【課題】本発明は、効率よくフォトマスクを検査できる検査装置を提供する。
【解決手段】検査装置１０は、フォトマスク５のＣＡＤデータ２３から形成されるフォトマスク５のイメージである第２の画像データ２５に、フォトマスク５の各領域の検査精度を示す検査精度データ３０を組み込んで参照用データ３１とする展開回路１８と、フォトマスク５を通過したレーザ光２０を撮像するＴＤＩセンサ１７と、参照用データ３１中の検査精度データ３０に沿って、第１の画像データ２２と参照用データ３１中の第２の画像データ２５とを比較し、フォトマスク５の欠陥を検出する比較回路１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】検査対象試料のパターンの高コントラスト光学画像を得ること。
【解決手段】検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、検査対象試料に照射する照射光の光量を増減する光量調整部と、検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、を備え、検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する、光学画像取得装置。 （もっと読む）

【課題】検査対象試料から取得した二次元光学画像の無効エリアを低減し、重複する撮像動作を減らし、欠陥検出時間を短縮すること。
【解決手段】検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、照射光を走査幅でもって検査対象試料に対して相対的にＸ軸方向に走査する駆動装置と、照射光を走査幅でもって検査対象試料に対して相対的にＸ軸方向に走査する際、検査対象試料のパターンの二次元光学画像を受光する光学画像受光部と、画像をＸ軸方向に短冊状に複数に分割する分割処理部と、二次元光学画像のＹ軸方向の位置ずれを補正する補正処理部と、短冊状に分割された二次元光学画像と基準画像とを比較する比較処理部と、を備え、二次元光学画像をＸ軸方向に短冊状に分割する前にＹ軸方向の位置ずれを補正する、パターン検査装置。 （もっと読む）

パターンのパラメータの変化を評価するための方法及びシステムが提供される。この方法は、パターン化された物品の少なくとも一部分の空間強度像を表すデータを処理し、更に、そのパターン化された物品の前記少なくとも一部分内の所定の領域に対して空間像強度のある関数の値を決定することを含み、空間像強度の関数の前記値は、そのパターン化された物品の前記少なくとも一部分内のパターンの少なくとも１つのパラメータの変化を表すか、又はそのパターン化された物品を使用することにより製造されるパターンの少なくとも１つのパラメータの変化を表すものである。 （もっと読む）

【課題】検査対象試料の画像の転写・現像シミュレーション処理の過程で生じる一時的な強調部分を見出すこと。
【解決手段】検査対象試料の画像から取得した取得画像のパターンを記憶する取得画像記憶部と、取得画像のパターンを転写・現像シミュレーション処理を行う転写・現像シミュレーション部と、取得画像のパターンの転写・現像シミュレーション処理の途中のシミュレーション途中画像のパターンを記憶するシミュレーション画像記憶部と、該取得画像のシミュレーション途中画像のパターンを被検査パターンとし、比較対象のパターンを基準検査パターンとし、被検査パターンと基準検査パターンを比較処理する比較処理部と、を備えている、パターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】被検査体の検査に並行して、被検査体上における特定の検査を必要とする特定領域の画像データを取得すること。
【解決手段】フォトマスク２を撮像して取得した検査画像データと参照データとを比較して欠陥を検出するフォトマスク２の検査に並行して、画像取り込み部１６によりフォトマスク２上における少なくとも１つの特定領域に対応する特定画像データを取り込んで特定領域メモリ１７に保存し、この特定領域メモリ１７に保存された特定画像データに対して計測検査処理部１９によりパターン線幅の分布計測処理、再検査処理又はパターンと同一パターン同士の比較検査処理のうち少なくとも１つの処理を行う。 （もっと読む）

【課題】半導体パターンの線幅、ピッチが検査光の波長以下になっても半導体パターン上の欠陥の検出能力を維持すること。
【解決手段】センサ２及び拡大光学系３の各特性に基づいて作成されたセンサ２の出力特性データＣを参照してセンサ画像データ４の画素を補間処理し、この補間処理されたセンサ画像データ２７からマスク１に形成されたパターンの像を復元したセンサ画像データ２８を取得するマスク復元フィルタ２０を設けた。 （もっと読む）

【課題】被検査面の位置が異なる場合であっても異物の検査を行うことができる異物検査装置、及び当該異物検査装置を備える露光装置を提供する。
【解決手段】第１照明系３１ａは検査光Ｌ１をレチクルＲの上面に照射し、第２照明系３１ｂは検査光Ｌ２をペリクルＰの面上に照射する。また、第１受光系はレチクルＲの上面に付着した異物からの散乱光を受光し、第１ラインセンサは第１受光系で受光された散乱光の光強度に応じた信号を出力する。同様に、第２受光系はペリクルＰの上面に付着した異物からの散乱光を受光し、第２ラインセンサは第１受光系で受光された散乱光の光強度に応じた信号を出力する。駆動装置３９は、第２照明系３１ｂをＺ方向に移動させてペリクルＰのペリクル高さに応じて検査光Ｌ２の照射位置を可変する。 （もっと読む）

【課題】検査対象試料の画像の劣化を検査する、パターン検査装置、パターン検査方法、それにより得られた検査対象試料、又は、検査対象試料の管理方法を得ること。
【解決手段】検査対象試料の光学画像を取得する光学画像取得部と、検査対象試料の光学画像を基準画像として記憶する基準画像用メモリ装置と、基準画像の取得後に検査対象試料の光学画像を光学画像取得部で取得して、該光学画像を被検査画像として記憶する被検査画像用メモリ装置と、基準画像と被検査画像とを比較する比較処理部と、を備え、基準画像用メモリ装置から読み出した検査対象試料の基準画像と被検査画像用メモリ装置から読み出した該検査対象試料の被検査画像とを比較する、パターン検査装置。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理により欠陥が除去されたか否かの判定を高精度且つ効率よく行うことができるフォトマスクの検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】１回目のフォトマスク１１０の検査において欠陥が検出されると欠陥の位置が欠陥情報記憶部１１７に記憶される。１枚分のフォトマスクの検査が終了すると、欠陥情報は検査結果記録部１２１に記録される。欠陥除去処理（洗浄処理等）を実施した後、２回目の検査を行う。この２回目の検査では、検査結果記録部１２１から１回目の検査結果を読み出し、１回目の検査で欠陥が検出された部分及びその周囲の領域に対応する領域の画像を受光素子１１４で取得する。欠陥検査部１１６は、受光素子１１４で取得した画像（画像データ）と、画像データ記憶部１１５に記憶された基準となる画像データとを比較して欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクの欠陥を検査する装置を提供すること。
【解決手段】 マスクブランクの欠陥を検査する装置において、第一の虹彩絞りが光源に位置されて光源から放出される光の照射角を制限し、散乱制限ユニットがマスクブランクから反射したのちの散乱光の散乱角を制限するために暗視野光学ユニットの出射口に位置される。欠陥検出器が光学的に暗視野光学ユニットに結合されており、散乱光の角度分布を生成する。その角度分布を用いてマスクブランク上にみつかった欠陥の重大性の特性評価が行われる。 （もっと読む）

本発明は異常、例えば汚染粒子または欠陥に関してサンプル（例えばリソグラフィのパターニングデバイスまたはマスク）を検査するための検査装置および方法に関し、前記装置はサンプルを支持するための支持構造と、サンプルに放射ビームを放射するように構成されて配置された放射システムと、サンプルから反射される放射をディテクタで検出するように構成されて配置された検出システムとを含み、放射システムおよび検出システムに第１および第２のポラライザがそれぞれ設けられる。
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【課題】被検査体に異物があるか否か、及び異物がある場合にはどの位置に異物があるかを判定する。
【解決手段】透明性の基板８１の表面８１Ｓに遮光膜８２が形成されている被検査体８０の斜め上方から遮光膜８２の表面８２Ｓに第１の光源１１から第１の検査光ＦＬ１を入射させて、その反射光を第１の光検出器２１が受光する。また、被検査体８０の斜め下方から遮光膜８２の裏面８２Ｒに第２の光源１２から第２の検査光ＦＬ２を入射させて、その反射光を第２の光検出器２２が受光する。第１の光検出器２１と第２の光検出器２２とに散乱光が受光されるか否かの組み合わせにより、被検査体８０に異物ＦＳが付着しているか否か、及び付着している場合にはどの位置に付着しているかを判定する。 （もっと読む）

【課題】
均一に光を照射することができる光源装置及びそれを用いた検査装置と検査方法並びにパターン基板の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明にかかる光源装置は、フッ素又は塩素を含む放電ガス１１０が含まれた放電チャンバー１０４と、放電ガス１１０を放電することによって発生する紫外線を放電チャンバー１０４の外側に取り出すため、放電チャンバー１０４の対向する箇所に設けられた２つの窓部１０５ａ、１０５ｂと、一方の窓部１０５ａの外側に設けられ、放電チャンバー１０４で発生し窓部１０５ａを介して入射した紫外線を放電チャンバー１０４の方向に反射する反射鏡１０９とを備え、放電チャンバー１０４の２つの窓部のうち、反射鏡１０９が設けられていない方の窓部１０５ｂから自然放出増幅光を出射するものである。 （もっと読む）

【課題】従来より小さい光源でも従来の光源と同等の照度で照明領域を照明することのできる照明装置を提供する。
【解決手段】撮像手段１を備えた照明装置本体に設置可能で、各出射端から出射する光が一線状に並んで照明領域５に入射し且つ照明領域５からの反射光７の全てが撮像手段１の撮像レンズ１ａに入射するように、複数の光伝送手段４の各出射端を配列支持した筐体２を備えている。 （もっと読む）

【目的】検査処理時間を短縮させる基板検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の基板検査装置１００は、基板１０１を検査する基板検査装置１００において、水平方向に移動するＸＹステージ１２１と、前記ＸＹステージ１２１上に配置され、上下方向と回転方向に移動するＺ・θステージ１２２と、基板１０１の検査面の高さ位置が、Ｚ・θステージ１２２の重心高さ位置に配置されるように基板１０１を保持する保持具１０２と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より高精度な検査面の位置を保つ基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板１０１を検査する基板検査装置において、水平方向に移動するＸＹステージ１２１と、ＸＹステージ１２１上に配置され、上下方向に移動するＺステージ１０３と、Ｚステージ１０３を３箇所で上下方向に移動させる圧電素子を有する３つのアクチュエータ機構１０７ａ、１０７ｂ、１０７ｃ、およびＺステージ１０３を支持する弾性ヒンジ１０８を備えた。また、Ｚステージ１０３上には基板１０１の中心を仮想中心軸として回転方向に移動するθステージ１０６が配置され、直線方向に移動するロッド３０８と、ロッド３０８に接続され弾性変形しながらθステージ１０６を回転させる弾性部材１１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】
透過パターン上の欠陥か、遮光パターン上の欠陥かを簡便に判別することができる検査装置及び検査方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる検査装置は、フォトマスク３０を透過した透過光と、フォトマスク３０で反射した反射光とを合成して検出する検出器４２と、遮光パターン３１で反射され検出器４２によって検出された反射光の光量が、透過パターン３２を透過して検出器４２によって検出された透過光の光量の１．５倍以上となるよう光量を調整する透過側フィルタ１２、落射側フィルタ２２とを備え、検出器４２からの検出信号と、第１のスレッショルドレベル及び第２のスレッショルドレベルとを比較して、透過パターン３２上に存在する欠陥か、遮光パターン３１上に存在する欠陥かを判別するものである。 （もっと読む）

【課題】基板上にパターン露光し半導体装置を製造するための露光装置に用いるマスクパターンの検査装置において、包含関係にある相異なるマスクパターンの対象基板上での包含の検査が出来るマスクパターンの検査装置を提供する。
【解決手段】マスクパターンのデータを入力する入力手段と、得られたマスクパターンについて転写シミュレーションを実施し対象基板上での画像データを得るシミュレーション手段と、入力手段およびシミュレーション手段から、欠陥のあるマスクパターンの対象基板上の画像データと、パターンが包含関係にある他のマスクパターンの対象基板上での画像データを得、両画像データを同一座標について重ね合わせ、欠陥の発生したパターンについて両マスクパターン間の対象基板上での包含距離を求める包含距離算出手段と、パターン間の包含距離が規定値を満足するか否かを判定する包含判定手段と、判定した結果を出力する出力手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】様々な種類の被検査体の様々なピッチの繰り返しパターンに対しても、充分に欠陥を捉えることができること。
【解決手段】単位パターン５３が規則的に配列されてなる繰り返しパターン５１を表面に備えた被検査体５０の、上記繰り返しパターンに発生した欠陥を検査する欠陥検査装置１０であって、被検査体の検査領域を含む領域に、所望の入射角θｉから光を照射するための光源を有する光源装置１２と、該光源装置から光を照射した際に被検査体の検査面に対し垂直方向に発生する光を受光する受光光学系１４を有する観察装置１３とを有し、光源装置１２は、平行度が２°以内で、照度が３０００００Ｌｘ以上の光源が用いられたものである。 （もっと読む）