【目的】より実画像に近い参照画像を生成可能なパターン検査を行う装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、サンプル光学画像データをＮ倍の解像度に変換する倍率変換部５０と、サンプル光学画像データのＮ倍の解像度で対応する階調値を定義した設計画像データと所定の低域ろ過関数とを畳み込み積分するＬＰＦ５４と、この設計画像データと所定の光学モデル関数とを畳み込み積分するＰＳＦ５６と、これらの画像データを用いて光学モデル関数の係数を取得する係数取得部１４２と、パターン形成された被検査試料の実光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、係数を用いて、前記被検査試料の実光学画像データに対応する参照画像データを作成する参照回路１１２と、実光学画像データと参照画像データを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一時的に発生する測定画像の偽像を排除できるパターン検査を行うこと。
【解決手段】試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像と基準画像とを比較する比較部と、を備え、測定画像生成部は、２画素以上で構成されるラインセンサを２段以上用いた時間遅延積分センサを２個以上つなげた受光装置を有し、各時間遅延積分センサの画素について、異常な画素値を除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値の平均値と所定値の和を基準値とし、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値と、全ての時間遅延積分センサの画素値の平均値との差の絶対値が基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】基板に生じた欠陥や異物などを正確に検出することのできる基板検査方法および基板検査装置を提供する。
【解決手段】マスク１に光源２からの光が照射され、検出器１０、１３で光学画像が得られる。また、マスク１の周辺における屈折率の変化量が検出器２０３で検出され、位置情報部１７において、測長部１６からのデータと、検出器２０３からの屈折率変化に関するデータとから位置補正データが作成される。この位置補正データを基に、比較部１８において、検出器１０、１３からの光学画像と、参照部１９からの参照画像とが比較される。 （もっと読む）

【課題】検査対象に応じて照明法を簡便に変更できるとともに、従来に比べて小型で単純化された構造の検査装置を提供する。
【解決手段】光源１、１′、１″は、いずれも複数の面発光レーザ素子を用いて構成されている。光源１は任意の偏向方向の光を発生し、この光は照明光学系３を介してマスク２２に垂直に照射される。光源１′も任意の偏向方向の光を発生するが、この光は照明光学系３を介してマスク２２に斜めに照射される。光源１″は所定の偏向方向の光のみを発生し、照明光学系３を介してマスク２２に垂直または斜めに照射される。これらの光源は、マスク２２に応じて交換可能に配置されており、制御計算機９の制御の下で光源制御部２４によって自動的に交換される。 （もっと読む）

【目的】参照画像生成モデルの精度をより向上させることが可能なパターン検査方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン検査方法は、サンプル光学画像データと設計画像データを入力し、参照画像作成モデル関数の複数の係数を取得する工程（Ｓ１０２）と、複数の係数の１つを用いて作成された参照画像データと被検査試料の実光学画像データとを比較して、欠陥候補パターンを検出する工程（Ｓ１０８）と、欠陥候補パターンを含む参照画像データについて、残りの係数を用いて、作成された残りの係数分の参照画像データと欠陥候補パターンを含む実光学画像データとを比較する工程（Ｓ１１２）と、複数の係数分の各参照画像データと欠陥候補パターンを含む実光学画像データとの複数の比較結果のうち、所定の条件に沿った比較結果を出力する工程（Ｓ１２０）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
半導体ウェーハに形成された半導体チップのメモリマット部の最周辺部まで高感度に欠陥判定できる検査装置およびその検査方法を提供する。
【解決手段】
半導体ウェーハに形成されたダイの回路パターンの繰り返し性に基づいて画像のデータを複数の画像メモリに分配して格納し、画像メモリに格納された画像のデータを繰り返し性の方向に加算平均した合成参照画像と比較して差分画像を生成し、差分画像の差分値が予め定められたしきい値より大きい領域を欠陥と判定し、欠陥の画像のデータと欠陥の座標を含む欠陥情報の複数を統合して出力する。 （もっと読む）

【課題】一時的に発生する測定画像の偽像を排除できるパターン検査を行うこと。
【解決手段】試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像の隣接する画素の差分値を求める測定画像画素差算出部と、測定画像と基準画像とを比較する比較部と、を備え、測定画像の隣接する画素の差分値が所定値を超える場合、該画素を含む領域のパターンの測定を再度行う、試料検査装置、又は、試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像と基準画像の差画像を求め、差画像の隣接する画素の差分値を求める差画像画素差算出部と、測定画像と基準画像とを比較する比較部と、を備え、差画像の隣接する画素の差分値が所定値を超えた場合、該画素を含む領域のパターンの測定を再度行う、試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】基板検査に対する基板検査装置の稼働率向上のために、スループットを向上させることが可能な基板検査方法および基板検査システムを提供することを目的とする。
【解決手段】レシピサーバが、レシピの初期設定として被検査体の検査領域を設定する検査領域設定工程を実行し、レシピサーバが、撮像のための光学条件を設定する光学条件設定工程を実行し、基板検査装置が、レシピサーバによって設定された検査領域および光学条件を含む暫定レシピを用いて被検査体を撮像して画像データを取得する画像取得工程を実行し、レシピサーバが、基板検査装置によって取得した画像データを用いて暫定レシピをチューニングして調整レシピを作成するレシピチューニング工程を実行し、基板検査装置が、レシピサーバによってレシピチューニングした調整レシピに基づいて、被検査体を検査する検査工程を実行することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】同一の基本パターンが２次元方向に反復するように形成された試料上を、撮像ユニットで２次元走査して主走査方向に並んでいない複数の基本パターンを撮像し、これら基本パターンの１つを撮像した撮像画像である検査画像と、他の基本パターンを撮像した撮像画像から得られる参照画像との間を比較する際に、これら基本パターンを同じ方向に向かって走査するために生じる検査効率の低下を緩和する。
【解決手段】連続して行われる２回の主走査が互いに反対方向に行われるように試料と撮像ユニットとを相対移動させ、互いに反対方向に行われる主走査で得られる参照画像が異なる記憶領域に記憶されるように参照画像を所定の記憶回路（２１ａ、２１ｂ）に記憶し、ある主走査で得られる検査画像をその前に同じ方向に向かって行われた他の主走査によって得られた参照画像と比較する。 （もっと読む）

【課題】被検査物体の熱損傷を防ぐために測定スポットの照度を制限すると、検出感度と検査速度がトレード・オフの関係にあり、他方の犠牲無しに一方を改善したり、両方の改善は困難であった。また、被検査物体の外周部で内周部より検出感度が低下する問題があった。
【解決手段】照明光学系と測定スポットと集光光学系と光検出手段から成る測定ユニットを複数個備え、これら複数個の測定スポットから得られる検査結果を統合すると共に、各測定スポットへの光量配分を走査半径位置に従って制御する。 （もっと読む）

【課題】撮像条件、照明条件、周期性パターンの設計条件などの影響をできる限り排除した欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】周期性パターンを有する被検査体のスジ状ムラを検出するための欠陥検査方法であって、被検査体に光源からの照射で生じる回折光の強度分布の取得を複数の照明角度で行い、各照明角度における回折光の強度分布を検査画像として取得された被検査体への照明角度が異なる複数枚の検査画像に対し、照明角度の異なる複数の検査画像を比較し、被検査体への照射角度に応じて位置が変化するスジ状ムラと変化しないスジ状ムラとを抽出し、変化するスジ状ムラを検査の際に欠陥としない擬似欠陥とし、変化しないスジ状ムラを検査の際に欠陥として選別されたスジ状ムラに対し、それぞれの最大輝度とパターンピッチ正規化面積に基づいて欠陥規模の評価を行う欠陥検査方法を提供する。 （もっと読む）

【目的】回転位相板及び四分割ミラーを用いずにインコヒーレント化する照明装置を搭載したパターン欠陥検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のパターン欠陥検査装置１００は、基本波を発光する光源１４０と、基本波を、基本波の偏向状態を維持した第１と第２の分波に分岐し、第１の分波と第２の分波とを同一光路長で合成する光学系１４２と、第１の分波の光路上に配置され、第１の分波の偏向面と第２の分波の偏向面とが直交するように第１の分波を偏向するλ／２波長板３０と、光学系１４２により合成された合成波をパターンが形成された被検査対象に照射する光学系１４４と、被検査対象を載置するＸＹθテーブル１０２と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、回転位相板及び四分割ミラーを用いずにインコヒーレント化された照明光を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明では、同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画
像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いな
どから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する
。また、多種多様な欠陥を顕在化でき，広範囲な工程への適用が可能なパターン検査装置
を実現する。
【解決手段】
上記課題を解決するために、本発明では、同一パターンとなるように形成された２つの
パターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査
装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成した。
また、パターン検査装置を、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変
換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であ
っても、正しく欠陥を検出できるようにした。 （もっと読む）

【課題】
誤検出を低減した異物検査装置を提供すること。
【解決手段】
被異物検査装置は、被検査物の表側の被検査面および裏側の被検査面それぞれに光束を照射する照射手段と、前記表側の被検査面からの散乱光を検出する第１検出手段と、前記裏側の被検査面からの散乱光を検出する第２検出手段と、前記第１検出手段および前記第２検出手段からの出力に基づいて前記表側の被検査面および前記裏側の被検査面それぞれの異物を検査する演算手段と、照射手段と第１検出手段と第２検出手段と演算手段とを制御する制御手段とを有する。照射手段は、表側の被検査面または前記裏側の被検査面へ光束の照射を選択的に行え、制御手段は、選択的な光束の照射を受けた被検査面に対応した第１検出手段および第２検出手段のうち少なくとも一方に関し、同時の光束の照射に応じた出力と選択的な光束の照射に応じた出力とに基づいて演算手段に異物を検査させる。 （もっと読む）

【目的】検査対象試料の被検査パターン画像を適切に検査するために、検査基準パターンの画像を適切に補正した補正画像を生成する装置及びその方法を提供する。
【構成】パターン検査用の補正パターン画像生成装置であって、アシストパターン画像と、被検査パターン画像とを合成してアシストパターン付き被検査パターン画像を生成する第１のパターン合成部と、アシストパターンシフト処理部と、シフトさせたアシストパターン画像と検査基準パターン画像とを合成してアシストパターン付き検査基準パターン画像を生成する第２のパターン合成部と、アシストパターン付き被検査パターン画像と、アシストパターン付き検査基準パターン画像を用いて位置シフトモデルを生成するモデル生成部と、検査基準パターン画像の補正を行う補正パターン画像演算部とを備えたことを特徴とする補正パターン画像生成装置。 （もっと読む）

【課題】顕微鏡の移動速度やオートフォーカス速度に関わらず、レビュー検査を効率的に行い、検査時間短縮を実現することが可能な検査システムを提供すること。
【解決手段】欠陥検査装置とレビュー検査装置とを備えた検査システムであり、前記欠陥検査装置は、基板に形成された欠陥を認識し、前記欠陥の位置座標を示す欠陥位置座標および前記欠陥のサイズを示す欠陥サイズを含む欠陥情報を取得する。また、前記レビュー検査装置は、前記欠陥検査装置によって取得した前記欠陥位置座標に基づいて、撮像範囲を相対的に移動させて前記基板を顕微鏡にて検査し、前記欠陥情報および前記撮像範囲を構成するための撮像範囲情報に基づいて、前記相対的な移動の回数が少なくなるよう座標を算出する座標算出部を備える。 （もっと読む）

【課題】反復パターンが形成された試料の表面上の相互に同一であるべきパターンを撮像した検査画像と参照画像とを比較して、その相違部分を所定の検出感度の下で各々検出し、これら相違部分の存在箇所を反復パターンの欠陥として検出するパターン検査において、検査開始時に行われる検出感度の設定に要する時間を短縮する。
【解決手段】所定の第１仮検出感度の下で検査画像と参照画像との相違部分が存在する箇所を欠陥候補として検出し（Ｓ１３）、各欠陥候補の箇所における検査画像と参照画像との間の差画像を所定の記憶手段に各々記憶し（Ｓ１４）、この差画像のグレイレベル値と第２仮検出感度とを比較することによって、Ｓ１３で検出された欠陥候補の各々のうち第２仮検出感度の下で検出される欠陥候補の集合を得る。 （もっと読む）

【課題】狭い空間内に組み込むことができ、特定の波長域の検査光を選択的に出射させるコンパクトな構造の集光レンズ系及び照明装置を実現する。
【解決手段】本発明による集光レンズ系は、光源（２ａ）から出射した広帯域の波長光を集光すると共に所定の波長帯域の波長光を集束性光ビームとして選択的に出射させる集光レンズ系である。当該集光レンズ系は、第１の正レンズ（２０）と、特定の波長域の波長光を選択的に透過させる波長選択フィルタ（２１）と、負レンズ（２２）と、第２の正レンズ（２３）とを順次有する。或いは、第１の正レンズと第２の正レンズとの間に２つの負レンズ（３１，３３）を配置し、これら負レンズ間に波長選択フィルタ（３２）を配置する。光源から出射した照明光が波長選択フィルタに斜めに入射して収差が生じても、当該収差は後段の負レンズにより補正される。この結果、光路長の短い集光レンズ系が実現される。 （もっと読む）

【課題】
被検査物の検査により得られたパターン信号の飽和による欠陥の見逃しを防ぎ、早期に欠陥発生の原因究明ができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】
パターンが形成された被検査物にレーザ光を照射し、該被検査物からの信号を検出して欠陥を検出する欠陥検査において、被検査物に関するレイアウトデータに含まれるパターン情報を入力し、該入力されたパターン情報から被検査物の複数の被検査領域毎に、配置，繰り返し性，粗密のうちの少なくともいずれかひとつを判定し、該判定結果に基づいて検出した信号の飽和レベルを予測し、該信号が飽和しないような透過率条件を決定する。 （もっと読む）

【課題】位置合わせミスによる擬似欠陥の発生を抑制し、効率の良い検査を行うこと。
【解決手段】試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像と基準画像とを比較して差異が閾値を超えたら欠陥と判定する比較部とを備える、試料検査装置において、測定画像と基準画像の一定エリアのエリア画像を切り出し、エリア画像同士の位置ずれ量を測定し、エリア画像同士の位置ずれ量の信頼度を示す信頼度情報を求める位置ずれ測定部と、信頼度情報と位置ずれ量を利用してエリア画像同士の位置合わせを行う位置合わせ部と、を備える試料検査装置。 （もっと読む）