【目的】 従来技術では、干渉ノイズを低減化するため、照明光学系内に多くの時間的、空間的均一化のための手段を設けたため、光学系の光損失が増大し、過大な照明光源出力が要求されるに至った。そこで、光学系の光損失を従来より低く抑えながら干渉ノイズを低減化することを目的とする。
【構成】 コヒーレント光を照射する可干渉光源１０２と、反射面の形状を変化させ、前記可干渉光源１０２から照射されたコヒーレント光１０１を反射する反射ミラー１０６と、前記反射ミラー１０６により反射され、被検査試料となる基板１１０に照射されたコヒーレント光を受光するカメラ１１４と、を備えたことを特徴とする。そして、前記反射ミラーは、ランダムに反射面の形状を変化させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レチクル検査装置などにおいて、画像を行列として扱ったときに同じ階調値が続いてランク落ちするような場合に効果的な画像補正方法を提供する。
【解決手段】パターン画像に微少階調のランダムノイズ画像を重畳させることによって、行列をフルランクにする画像補正方法。 （もっと読む）

【課題】 サブ画素単位でのシフト（アライメント）と画像補正を統合化した設定パラメータの少ない画像補正方法を提供する。
【解決手段】 検査基準パターン画像と被検査パターン画像との関係を同定して、画像の画素ズレや伸縮・うねりノイズ、センシングノイズを吸収（フィッティング）した数式モデルを構築し、そのモデルのシミュレーションによって推定モデル画像を生成する。 （もっと読む）

【課題】基板上にパターンの描画に関連する描画関連情報を効率よく記録する。
【解決手段】パターン描画装置１では、情報パターン生成部５１１により描画関連情報を示す情報パターンが生成され、描画データ生成部５１２により配線パターンに情報パターンが追加されて拡張描画パターンが生成される。そして、ステージ移動機構３１およびヘッドユニット移動機構３２により光ビーム出射部４１１からの光ビームの基板９上における照射位置が走査され、情報パターンを含む拡張描画パターンが基板９上の配線パターン形成用のレジストに描画される。これにより、パターン描画装置１では、他の記録装置等を利用することなく、基板９上に描画関連情報を効率よく記録することができる。 （もっと読む）

【課題】
半導体デバイス等の基板上に回路パターンを形成するデバイス製造工程において、製造工程中に発生する微小な異物やパターン欠陥を、高速に高感度で安定して検査できる装置および方法を提供すること。
【解決手段】
表面に透明膜が形成された被検査対象物に対し、複数の照明方向と照明角度を有する照明手段から最適な照明条件を決定して照明し、前記被検査対象物表面に形成されたパターンからのノイズを排除して検出することにより、前記被検査対象物表面および透明膜表面の異物または欠陥の反射散乱光を有効に検出するとともに、検査装置に備えた検出光学系の結像性能確認手段により該検出光学系の結像性能を評価、修正して検出光学系を最良の状態にする。 （もっと読む）

【課題】 マスクの大型化に伴う、マスク表面の撓みに対応することができる異物検出装置等を提案する。
【解決手段】 所定方向に沿って並べて配置された複数のラインセンサ６１，７１を所定方向に直交する方向に走査しつつ、マスク表面Ｍａ，Ｍｂに照射した光の反射光を受光して、マスク表面Ｍａ，Ｍｂ上の異物を検出する異物検出装置６０，７０において、複数のラインセンサ６１，７１は、マスク表面Ｍａ，Ｍｂから離間しつつ、マスクＭを保持した際のマスク表面Ｍａ，Ｍｂの撓み形状に沿うように配置する
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【課題】 複雑で高価な装置を用いることなく光を用いた観察によって微細な試料を可視化することが可能な技術を提供する。
【解決手段】 本発明の装置は微細な試料を可視化する装置であって、試料を載置可能な載置面を備え格子状に変化する光透過特性の分布を備える載置板と、載置板に光を照射する光源と、載置面と略平行な撮像面に形成される像の画像データを取得する画像データ取得手段と、取得した画像データを復元する復元装置を備えている。その復元装置は、取得された画像データを光学系を伝達したことによって劣化した画像として扱い、原画像への復元処理を行う。その復元装置は、劣化画像の分布、原画像の分布を、確率密度関数の分布として捉え、伝達関数を条件付確率の確率密度関数として捉える。上記の確率密度関数についてのＢａｙｅｓの理論に基づく関係式から、劣化画像の分布に対して最大に尤もらしい原画像の分布を反復計算によって算出する。 （もっと読む）

【課題】高い検出精度を有する周期性パターンのムラ検査方法を提供する。
【解決手段】塗工層または描画面を撮像した画像データに対して、注目画素（Ｘ，Ｙ）について、αを１からｎ１、βを１からｎ２までの自然数とし、注目画素の周辺画素（Ｘ＋α，Ｙ＋β）の輝度情報の階調値を輝度値としたときに、該周辺画素（Ｘ＋α，Ｙ＋β）の輝度値をそれぞれ足し合わせた加算値から注目画素の周辺画素（Ｘ−α，Ｙ−β）の輝度値をそれぞれ足し合わせた加算値をそれぞれ引いた減算値を注目画素の値と置き換えた構成の周辺強調フィルタを用いてコンボリューション演算を行い、画像データを修正画像データとする工程（ａ）と、修正画像データにある一定値を加算し、該加算値を注目画素の新たな画像データとする工程（ｂ）と、工程（ａ），（ｂ）で撮像した画像データの画素全てに対して順次行う工程（ｃ）とを有する。 （もっと読む）

【課題】 安価な装置を用いて正確な検査を行うことのできる外観検査装置および外観検査方法を提供する。
【解決手段】 ステージ部２１は、可撓性を有する薄板状の被検査物を載置するステージ面を形成し、載置された被検査物の一方主面とステージ面とを密着保持する。撮像カメラ３１は、ステージ面に密着保持された被検査物を撮像する。Ｘ軸方向駆動機構３５、Ｙ軸方向駆動機構２３、およびＺ軸方向駆動機構３６は、それぞれの方向にステージ面および撮像カメラ３１の少なくとも一方を相対的に移動させる。制御部４は、ステージ面における複数位置における変位データに基づいて、撮像カメラ３１とステージ面との間を等距離に保ちながらＸ軸方向駆動機構３５、Ｙ軸方向駆動機構２３、およびＺ軸方向駆動機構３６を制御する。 （もっと読む）

【課題】 高精度のマスタ画像を作成して正確にパターン検査を行うパターン検査方法およびパターン検査装置を提供する。
【解決手段】 ステップＳ５１では、被検査物に形成されるパターンの設計データを用いて比較用画像を作成する。ステップＳ５２では、被検査物を撮像して得られる画像を用いて仮マスタ画像を作成する。ステップＳ５３では、仮マスタ画像と比較用画像との相違点を抽出する。ステップＳ５４では、相違点を表示する。ステップＳ５７では、ユーザの操作に応じて、表示した相違点について仮マスタ画像を修正する。ステップＳ５９では、修正された仮マスタ画像をマスタ画像として登録する。そして、登録されたマスタ画像とオブジェクト画像とを比較して、被検査物のパターン形状を検査する。 （もっと読む）

【課題】
微細なパターンを高い分解能で検出する欠陥検査方法、その装置及び半導体基板を高歩留まりで製造する方法を提供する。
【解決手段】
Ｘｅランプ３、楕円鏡４、マスク５とからなる輪帯状の照明を形成するランプハウス２４は、輪帯状の照明光を、ＸＹＺステージ２上に載置された微細パターンを形成したウエハ（被検査対象物）１を、コリメータレンズ６、光量調整用フイルタ１４及びコンデンサレンズ７を介して、円又は楕円偏光変換素子により円又は楕円偏光させて、対物レンズ９を介して照明し、その反射光をハーフミラー８ａ、８ｂ、ズームレンズ１３を介し、反射光の画像をイメージセンサ１２ａにより検出する。ステージＸＹＺを移動させ、センサ１２ａにより走査し画像信号を得る。この画像出力をＡ／Ｄ変換器１５ａにより変換して基準画像と比較して不一致を欠陥として検出するものである。 （もっと読む）

【課題】
パターン検査装置において、膜厚の違いやパターン幅のばらつきなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する
【解決手段】
同一パターンとなるように形成されたパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、切替え可能な複数の異なる検出系と異なる検出系の像を同時に取得可能な複数台のセンサとそれに応じた画像比較部とを備えて構成した。
また，画像の特徴量から統計的なはずれ値を欠陥候補として検出する手段を備えて構成し，ウェハ内の膜厚の違いに起因して画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの表面の異常を検出するための方法およびシステムを提供する。
【解決手段】高い処理能力の表面検査システムであり、高い検出感度を持つものについて記述されている。得られたデータは、リアルタイムで５０ＭＨｚ以下のレートで処理されることにより、データ処理のコストを減少させる。異常は隣接する繰り返しパターンを比較することにより検出されて検証され、そして表面の高さはモニタされており、そして、近接する繰り返しパターンとの間の位置ずれ誤差を減少させるために機械的に修正される。近接する情報を用いた局所的なしきい値は異常の存在の検出と検証のために用いられる。照明と収集システムが結合されたものの点分布関数のサンプルされたものが異常の検出および検証のために利用される。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、効率良く擬似欠陥を抑制し、高い検出感度で欠陥検出可能なレチクル検査を実現する。
【解決手段】
レチクル検査方法において、レチクル設計データから生成されたレチクル検査用の検査データを取り込む。レチクルの描画位置精度測定データを取り込んで、レチクルの位置精度成分を補正する第１の補正量を求める。第１の補正量に基づいて、検査データを補正する。補正後の検査データに基づいて、レチクル上の欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】 欠陥検査装置におけるリサイズ処理を高い精度で実現することができ、欠陥検出感度の向上をはかる。
【解決手段】 被検査試料のパターン欠陥を検出するための欠陥検査装置において、試料１に光を照射する光源３と、試料１からの反射又は透過光を検出して測定パターンデータを取得する光電変換部１３と、設計データから複数の画素データを含む展開データを生成する展開回路１７と、展開データの各画素の近傍に存在する隣接図形間の距離に相当する量を求め、隣接図形間の距離に相当する量に基づいて画素毎に係数を求め、求めた係数に基づいて展開データにフィルタ処理を施すリサイズ回路１８と、フィルタ処理が施された展開データに基づいて基準パターンデータを生成する光学フィルタ回路１９と、測定パターンデータと基準パターンデータとを比較する比較回路７とを備えた。 （もっと読む）

【課題】周期性パターンに発生するスジ状ムラを安定的、高精度に撮像、検出可能なムラ検査装置を提供する。
【解決手段】基板を水平に保持し、基板を二次元平面視野内でＸ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ移動させる移動機構を備えたＸＹステージ21と、基板の周期性パターンに対して斜め透過照明を個別に行う４つの光源11A-11Dと、ＸＹステージを挟んで光源の反対側に配置され、斜め透過照明された周期性パターンにおける回折光を撮像する撮像手段31と、基板に対して光源の各々を二次元平面視野内で個別に移動させる移動手段13と、光源が移動されたときに、周期性パターンに対して光源から斜め透過光があたるように移動手段と連動して光源の向きを変えさせる姿勢変更手段12と、周期性パターンに対して光源による斜め透過照明の入射角度が変わるように、移動手段および姿勢変更手段の動作をそれぞれ設定する光学条件４軸設定手段40a-40cとを備える。 （もっと読む）

【課題】安定的、高精度に撮像、検出可能な周期性パターンムラ検査装置が望まれていた。
【解決手段】光軸に平行な撮像側平行光学系を備え、画像を撮像する手段を具備する撮像部と、検査対象基盤を裁置し、位置の認知と、Ｘ軸およびＹ軸方向に駆動する手段のを具備するＸＹステージと、光軸の上下方向および前記ＸＹステージの左右平行方向及び光軸で回転する上下左右回転駆動部と、概駆動部の先端に固定した光軸に平行な照明側平行光学系の照明をする手段を具備する斜め透過照明と、撮像画像及び透過光源へ偏光フィルター及び反射防止膜を備え、前記撮像部及びＸＹステージ及び透過照明部を管理し、周期性パターンのムラの検査をする検査装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 欠陥と疑わしき部分のみの画素サイズを小さくすることによって、検査時間の増大を招くことなく、検査精度の向上をはかる。
【解決手段】 被検査試料のパターン欠陥を検査する試料検査装置において、被測定試料のパターンに対応した所定の画素サイズの測定パターンデータを測定パターンデータ生成部１３〜１６により生成し、設計パターンに基づいて参照パターンデータ生成部２３，２４により参照パターンデータを生成し、測定パターンデータと参照パターンデータとを比較判定部２５により比較し、これらの差がしきい値を超えたら欠陥と判定し、欠陥と判定された場合、又は欠陥と誤検出され易いパターンと判定された場合に、該パターン部分について画素のサイズをより小さくした測定パターンデータを再生成し、再生成した測定パターンデータと参照パターンデータとを比較判定する。 （もっと読む）

【課題】
被検査体を高い真直度で移動させることができ、正確な検査を行うことができる検査装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる検査装置は、一対のガイド軸５２の間にＸ方向に沿って移動可能に設けられたエアスライダ５１であって、ガイド軸５２との間で微小隙間を発生させるエアスライダ５１と、エアスライダ５１をＸ方向に移動させる直線駆動機構４０と、エアスライダ５１とともに移動し、マスクをＹ方向に保持するマスクホルダ７と、マスクホルダ７の上側に設けられ、Ｘ方向に沿って設けられたガラスレール７１と、Ｘ方向と垂直なＺ方向から、ガラスレール７１を挟むように設けられた一対のエアパッド７２と、一対のエアパッド７２に対応して設けられ、マスクホルダ７の上部を挟むように配置された一対のホルダ挟持具７３とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】 試料を照射する装置を提供する。
【解決手段】 本装置は、入射レーザビームを試料に向けて出力するレーザと、複数の回折パターン部分を有する第１回折要素とを含む。第１回折要素は、その回折パターン部分のそれぞれが入射ビームパス内で選択的に配置されえるよう移動可能であり、第１回折要素の回折パターン部分は、入射ビームが異なる空間照明プロファイルを入射ビームの瞳平面において有するように設計され、一方で入射ビームのコヒーレンスによって生じる効果を減らす。この装置は、入射ビームの照射平面において光を空間的に分散させるよう構成される照明プロファイル要素と、入射ビームを試料に向けて導く複数の照明光学要素とをさらに備える。 （もっと読む）