【課題】マスクの欠陥のレビュー時間を短縮可能なマスク欠陥レビュー方法及びマスク欠陥レビュー装置を提供する。
【解決手段】検査結果である複数の欠陥からレビューする欠陥を選択する（Ｓ１０２）。選択された欠陥が設計データ上で繰り返し表現されたパターンの欠陥である場合、設計データ上で繰り返し表現された他のパターンを抽出し（Ｓ１０６）、他のパターンにある欠陥を抽出する（Ｓ１０８）。選択された欠陥の周辺パターンと、抽出された欠陥の周辺パターンとを抽出し（Ｓ１１０）、抽出した周辺パターンが相互に類似するか否かを判別する（Ｓ１１２）。周辺パターンが相互に類似する場合、選択された欠陥と、抽出された欠陥とをグループ化する（Ｓ１１４）。選択された欠陥が実欠陥か擬似欠陥かを判定し（Ｓ１２８）、その判定結果をグループ化された他の欠陥に適用する（Ｓ１３０）。 （もっと読む）

【目的】光学系の位置ずれによる画像の歪みを補正する検査装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、光源１０３と、フォトマスク１０１を配置するＸＹθテーブル１０２と、レーザを用いてＸＹθテーブル１０２の位置を測定するレーザ測長システム１２２と、フォトマスク１０１のパターン像を撮像するラインセンサ１０５と、ラインセンサ１０５にパターン像を結像させる拡大光学系１０４と、レーザを用いて拡大光学系１０４の位置を測定するレーザ測長システム１２４と、ＸＹθテーブル１０２の位置と拡大光学系１０４の位置との差分を用いて、撮像されたパターン像を補正する補正回路１４０と、補正後のパターン像を用いて、パターンの欠陥の有無を検査する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、光学系の位置ずれによる画像の歪みを補正することができる。 （もっと読む）

【課題】判別対象パターンが比較対象パターンに類似しているか否かを判別する濃淡パターン判別方法であって、明るさ変化に対してロバストであるとともに、パターン内の濃淡差が大きても小さくても、またパターン内に未知の濃淡異常や不良が含まれていても、類否を精度良く判別できるものを提供すること。
【解決手段】判別対象パターン、比較対象パターンの濃淡値に正規化処理を施して第１、第２の正規化濃淡値を生成する。第１、第２の正規化濃淡値を変数とし、かつ互いに直交する２つの座標軸とする２次元空間を設定する。その２次元空間に、判別対象パターンと比較対象パターン上の互いに対応する位置における第１、第２の正規化濃淡値が表す点を累積して、２次元ヒストグラムを作成する。２次元ヒストグラムをなす点の集合を少なくとも１つのクラスタに分類し、クラスタに関する形状、位置若しくは頻度に関する特徴に基づいて、判別対象パターンが比較対象パターンに対して類似しているか否かを判別する。 （もっと読む）

【目的】パルス光を用いた場合のＴＤＩセンサの出力変動を補正可能な検査装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、パルス光源１０３と、フォトマスク１０１を載置するＸＹθテーブル１０２と、パルス光がフォトマスク１０１に照射されて得られるフォトマスク１０１の光学画像を撮像するＴＤＩセンサ１０５と、照射された後のパルス光の光量を検知する光量センサ１７２と、検知された光量を入力し、パルス光の周期に同期させて、パルス毎の光量を測定する光量モニタ回路１４２と、パルス毎の光量とＴＤＩセンサ１０５から出力された積分された画素値を入力し、光学画像の画素毎に、該当するパルス毎の光量の総光量を用いてＴＤＩセンサ１０５から出力された積分された画素値を補正するセンサ回路１０６と、補正後の積分された画素値を用いて、パターンの欠陥の有無を検査する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の基本パターンが反復する反復パターンが形成された試料表面を走査し、複数の基本パターン相互の対応部分の画像同士を比較する欠陥検査において、ダブルデテクションで比較される３画像を同一方向に向かう主走査で取得しかつ正逆両方向において主走査を行う。
【解決手段】欠陥検査装置１は、試料の表面を撮像する撮像手段１３、撮像手段１３及び試料を相対移動させる移動手段１１、この相対移動により撮像手段１３で試料を２次元走査する走査制御手段４０、３個以上の基本パターン上で行われる反対向きの主走査を含む２回以上の主走査で得られる画像を格納する画像記憶手段２２、格納された画像のうち複数の基本パターンの対応部分を同一方向に向かって主走査して得られた画像を選択する選択手段２３、選択された画像間で比較を行い欠陥候補を検出する欠陥候補検出手段２４、欠陥候補がどの基本パターンにあるのかを決定する決定手段２５を備える。 （もっと読む）

【課題】
半導体デバイス等の製造工程中に発生する微小な異物やパターン欠陥を高解像検出するための深紫外光を光源とする装置において、短波長化による光学系へのダメージを検知して、ダメージ部分を退避する手段と、光学系配置の異常を製造時と比較検知して補正する手段とを備え、被検査対象基板上の欠陥を高速・高感度で安定検査できる装置および方法を提供すること。
【解決手段】
光学系の光路内に照明光の強度，収れん状態を検知する手段を設けて、光学系の異常を検知し、異常箇所が光軸と一致しないように退避する手段と、光学系を調整して製造時の光学条件となるように補正するように構成したことにより、検査装置内の光学系の長寿命化と微小欠陥の安定検出を図った。 （もっと読む）

【目的】ノイズの影響による誤検出を抑制し、フォトマスク上のゴミ等の異物を高感度で検出するフォトマスク検査方法を提供する。
【構成】異なる層構造を有する領域を表面に備えるフォトマスクの画像データを取得し、この領域の階調値データから画像データを引き算して反転画像データを作成し、反転画像データの画素値を一定量底上げした底上げ反転画像データを作成し、底上げ反転画像データと底上げしたガウシアン分布型カーネルとの正規化相関を取ることにより正規化相関画像データを作成し、正規化相関画像データと所定の閾値との比較により異物を検出することを特徴とするフォトマスク検査方法。 （もっと読む）

【課題】回折光によるコントラストから正常部と変動部とを精度良く識別する為の画像を取得することによるムラ検査装置における、最適な検査条件設定方法を提供すること。
【解決手段】周期性パターンが形成された基板に照明光を複数の照射角度で斜め照射し、周期性パターンにより生じる回折光を用いて検査するムラ検査装置における検査条件設定方法である。周期性パターンの形状に関する情報を入力する検査対象基板情報入力工程と、位置決め工程と、回折格子方程式による回折光強度ピーク角度算出工程と、回折光の測定を行う際の測定角度範囲を決定する回折光測定角度範囲決定工程と、回折光強度プロファイルを得る回折光強度取得工程と、得られた回折光強度プロファイルと、回折光強度ピーク角度算出工程において得られた回折光角度と回折光次数、照明光波長とを元に、照明光の照射角度、撮像倍率および照明光波長を設定する検査条件設定工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】反射型フォトマスクのパターン検査の精度が向上するとともに、検査に要する時間を短縮することのできる反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、その検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成された第一の反射膜と、第一の反射膜上に形成された電圧を印加することにより発光する発光層と、発光層上に形成された吸収体と、吸収体上に形成された遮光膜と、遮光膜上に形成された第二の反射膜と、を備えることを特徴とする反射型フォトマスクブランク。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの高精度な欠陥検査を容易に行うことができるテンプレート検査方法を得ること。
【解決手段】ナノインプリントのパターン形成に用いるテンプレートのテンプレート検査方法であって、平坦なウェハＷ上に塗布した色付きレジストＲ２にテンプレートＴのパターン形成面を近接させるとともに、色付きレジストＲ２をテンプレートＴのパターン内に充填させる流体充填ステップと、テンプレートＴとウェハＷとの間に色付きレジストＲ２を挟んだ状態でテンプレートＴを光学観察することによって、テンプレートＴの欠陥検査を行う欠陥検査ステップと、を含み、色付きレジストＲ２とテンプレートＴとの光学定数の差を、空気とテンプレートＴとの光学定数の差よりも大きくしておく。 （もっと読む）

【課題】マスク全体の光学画像及び参照画像を用いてマスクの欠陥検査を行うことが可能なマスク検査装置及びマスク検査方法を提供する。
【解決手段】マスク１０１の光学画像が検査ストライプ単位で取得され、予備検査部１２０に入力される。参照画像生成部１１８によりマスク１０１の参照画像が検査ストライプ単位で生成され、予備検査部１２０に入力される。予備検査部１２０により検査ストライプ単位の光学画像及び参照画像を用いて予備検査が行われる。検査ストライプ単位の光学画像及び参照画像はフラッシュメモリ１２２に逐次格納される。マスク１０１全体の光学画像及び参照画像が格納された後、欠陥検査部１２４によりこのマスク全体の光学画像及び参照画像を用いてマスク１０１のパターン欠陥検査が実行される。 （もっと読む）

【課題】ミラーの屈曲とマスクの撓みに起因する光学画像の歪みを排除でき、マスク検査を精度良く行うことが可能なマスク検査装置及びマスク検査方法を提供する。
【解決手段】マスクを保持したステージをＸ方向及びＹ方向に移動させ、レーザ干渉計の測定結果を用いながら、マスクに描画されたパターンの光学画像を取得する（Ｓ１００）。予め測定した光学画像の位置ずれ量をフィッティングした多項式を用いて、取得した光学画像の位置ずれを補正する（Ｓ１０２）。多項式補正後に残存する位置ずれを、予め測定した位置ずれ量を記述したマップを用いて補正する（Ｓ１０４）。マップ補正後の光学画像と参照画像を比較する（Ｓ１０８）。 （もっと読む）

【課題】ステンシルマスクのメンブレン形状の検査をシステム化して自動で行うため、ステンシルマスクの品質、信頼性が向上し、歩留り向上ができるステンシルマスクのメンブレン形状の検査方法及びステンシルマスクのメンブレン形状の検査装置を提供すること。
【解決手段】半導体製造で使用されるステンシルマスクのメンブレン形状の検査方法において、ステンシルマスクをＸＹステージに配置し、レーザによるシートビームをステンシルマスクの表面に対して斜めに入射し、ステンシルマスクからの反射で光切断像を得ることを特徴とするステンシルマスクのメンブレン形状の検査方法。 （もっと読む）

【課題】歩留まりを向上させることができるフォトマスクの検査方法、半導体デバイスの検査方法及びパターン検査装置を提供する。
【解決手段】同一の半導体デバイスの製造に用いられる複数枚のフォトマスクＦであって、それぞれに相互に代替可能な複数の単位領域Ｒが設定されたフォトマスクＦを検査して欠陥を検出し、検出された欠陥に、それが位置する単位領域Ｒを他の単位領域Ｒに代替することによってフォトマスクＦを救済可能なリダンダンシー欠陥Ｄがあるか否かを判定する。そして、２枚目以降のフォトマスクＦを検査するときには、それより前に検査された他のフォトマスクにおいて検出されたリダンダンシー欠陥Ｄの座標を含む単位領域Ｒを非検査領域ＲＸに設定し、この非検査領域ＲＸは検査しない。 （もっと読む）

【課題】大量のスループットを可能にする高速プロセスを有する光学検査システムを提供する。
【解決手段】レーザ光源１０１からの光ビーム１５１は、活性領域を有し、複数の移動レンズを活性領域に選択的に生成するようにＲＦ入力信号に対して応答する移動レンズ音響光学デバイス１０４に適用される。該音響光学デバイスは、生成された移動レンズの各々の焦点のそれぞれで、光ビームを受け、複数のフライングスポットビームを生成するように動作する。該ポットビームは半導体ウェハ１０８を走査する。使用可能な走査データを生成するために、複数の検出器セクションを有する光検出器ユニット１１０が使用され、各検出器セクションは、複数の光検出器と、複数の光検出器からの入力を並列に受けるように動作する少なくとも１つのマルチステージ格納デバイスとを有する。格納デバイスの各々に格納された情報は、複数のステージから同時に連続して読み出される。 （もっと読む）

【課題】パターン検査装置において、パターンの明るさむらの影響を低減して、高感度な欠陥検査を実現する。
【解決手段】被検査対象物上の欠陥を検査する欠陥検査方法であって、前記被検査対象物を所定の光学条件で照射して前記被検査対象物のパターンの画像データを取得する工程と、前記画像データから算出される特徴量に基づいて形成されるしきい値面関数のパラメータを決定する工程と、前記パラメータに基づいて形成された前記しきい値面関数を用いて、前記被検査対象物上の欠陥を検出する工程と、を有し、前記パラメータを決定する工程では、任意のパラメータを設定した前記しきい値面関数を用いて前記被検査対象物上の欠陥候補を抽出する工程と、前記工程により抽出された前記欠陥候補に関する欠陥情報の教示に基づき、前記しきい値面関数のパラメータを自動的に更新する工程と、を有することを特徴とする欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】検査対象について所定の画像生成手段により生成された検査画像を検査することにより検査対象の表面に存在する欠陥を検出する画像検査において、撮像画像に現れる明度ムラに起因するノイズの影響を低減する。
【解決手段】画像検査装置１は、検査対象２に関する所定の画像５１中の欠陥有無の判定の対象となる検査画素６０と、その周囲にある複数の画素６１〜６８のうち検査画素６０と最もグレイレベル値が近い画素との間のグレイレベル差である最小グレイレベル差を検出する最小グレイレベル差検出部（２１、２２、２５、２６）と、最小グレイレベル差が所定の検出閾値を超えるとき画素６０の位置に欠陥が存在すると判定する欠陥検出部２４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハに回路パターンを露光する際に用いられるレチクル等のマスク用基板における表裏面の異物等を、簡単かつ安価な構成で検査できるマスク用基板検査装置１００を提供する。
【解決手段】検査光学系機構１０１に対して相対移動可能なステージ３に姿勢調整可能に支持基体４を取り付け、この支持基体４にレチクルＷを保持する基板保持体５を回転可能に支持させる。そして、前記基板保持体５の回転角度位置を、表面に検査光が照射される表面検査角度位置、裏面に前記検査光が照射される裏面検査角度位置に保持する検査角度位置保持機構９を設けるとともに、前記基板保持体５に保持されたレチクルＷの表裏面が、基板保持体５の回転軸線Ｃと平行になるように当該基板保持体５の支持基体４に対する姿勢を調整可能な平行調整機構８を設けた。 （もっと読む）

【課題】 複数の受光器を備えた異物検査装置において、異物のみを正確にかつ漏れなく検査可能とする。
【解決手段】
本発明の異物検査装置は、被検物の表面に投光された光の表面における散乱光を受光する第１及び第２の受光器が出力する信号の強度分布に基づいて異物の有無を判定する制御器を備える。前記制御器は、第１の受光器の仮の第１走査開始位置に対する第２の受光器の仮の第２走査開始位置の位置関係を変更しながら異物検査を複数回行わせ、複数回の異物検査のそれぞれについて、第１の受光器が出力する信号の強度分布と第２の受光器が出力する信号の強度分布との重なり度合いを算出し、重なり度合いが最大である仮の第１走査開始位置と仮の第２走査開始位置との位置関係に基づいて、被検物の表面を検査するための第１及び第２の受光器それぞれの走査開始位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】単一の検査光学系機構で測定できるようにしつつも、表裏反転させたときの該マスク用基板を簡単な構成で確実に位置決めできるマスク用基板検査装置を提供する。
【解決手段】検査光学系機構１０１に対して相対移動可能なステージ３に姿勢調整可能に支持基体４を取り付け、この支持基体４にマスク用基板Ｗを保持する基板保持体５を回転可能に支持させる。そして、前記基板保持体５の回転角度位置を、当たり面９１と被当たり面９２と接触によって、表面に検査光が照射される表面検査角度位置Ｐと裏面に前記検査光が照射される裏面検査角度位置Ｑに保持する検査角度位置保持機構９を設けるとともに、マスク用基板Ｗを保持した基板保持体５の重心と回転軸線とを偏位させ、前記偏位に起因した重力による回転モーメントにより、前記表面検査角度位置Ｐ及び裏面検査角度位置Ｑにおいて前記当たり面９１が被当たり面９２を押圧するようにした。 （もっと読む）