【課題】フォトマスクのパターンムラの有無を簡易かつ速やかに検査するのに好適なパターン検査方法を提供すること。
【解決手段】繰り返しパターンを所定の光束により照射する照射ステップと、光束による繰り返しパターンの照射により生じた回折光に対応するフーリエ変換像を検出するフーリエ変換像検出ステップと、検出されたフーリエ変換像に基づきフォトマスクのパターンムラの有無を判定するパターンムラ判定ステップを含み、フーリエ変換像検出ステップにおいて、フォトマスクのパターンムラに対応するフーリエ変換像と、正常パターンに対応するフーリエ変換像とが空間的に分離されるように、回折光のうち所定の高次回折光に対応するフーリエ変換像を検出するようにパターン検査方法を構成する。 （もっと読む）

ウェハー上の欠陥を検出するための方法およびシステムが提供される。
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【課題】マスクブランクの製造過程で発生する欠陥を容易かつ確実に検出することができるマスクブランク用基板の製造方法、およびマスクブランクの製造方法を提供すること。
【解決手段】マスクブランクの製造工程では、検査対象品に検査光を照射した際の反射光を光電変換装置５９で受光して電気信号に変換し、電気信号を検査対象品表面における位置情報と対応付けてデータ記憶部に記憶する信号取得工程を行う。次に、第１基準値以上の欠陥の有無を判定して検査対象品の良品判定を行う第１判定工程を行い、良品と判定された検査対象品に対して、第１基準値よりも小さい第２基準値以上の微小欠陥の有無を判定する第２判定工程を行う。最後に、検出された微小欠陥同士の距離関係や位置関係から近接する微小欠陥集合体の有無を判定し、微小欠陥集合体として判定されたものが第１基準値以上であるかを基準に検査対象品の良品判定を行う第３判定工程を行う。 （もっと読む）

【課題】煩雑なしきい値設定を行うことなく、ノイズや検出する必要のない欠陥に埋没した、ユーザが所望する欠陥を高感度、かつ高速に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置であって、さらに、入力される被検査対象物の設計データから特徴を算出し、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから特徴量を算出する特徴算出部と、該算出された設計データからの特徴と複数の画像データからの特徴量とを統合処理して欠陥候補を検出する欠陥候補検出部と、該検出された欠陥候補から前記特徴算出部で算出される設計データの特徴を基に致命性の高い欠陥を抽出する欠陥抽出部とを有する画像処理部を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターン形状に起因するパターンの加工不良を正確かつ容易に検証できるパターン検証方法を提供すること。
【解決手段】基板上に生成されるパターン形状４３からパターン形状４３の輪郭４４を抽出する輪郭抽出ステップと、輪郭４４上にパターン形状４３の検証位置となる評価点ｐ１〜ｐ７を所定の間隔で設定する評価点設定ステップと、評価点ｐ１〜ｐ７における輪郭４４上の曲率を算出する曲率算出ステップと、曲率が予め設定された所定の閾値を満たすか否かに基づいて、パターン形状４３を検証する検証ステップと、を含む。 （もっと読む）

【目的】一時的に発生する測定画像の偽像を排除できるパターン検査を行うこと。
【構成】試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像と基準画像とを比較する比較部と、を備え、測定画像生成部は、２画素以上で構成されるラインセンサを２段以上用いた時間遅延積分センサを２個以上つなげた受光装置を有し、各時間遅延積分センサの画素について、異常な画素値を除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値の平均値と所定値の和を基準値とし、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値と、全ての時間遅延積分センサの画素値の平均値との差の絶対値が基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】ペリクル２付きマスク１の検査を正確に行うことができるようにする。
【解決手段】照明光量がオートフォーカス手段を正常作動させるのに必要な第１設定光量に達するまでペリクルフレーム２ａから離れた位置Ｌｘａを主走査方向の境界位置とし、照明光量が第１設定光量よりも高く設定される第２設定光量に達するまでペリクルフレーム２ａから内方に離れた位置Ｌｙを副走査方向の境界位置とする。ステージの主走査方向への移動を開始した後、ステージの移動速度が所定の検査速度に達する位置を第１位置Ｌｘ１、照明光量が第２設定光量に達する位置を第２位置Ｌｘ２として、第１位置Ｌｘ１と第２位置Ｌｘ２とのうちペリクルフレーム２ａからの距離が長い方の位置より内方の走査範囲の部分を検査領域に設定する。第１位置Ｌｘ１が検査領域の境界になるときは、ｘ軸方向を主走査方向とする第１検査工程後に、ｙ軸方向を主走査方向とする第２検査工程を行う。 （もっと読む）

【解決手段】ウェーハ／マスク／レチクルの表面を検査するための検査システムは、モジュラーアレイを含み得る。モジュラーアレイは、複数の時間遅延積分（ＴＤＩ）センサーモジュールを含み得る。各ＴＤＩセンサーモジュールは、ＴＤＩセンサーと、ＴＤＩセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路とを有する。局所回路のうち少なくとも１つは、ＴＤＩセンサーと関連付けられたクロックを制御し得る。少なくとも１つのライトパイプを用いて、複数のＴＤＩセンサーモジュールに照明源を分配することができる。複数のＴＤＩセンサーモジュールは、同一検査領域または異なる検査領域を取り込むように配置され得る。複数のＴＤＩセンサーモジュールは、同一であってもよいし異なる積分段に対して設けられてもよい。モジュールの間隔は、１回の通過で検査領域の１００％を網羅する処理範囲に対応できるように設定することもできるし、あるいは、処理範囲全体を網羅するのに２回以上の通過が必要となる部分的処理範囲に対応できるように設定することもできる。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査において、疑似欠陥の発生を抑制しつつ、微小欠陥の検出感度を向上する。
【解決手段】欠陥検査装置１は、検査画像と参照画像との間で、対応する画素同士のグレイレベル差を決定するグレイレベル差決定手段１５と、検査対象画素とその隣接画素におけるそれぞれのグレイレベル差を特徴量とする識別関数の値に応じたクラス分けを行うパターン認識によって、検査対象画素が欠陥候補か否かを判定する欠陥判定手段１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板内部の表面近傍を含む全ての領域の内部欠陥を確実に検出して欠陥のない製品を製造可能にする。
【解決手段】２つの主表面と４つの端面を有する薄板状のマスクブランク用ガラス基板を準備する基板準備工程と、前記いずれかの端面から波長２００ｎｍ以下の検査光を前記ガラス基板内に導入して内部欠陥を検出する検査工程とを有するマスクブランク用ガラス基板の製造方法であって、前記検査工程は、ガラス基板内に導入された検査光が両方の主表面の所定領域全体に到達する発散角度を有する発散光を検査光として使用し、前記検査光によって前記ガラス基板の内部欠陥から発生する蛍光の有無を検査するものであり、蛍光が検出されないガラス基板を選定してマスクブランク用基板を製造することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】目視検査によらず自動的に高精度に検査して、検査性能の低下やバラツキをなくし、マスク製造の歩留りを向上することができる荷電粒子線露光用マスクの異物検査装置及びその検査方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子線露光用マスクをステージ上に搭載し、ステージ上の荷電粒子線露光用マスクの所定の検査ポイントを順次移動して、検査画像を取得するように制御し、荷電粒子線露光用マスクの所定領域の検査画像を光学顕微鏡により取得し、取得した検査画像を２値化処理することを特徴とする荷電粒子線露光用マスクの異物検査方法。 （もっと読む）

【課題】
パターン検査装置において、膜厚の違いやパターン幅のばらつきなどから生じるパター
ンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。また、多種多様な
欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置を実現する
【解決手段】
同一パターンとなるように形成されたパターンの対応する領域の画像を比較して画像の
不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、切替え可能な複数の異なる検出系と異な
る検出系の像を同時に取得可能な複数台のセンサとそれに応じた画像比較部とを備えて構
成した。
また，画像の特徴量から統計的なはずれ値を欠陥候補として検出する手段を備えて構成
し，ウェハ内の膜厚の違いに起因して画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている
場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】周期性のあるパターン、特にＣＣＤ／ＣＭＯＳイメージャー用フォトマスクのような被検査体に対し、数ｎｍオーダーの寸法ズレや位置ズレによって生じるムラ欠陥を精度良く検出するための検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】周期性パターンが形成された被検査基板６０に照明光を最適角度で斜め照射し、周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査方法において、撮像部６０にて原撮像画像を取得し、この原撮像画像から周期性パターン領域を切り出す工程と、切り出された矩形計算領域内で積算値及びその比較基準値を求め、コントラスト比を求める工程と、コントラスト比分布画像を作成し、２値化処理・ラベリング処理を実施した後ムラ部面積、ムラ部評価値を算出する工程と、検査結果の判定を行う工程とを含む構成にした。 （もっと読む）

【課題】 任意のパターンを有するレチクル上のパーティクル及び異常の検出を可能にすること。
【解決手段】 レチクル検査のための方法及びシステムを開示する。この方法は、検査レチクル及び基準レチクルの表面をコヒーレントに照明すること、照明された表面からの散乱光にフーリエ変換を適用すること、基準レチクルからの変換された光の位相を、検査レチクルからの変換された光と基準レチクルからの変換された光との間の位相差が１８０度であるようにシフトすること、変換された光を像減算として合成すること、合成された光に逆フーリエ変換を適用すること、及び、ディテクタにおいて合成された光を検出することを含む。照明源からディテクタへの２つの光路間の光路長差は、照明源のコヒーレント長未満である。ディテクタにより検出される像は、レチクルの振幅及び位相分布における差を表し、これにより、外部パーティクル、異常などを容易に識別することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】高いコントラストで検査を行うことができる検査装置及び検査方法並びにそれを用いたパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかる検査装置は、光を透過するガラス基板２１の透過率に基づいて欠陥を検出して、ガラス基板２１と、反射面を有する第１の膜２９とを備える試料を検査する検査装置であって、ガラス基板２１の一方の面である入射面から試料に光を入射させる光源１１と、開口数が０．００２以上０．２以下で、光源１１からの光を反射面上に集光する対物レンズ１７と、ガラス基板２１に斜めに入射した入射光が反射面で正反射されることによって、ガラス基板２１において入射光が通過した位置と近い位置を斜めに通過して入射面から出射された光を検出する光検出器３２とを備えるものである （もっと読む）

【課題】検査中のパターン面へのパーティクルの落下を抑制すること。
【解決手段】本発明の一態様に係るＥＵＶマスク検査装置１００は、ＥＵＶマスク２０のパターン面２１を上側にした状態で、当該ＥＵＶマスク２０を載置するステージ７と、ＥＵＶマスク２０の検査中に、パターン面２１を覆うように、当該パターン面２１に平行に配置される平板状のツバ５とを備える。ツバ５は、ＥＵＶマスク２０のパターン面２１に検査光を集光する対物レンズ４の周囲に取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着した異物の検出精度を向上する。
【解決手段】レチクルＲの被検査面（ガラス面ＲＧ）に波長の異なる複数のプローブ光を照射し、ガラス面ＲＧからの散乱光を複数の受光角で受光し、受光した散乱光Ｌ_１，Ｌ_２のそれぞれの強度を計測する。ガラス面ＲＧでのプローブ光の照射位置と照射位置に対応する散乱光Ｌ_１，Ｌ_２の強度の計測結果とから、複数のプローブ光の波長と複数の散乱光の受光角毎に、ガラス面ＲＧについての散乱光の強度分布を求める。求められた複数の強度分布を相互に比較して解析することにより、レチクルパターンによる回折光からガラス面ＲＧ上に付着した異物ＡＰによる散乱光を分離して検出することができるので、精度良く異物ＡＰを検出することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】大型基板を高速で検査できる基板検査装置を実現する。
【解決手段】基板検査装置は、検査すべき基板の表面を検査ビームにより走査し、基板から出射する光を受光する検査ヘッド２，３と、検査ヘッドを第１の方向及び第１の方向と直交する第２の方向に移動させる駆動装置、検査ヘッドから出力される出力信号に基づいて欠陥を検出する信号処理装置とを具える。検査ヘッドは、検査ビームを発生する検査ビーム発生装置１１，１５と、検査ビームを基板に向けて投射する対物レンズ２３と、検査ビーム発生装置と対物レンズとの間の光路中に配置した微分干渉光学系２２と、微分干渉光学系により合成された干渉ビームを受光する第１の光検出手段２７と、前記検査ビーム発生装置と対物レンズとの間の光路中に配置され、検査ビームを第２の方向に周期的に偏向するビーム偏向装置２０とを具える。 （もっと読む）

【課題】マスク検査装置の稼働率の低下を招くことなく、データ量の少ない検査結果をマスク検査装置に保存することが可能なマスク検査システム及びマスク検査方法を提供する。
【解決手段】マスク検査システム１は、閾値が設定された複数の欠陥検出アルゴリズムに従いマスクの欠陥を検出するマスク検査装置２と、マスク検査装置２の検査結果を用いて、該検査結果に含まれる欠陥を、閾値を変更しながらレビューするレビュー装置３とを備える。レビュー装置３は、所望の欠陥検出レベルを達成する最適な閾値に変更されたときのレビュー結果をマスク検査装置２の検査結果として編集する検査結果編集部３４と、編集された検査結果をマスク検査装置２に出力する検査結果出力部３５とを備え、マスク検査装置２は、検査結果出力部３５により出力された検査結果を記憶装置２９に保存する検査結果管理部２８を備える。 （もっと読む）

【課題】タブルパターニングに用いられるマスクの検査を精度良く行うことが可能なマスク検査装置及びマスク検査方法を提供する。
【解決手段】２枚のマスクの光学画像を取得し（Ｓ１００）、取得した２枚のマスクの光学画像を合成する（Ｓ１０２）。合成された画像において１枚目のマスクのパターンと２枚目のパターンとの相対位置ずれ量を測定する（Ｓ１０４）。測定した相対位置ずれ量を基準値と比較し、２枚のマスクの良否を判定する（Ｓ１０６）。 （もっと読む）