｓ／Ｎ比が高いパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。
【解決手段】マスク１０１のコンタクトパターン１０２を検査する際に、マスク１０１を撮像してセンサ画像を取得し、マスク１０１の設計データに基づいて参照画像を生成する。次に、センサ画像と参照画像との差画像を作成し、この差画像において、コンタクトパターン１０２の一部の領域に光量測定エリア１０４を設定し、各光量測定エリア１０４の明るさを評価する。光量測定エリア１０４に欠陥１０３が存在していれば、欠陥１０３が存在していない場合よりも、光量測定エリア１０４の明るさが低下する。これにより、欠陥１０３の有無を判定する。 （もっと読む）

基板の種々の欠陥を検査するためのシステムおよび方法において、偏光フィルタを用いて、焦点ずれおよび露光欠陥のような偏光依存性の欠陥のコントラストを改善し、一方で、ピット、空隙、クラック、チッピング、および粒子のような偏光非依存性の欠陥に対しても同じ感度を保持する。
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【課題】遮蔽部分の形状を変更することが可能な空間フィルタ、又は阻止波長を変更することが可能な波長フィルタとして利用できる光学フィルタを提供する。
【解決手段】光学フィルタ６０を、その入射光ＬＩの光軸に対して反射面を４５°傾けて配向され入射光を反射面で反射する第１の光Ｌ１及び反射面を透過する第２の光Ｌ２に分光する半透鏡６１と、第１の光Ｌ１を反対向きに反射して半透鏡６１に再び入射させる第１の反射鏡６２ａと、第２の光Ｌ２を反対向きに反射して半透鏡６１に再び入射させる第２の反射鏡６２ｂと、により構成し、第１及び第２の反射鏡６１、６２の少なくとも一方をその反射面の法線方向の位置をそれぞれ制御可能な複数のミラー素子で構成されたマイクロミラーアレイとした。 （もっと読む）

【課題】表面パターンを含む回折面上の欠陥を検出するための改良された高感度光学検査システムの提供
【解決手段】本発明のシステムは、回折面上の所定の領域を照射して、欠陥または表面パタンに応答して散乱強度分布を生成する第１および第２の照射手段と、回折面のまわりの複数の位置において散乱強度分布の強度レベルを検出する手段と、検出された最小強度レベルを確定する手段と、検出された最小強度レベルが閾値強度レベル未満である場合に回折面の照射領域上に欠陥が存在しないことを示し、検出された最小強度レベルが閾値強度レベルを超える場合に回折面の照射領域上に欠陥が存在することを示す、検出された最小強度レベルに応答する手段と、回折面を移動させ回折面上に走査パターンを生成し表面全体を検査する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ，液晶パネルなどの欠陥を検査する検査装置において、表面に形成された透明薄膜の厚みが変動した場合にも欠陥検出器の信号は変動しないことで、膜厚変動値の影響を受けないで、安定した検査が可能な装置を実現する。
【解決手段】検査対象物を所定の照射角度で照射する第１の照明光学系と、該第１の照明光学系からの照射光が前記検査対象物で反射した反射光を更に反射させて前記第１の照明光学系が照射した前記検査対象物と同じ照射位置を照射する第２の照明光学系と、を備えた欠陥検査装置。 （もっと読む）

【課題】周波数領域で分割された画像と基準点の個数分の分解画像を用いて、画像を補正する。
【解決手段】検査基準画像に対して複数の周波数領域に分割して複数の周波数分割画像を作成する画像分割部と、少なくとも１つの周波数分割画像内の離間した複数箇所に基準点を設け、各基準点を基準に周波数分割画像に重みを付与して、基準点の個数分の分解画像を生成する分解画像生成部と、被検査画像、基準点の個数分の分解画像、及び分解画像を生成しない周波数分割画像の２次元線形予測モデルを用いてモデルパラメータを同定するモデルパラメータ同定部と、同定されたパラメータを用いてモデル画像を生成するモデル画像生成部と、を備える、画像補正装置、画像検査装置、及び画像補正方法。 （もっと読む）

【課題】ゴースト粒子に対する感度が鈍感な粒子検出システムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射のビームを条件付ける照明システムを有している。パターニングサポートによって、放射のビームの断面にパターンを付与するように機能するパターニングデバイスが支持される。基板サポートによって基板が保持される。投影システムによって、パターン化された放射のビームが基板のターゲット部分に投射される。粒子検出システムによって、対象の表面の粒子が検出される。粒子検出システムは、放射の照明ビームを生成する放射源を有している。放射の照明ビームは、第１の光路に沿って対象の表面の検出領域へ導かれる。放射ディテクタは、検出領域からの第２の光路に沿った放射の検出ビームを受け取る。第１の光路の長さと第２の光路の長さは、実質的に同じ長さになっている。 （もっと読む）

【課題】周波数領域で分割された画像を用いて、アライメントと画像補正を統合化した、画像劣化が少なく、設定パラメータも少ない、効果的な画像補正に基づく画像検査装置を提供する。
【解決手段】検査基準画像と被検査画像を比較検査する画像検査装置において、検査基準画像と被検査画像に対して複数の周波数領域に分割した周波数分割画像を作成する画像分割部と、各周波数分割画像について、検査基準画像と被検査画像の２次元線形予測モデルを用いてモデルパラメータを同定するモデルパラメータ同定部と、同定されたモデルパラメータに基づいて、モデル画像を生成するモデル画像生成部と、各周波数分割画像について、モデル画像と被検査画像を比較検査する比較処理部と、を備える、画像検査装置。 （もっと読む）

【課題】発光波長帯が違う複数の光源を用いて試料照明用の照明光を生じさせ、かつこれら複数の光源から各々生じる各照明光の光路を、試料に至るまでの間に１つの光路に重ねる顕微鏡装置において、照明光の光路を重ねるために生じる光量ロスを低減する。
【解決手段】顕微鏡装置１を、発光波長帯が異なる複数の光源１４ａ〜１４ｃと、複数の光源１４ａ〜１４ｃ毎に設けられこれら光源１４ａ〜１４ｃが生じる光のうち対応する光源が生じた光のみを反射する波長選択反射素子１８ａ〜１８ｃと、を備えて構成し、これら波長選択反射素子１８ａ〜１８ｃを、対応する光源の光をそれぞれが反射した反射光の各光路が相互に重なるように位置決めし、波長選択反射素子１８ａ〜１８ｃで反射する光源１４ａ〜１４ｃの反射光で、試料２を照明する。 （もっと読む）

【目的】参照画像と光学画像との高精度な位置合わせを行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の試料検査装置１００は、光学画像と参照画像との仮の合わせ位置での各画素における画素値の差分の絶対値が閾値Δより小さいかどうかを判定する差分判定部３０８と、差分判定の結果に基づいて求められる最小二乗法による正規行列を用いて位置ずれ量を演算する最小二乗法位置ずれ演算回路３２２と、位置ずれ量分ずらした位置に光学画像と参照画像との合わせ位置を補正する位置補正回路３５０と、光学画像と参照画像とを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】参照画像と光学画像との高精度な位置合わせを行う方法および装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の試料検査装置１００は、光学画像と参照画像との仮の合わせ位置からの位置ずれ量を演算する最小二乗法による正規行列の複数の要素を演算する正規行列要素演算部３７０と、複数の要素の一部を用いて、パターンの種別を判定する次元判定部３８０と、パターンの種別に応じて正規行列から所定の要素を削除した正規行列を用いて、最小二乗法による位置ずれ量を演算する位置ずれ量演算部３９０と、位置ずれ量分ずらした位置に合わせ位置を補正する位置補正部３５０と、その位置で比較する比較部１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学条件や欠陥の検出条件等といった、外観検査装置及び外観検査方法に用いられる検査条件を、実際の検査対象の試料に応じて適切に設定する。
【解決手段】外観検査装置１を、所定の光学条件で試料２の表面を撮像した画像を検査することにより試料２の表面に存在する欠陥を検出するように構成し、かつ外観検査装置１に、画像に現れる欠陥を所定の検出条件で検出する欠陥検出部２４と、所定の光学条件及び所定の検出条件の少なくとも一方を検査対象である試料２の被検査面に予め設けられた既知の標準欠陥９を欠陥検出部２４にて検出しうる条件に定める検査条件決定部５０と、を設ける。 （もっと読む）

【課題】ＬＣＤなどの製造に使用される階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥部修正方法において、多大な時間を要せず簡単な方法で修正箇所の最適な修正用パターン形状を決め、その最適な修正用パターン形状に基づいて欠陥部を修正する欠陥部修正方法および修正後の修正部の評価方法を提供する。
【解決手段】階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥部修正方法において、前記欠陥部および欠陥部周辺の画像を撮像して画像データを取得する工程と、前記画像データをポリゴンデータとし、該ポリゴンデータを用いて修正箇所の光強度をシミュレーションして前記修正箇所の最適な修正用パターン形状を決定する工程と、前記最適な修正用パターン形状に基づいて前記欠陥部を修正する工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】オペレータの負荷を軽減し、欠陥を効率的に修正することができる欠陥修正装置を提供する。
【解決手段】欠陥の修正が行われる前に、ステージ２は、欠陥が対物レンズ１４の視野領域に入る位置に基板１を二次元移動する。カメラ５は、入射光に基づいた画像信号を生成し、制御装置６へ出力する。画像処理部６２は、レビュー検査画像信号に基づいてサムネイル画像データを生成する。主制御部６５はレビュー検査画像のサムネイル画像データを欠陥データと関連付けて記憶部６６に格納する。修正開始の指示が出された場合、主制御部６５は記憶部６６から全てのレビュー対象欠陥のサムネイル画像データを読み出して、ディスプレイ７へ出力する。ディスプレイ７は、サムネイル画像データに基づいて、各欠陥のレビュー検査画像を縮小したサムネイル画像を表示する。レビュー検査画像の表示を確認したオペレータによって選択された欠陥にレーザーが照射される。 （もっと読む）