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Fターム[2G051EB09]の内容

光学的手段による材料の調査の特殊な応用 (70,229) | 信号の比較、判別 (2,683) | 補助データを使用するもの (411)

Fターム[2G051EB09]に分類される特許

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【課題】分解能の異なるカラー画像を生成する処理を、コストをかけずに効率良く行えるようにする。
【解決手段】CMOSカメラ1を用いた基板外観検査装置に、あらかじめ、複数種の分解能毎に、その分解能のカラー画像を生成するためのルールとして、画像の読み出しおよび色データの補間処理に関するプログラムを登録する。また、ティーチングの際に、基板に割り付けられた検査対象領域毎に、検査のための計測に要求される分解能と、その領域に対応する撮像素子上の範囲を特定するための情報とを登録する。検査時には、カメラ1による撮像を行う都度、その時点の撮像対象領域に含まれる検査対象領域毎に、その領域につき登録された分解能に応じたプログラムを用いて、撮像素子の対応する範囲から画像データを読み出し、画素毎に色パラメータを補間して、検査のためのカラー画像を生成する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、基材上に赤外線吸収インキで印刷される赤外線吸収印刷領域の検査方法及び検査装置に関するものである。
【解決手段】 第1の照明手段により赤外線吸収印刷領域を含む領域に対して垂直方向から赤外線を含む光線を照射し、第2の照明手段により、第1の照明手段から光線を照射する垂直方向に対して所定の角度を有する方向から、赤外線吸収印刷領域を含む領域に対して赤外線を含む光線を照射し、撮影手段によって赤外線光領域の波長を対象に赤外線吸収印刷領域を含む領域の画像データを取得し、記憶手段により、基準となる赤外線領域の基準赤外線吸収印刷領域画像データ等をあらかじめ記憶し、画像処理手段により、画像データと基準赤外線吸収印刷領域画像データ等を比較し、その比較結果に基づいて赤外線吸収印刷領域の形状、面積及び位置の少なくとも一つの良否を判定する。 (もっと読む)


【課題】再度精密検査行うという手間を省いて、製造物の欠陥の有無を高速に判別することができるようにすること。
【解決手段】製造物を画像撮影し、欠陥の有無を判定する装置において、製造物を設計したデータから製造物を撮影した際に欠陥がなければ得られるであろう製造所望画像101を作成し、その中から特に欠陥が発生しやすい検査部位102を選択させ、これに欠陥パターン103を上乗せして欠陥パターン付きテンプレート104を作成させる。製造物を画像撮影し、欠陥パターン付きテンプレート104をテンプレートとしてテンプレートマッチングを行い、マッチングさせた評価値から欠陥の有無を判定する。これにより、評価値から欠陥の有無を直接判定することができ、精密検査を行うことなく、素早く次の同じ型の製造物を検査することができる。 (もっと読む)


【課題】印刷物の光学的な読み取りに係る誤差を除去して高速に各印刷物を検査システムの提供。
【解決手段】印刷物を光学的に撮像し印刷物に対応する撮像情報を生成する撮像手段を備える検査システムに含まれるコンピュータを印刷物を撮像する際に撮像手段と印刷物との距離、撮像手段のレンズの収差に起因して生成された撮像情報内に含まれる誤差情報を記憶する記憶手段、記憶されている誤差情報に基づいて印刷対象情報を補正し印刷物の検査における基準となる基準情報を生成する基準情報生成手段、一の印刷対象情報に対応する撮像手段による撮像情報の生成処理と並行して、一の印刷対象情報に対応した誤差情報を用いた一の印刷対象情報に対応する基準情報の生成処理を実行するように基準情報生成手段及び撮像手段を制御する制御手段、生成された撮像情報と生成された撮像情報に対応する基準情報とを比較し該比較結果を出力する比較手段として機能させる。 (もっと読む)


【課題】欠陥検査を効率的に、かつ確実に行えるようにする。
【解決手段】欠陥検査装置1は、搬送部2でアライメントした基板Wを端面検査部3に搬送させ、端面検査部3と平面検査部4に順番に搬送し、それぞれで端面検査、表面検査、裏面検査を行わせる。端面検査部3で得られた端面画像から基板Wのノッチ位置を検出し、ノッチ位置を基準とする座標系に変換する。表面検査又は裏面検査で取得した画像からは、基準位置に対する基板中心と、回転方向におけるノッチ位置を抽出する。端面画像と表面画像及び裏面画像をノッチ位置や基板の中心位置に基づいて3次元座標系の画像に変換し、3次元形状で表示部6に表示させる。 (もっと読む)


【課題】ティーチングを行わなくとも、個々の基板に適した検査用ウィンドウを設定し、標準検査データを用いた検査を行えるようにする。
【解決手段】はんだ付け検査機2には、各種部品について、ランドの数および相対位置関係を示す情報を含む標準検査データが登録される。また前工程の部品実装機1から検査対象基板の部品実装データ(各部品の位置および部品種を示すもの)と検査対象基板のはんだ付け前の画像の提供を受ける。つぎに、自装置での撮像により生成したはんだ付け後の基板の画像とはんだ付け前の基板の画像との差画像を生成し、この差画像と部品実装データおよび標準検査データを用いて、各部品に適合するはんだ付け部位を抽出する。さらにこの抽出結果に基づき、はんだ付け後の基板の画像の各はんだ付け部位に検査用ウィンドウを設定し、対応する部品種の標準検査データを用いた検査を実行する。 (もっと読む)


【課題】被検査試料のパターン検査の精度を高めること。
【解決手段】被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、光学画像を参照画像により補正処理を含むアライメント処理するアライメント処理部と、アライメント処理部で処理された異なった光学画像同士を比較処理する比較処理部と、を備える、パターン検査装置。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、ウエハ等の被検物体の欠陥検査を行う検査装置に関し、最適な装置条件の決定に掛かる時間を短縮することを目的とする。
【解決手段】 被検物体を照明する検査光の発光部と、前記検査光が前記被検物体により回折した回折光に基づく物体像を撮像する撮像部と、前記発光部の近傍に配置され前記被検物体を照明するモニタ光の発生部と、前記撮像部に入射する前記検査光の回折光に略比例する光量の前記モニタ光の回折光が入射する位置に配置されるモニタ部とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】混載ウェハ(システムLSIなど)などに対して欠陥を高感度に検出し、しかも欠陥種を幅広く検出して、欠陥捕捉率を向上させた欠陥検査装置を提供することにある。
【解決手段】本発明は、色収差のない反射対物レンズを採用することにより、多波長照明(複数の波長帯域を有する照射光による照明)による明るさ変動を抑制すると共に波長選択検出によって欠陥を顕在化して感度向上を図り、しかも試料上の同一空間像を異なる複数種の光学像で取得できるように構成した欠陥検査装置である。 (もっと読む)


【課題】基板の良否判定を容易にすることによって製造工程全体のスループットを向上させることができる欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】撮像部3は被検査対象物を撮像し、撮像情報を生成する。画像取得部4は、撮像情報に基づいて被検査対象物の画像を生成する。欠陥抽出部5は、生成された画像を用いて被検査対象物上の欠陥を抽出する。欠陥検査部6は、抽出された欠陥に対して検査を行い、検査条件毎の検査結果を生成する。基板検査結果生成部10は、欠陥に関する情報に基づいて検査条件毎の検査結果を重み付けした上で検査条件毎の検査結果を統合する。 (もっと読む)


【課題】 対象物のパターン全体の状態を解析することができるパターン・ムラ解析装置およびパターン・ムラ解析方法を提供すること。
【解決手段】 対象物200のパターンのパターン・ムラを解析するためのパターン・ムラ解析装置1であって、対象物200を保持する対象物保持手段2と、パターンに対して光Liを照射する光源3と、パターンからの反射光Lrを受光する受光手段5と、対象物200に対する受光手段5の角度を調節する受光角度調節手段6と、受光手段5が受光した反射光Lrの反射光データを格納するデータ格納手段7と、対象物200の同一領域内の複数の反射光データから領域の特徴を表す特徴データを算出するデータ演算手段8と、を具備し、この特徴データからパターン・ムラを解析する。 (もっと読む)


【課題】絶対的なモデル画像を必要とすることなく、立体形状を有するMEMSデバイスの欠陥を高精度かつ効率的に検出すること。
【解決手段】欠陥検出装置100は、ウェハ1の各ダイ30に形成されたプロテインチップ35を、各ダイが複数に分割された分割領域71毎に、かつ、複数の異なる焦点位置において、それぞれ撮像して、各分割領域71を識別するIDとともに各分割領域71毎かつ各焦点位置毎の検査対象画像として保存し、対応するIDを有する各検査対象画像の各画素毎の平均輝度値を算出して各分割領域71毎及び各焦点位置毎のモデル画像を作成し、各モデル画像と各検査対象画像との差分を差分画像として抽出した後、各差分画像から所定面積以上のBlobを欠陥として抽出し、抽出されたBlobの特徴量を基に欠陥の種類を分別する。 (もっと読む)


【課題】半導体発光素子などの外観検査において、電極パターンなどの被検査対象の大きさのばらつきなどを許容しつつ、局所的な欠陥を高い検査精度で検出できる外観検査方法を提供する。
【解決手段】良否判定がなされる被検査対象の設計形状が、少なくとも1本の対称軸を有する線対称形状である場合において、その被検査対象の画像内にその対称軸に相当する基準線を設定し、その基準線を境とする上記被検査対象の一方の画像と他方の画像とを対比して、前記被検査対象の良否判定を行う。 (もっと読む)


【課題】目視判定における良否判定の基準を安定させ、検査効率を高める。
【解決手段】本発明の外観検査装置1は、プリント基板Pを撮像するカメラ52と、プリント基板Pの状態の良否を判定するための基準となる基準画像データを記憶する記憶部61と、カメラ52により撮像されたプリント基板Pの撮像画像の画像データと記憶部61に記憶された基準画像データとを比較して差分をとり、この差分に基づく差分画像を作成するコントロールユニット60と、差分画像を表示する液晶モニタ4とを備えている。図8は表示画面の一例であって、左上の表示領域に左側ずれ限度画像を、右上の表示領域に差分画像(差分領域D2)及びプリント基板Pの撮像画像を、左下の表示領域に標準画像を、右下の表示領域に差分画像(差分領域D1)及びプリント基板Pの撮像画像をそれぞれ同時に表示させたものである。 (もっと読む)


【課題】絶対的なモデル画像を必要とすることなく、高精度かつ効率的にMEMSデバイスの欠陥を検出するとともに、欠陥の種類を正確に分別すること。
【解決手段】欠陥検出装置100は、ウェハ1の各ダイ30に形成されたプロテインチップ35を、各ダイが複数に分割された第1分割領域71毎に低倍率で撮像して、各第1分割領域71を識別するIDとともに検査対象画像として保存し、対応するIDを有する各検査対象画像の各画素毎の平均輝度値を算出して各第1分割領域71毎のモデル画像を作成し、モデル画像と各検査対象画像との差分を差分画像として抽出した後、各差分画像に対してBlob抽出を行ない所定面積以上のBlobを抽出して欠陥の有無を判断し、更に、欠陥が有る場合には第1分割領域71を更に分割した第2分割領域72毎に高倍率で撮像し、再度モデル画像を作成してBlobを抽出し、欠陥の特徴点を基に欠陥の種類を分別する。 (もっと読む)


【課題】参照画像の保存量を低減することができる基板検査装置および基板検査方法を提供する。
【解決手段】記憶部8は、検査対象領域内の検査点で基板を撮像して得られた参照画像を記憶する。また、記憶部8は、第1の検査対象領域内の第1の検査点に対応した第2の検査対象領域内の第2の検査点における参照画像と第1の検査点とが関連付けられた検査情報(レシピ)を記憶する。制御部5は、第1の検査点で検査を行う場合に、検査情報に基づいて、第1の検査点に対応した第2の検査点における参照画像を選択する。表示部6はこの参照画像を表示する。 (もっと読む)


【課題】
抄造工程で付与されるすき入れ、すき入れコード情報及び印刷模様を抄紙機上で検査する用紙品質検査装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、従来例の用紙品質管理装置の検査方法とは別の方法としたすき入れ検査部と、印刷検査部と、新たな機能としてすき入れコード情報検査部を設け、これらを制御部によって制御する用紙品質検査装置である。 (もっと読む)


【課題】画素単位で任意に区分けされる複数の判定領域に対して、それぞれ任意の判定条件を定めるような、高精細な検査精度設定を可能にする。
【解決手段】印刷物検査装置は、印刷物の判定基準画像である閾値画像と、判定条件を異ならせる複数の判定領域を、それぞれ濃度値が異なる画素で塗りつぶした判定領域画像と、判定領域画像の濃度値と判定条件とを関連付ける判定条件テーブルとをあらかじめ記憶し、印刷物の画像を入力し、入力画像に所定の前処理を施して得られる検査画像と閾値画像とを比較して、検査画像上の欠陥候補を抽出し、検査画像における欠陥候補の中心位置を抽出し、欠陥候補中心位置に対応する判定領域画像上の画素を特定して、その濃度値を参照し、濃度値に関連付けられた判定条件を判定条件テーブル上で参照し、判定条件にもとづいて欠陥候補の欠陥判定を行う。 (もっと読む)


【課題】
偶発的に存在する固体或いは異物に関して液体或いは液状充填材を充填された容器の確実な検査を高い出力により可能とする方法を提供すること。
【解決手段】
充填材を充填した瓶或いは同様な容器を検査する方法であって、容器が光電式或いは電磁式画像検出加工システム或いは分析システムにより液状充填材に偶発的に含有された固体或いは異物を監視されて、しかも、光電式或いは電磁式センサーシステムの画像形成に基づいて監視されている。
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【目的】パターンへの追従性を向上させながらフォーカスボケを起こさないで光学画像を取得する手法を提供することを目的とする。
【構成】パターンの設計形状データと前記パターンの膜厚情報とを入力し、前記パターンの設計形状データと前記パターンの膜厚情報とに基づいて、所定の領域の平均膜厚を演算する平均膜厚演算回路250と、前記パターンの設計形状データと前記パターンの膜厚情報とに基づいて作成されたマスクパターンを用いて、前記所定の領域に対応するマスクパターンの領域の光学画像を取得する場合に、前記平均膜厚に合焦位置を合わせて光学画像を取得する光学画像取得部150と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


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