【課題】被検物の全面でフォーカスが合い、さらに被検物の全面が撮像素子と共役となる表面検査装置および表面検査方法を提供する。
【解決手段】表面検査装置１は、ウエハ１０を支持するホルダ５と、ホルダ５に支持されたウエハ１０の検査面１０ａに検査用照明光を照射する照明光学系２０と、検査用照明光が照射されたウエハ１０の検査面１０ａからの検査光を受光する撮像装置４０と、撮像装置４０で受光した検査光に基づいてウエハ１０の検査面１０ａの検査を行う画像処理検査部４５とを有し、ホルダ５はウエハ１０の検査面１０ａと検査光の光軸とが成す角度を調整可能であり、前記角度に応じて、ウエハ１０と撮像装置４０とがシャインプルーフの条件を満たすように、撮像装置４０を検査光の光軸に対して傾動させるシャインプルーフ条件制御部５１を備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】高い検査精度の外観検査を短時間で実現する。
【解決手段】色抽出部５は、正常状態の検査対象物を撮像したＲＧＢカラー画像について、ＲＧＢの各座標値を特徴量とする学習データを画素ごとに作成する。分類部２は、各学習データを競合学習型ニューラルネットワーク１に入力して学習させ、クラスタリングマップを作成する。学習後、分類部２は、競合学習型ニューラルネットワーク１に再度入力させた学習データごとに、クラスタリングマップ上の各ニューロンにおいてユークリッド距離を求め、各ニューロンについてユークリッド距離のリストを作成する。その後、分類部２は、各ニューロンについて、上記リストの最大値を分散とし、重みベクトルを平均ベクトルとして定義したガウス関数を設定する。その後、分類部２は、学習データごとに全ニューロンのガウス関数値総和を求め、全学習データに関するガウス関数値総和の最小値を下限閾値に設定する。 （もっと読む）

【課題】製品レチクルにＴＤＩセンサ撮像面積に比して充分な広さの黒領域及び白領域が存在しなくても、製品レチクルを用いてセンサアンプのオフセット及びゲインの調整が可能なレチクル欠陥検査方法及びレチクル欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】ＴＤＩセンサ１１の各画素の出力がセンサアンプ１５により増幅される。増幅された各画素の光量信号のボトム値が、オフセット／ゲイン調整手段１６のボトム値記憶手段１６ａにより記憶され、ピーク値がピーク値記憶手段１６ｂにより記憶される。各画素のボトム値に基づいて、オフセット算出手段１６ｃにより各画素のオフセットが算出される。各画素のオフセットと、各画素のピーク値とに基づいて、ゲイン算出手段１６ｄにより各画素のゲインが算出される。算出された各画素のオフセット及びゲインがレジスタ１５３に記憶されることで、センサアンプ１５のオフセット及びゲインが調整される。 （もっと読む）

【課題】ラインセンサカメラの視野位置と視野全体の分解能を、簡便に調整することのできる較正方法、較正装置及びプログラムを提供する。
【解決手段】下記（ａ）〜（ｃ）の３つの条件を満足するパタンを有する基準板をラインセンサカメラで撮像して1次元画像を得るステップと、（ａ）仮想の基準線と交差する５本以上の直線要素を有する、（ｂ）直線要素が全て平行ということがない、（ｃ）直線要素の延長線が全て一点で交わることがない、撮像して得られた１次元画像において直線要素に対応する画像アドレスを検出するステップと、検出した直線要素に対応する画像アドレスと基準板上での直線要素の位置と向きの情報を用いて、任意の画像アドレスを基準板上の対応する点へ写像する座標変換パラメータを推定するステップと、推定した座標変換パラメータに基づいて基準板上でのラインセンサカメラの視野位置と各画像アドレスでの分解能を算出するステップと、をコンピュータに実行させるためのプログラムである。 （もっと読む）

【課題】光学画像受光部の受光面上に照射されたパターン像の焦点合わせを容易にすること。
【解決手段】検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に照射光を照射する光照射部と、検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、検査対象試料のパターン像の焦点を光学画像受光部に合わせる焦点調整装置と、検査対象試料上にスリット像を形成するスリット像形成装置と、検査対象試料上のスリット像を表示する観察用表示装置と、を備え、観察用表示装置で表示される検査対象試料上のスリット像から、光学画像受光部における検査対象試料のパターン像の焦点を調整する、光学画像取得装置。 （もっと読む）

【課題】大きいダイナミックレンジを有する光を素早く検出することができる検査メカニズムを提供する。
【解決手段】混合モード機能と共に連続ゲイン調節および対数変換を有する混合モード検出器（ＭＭＤ）２００を示す。ＭＤＤ２００は、センサまたは計測ブロック２５０および出力プロセッサ２５１を含む。計測ブロック２５０は大きくは、試料から放射されたビームを検出し、その検出されたビームに基づいて検出信号を発生する。計測ブロック２５０はまた、センサへのゲインを自動的に調節し、そのようなゲインを出力プロセッサ２５１に出力する。出力プロセッサ２５１は大きくは、ゲイン調節によって引き起こされた検出信号からの効果を打ち消して、検出されたビーム強度に対応する出力信号を作る。出力プロセッサはまた、出力データをオフセットすることによって、それが「較正された」ゲイン値に対応するようにする。 （もっと読む）

【課題】製品品質の検査システム及びその方法を提供する。
【解決手段】製品品質の検査システムは、検査機具と、撮影装置及び検査モジュールを含む。前記検査機具は検査対象としての完成品を位置決めするためであり、撮影装置をその上に架設し、両者の位置の対応関係を恒に変わらぬよう保持し、検査モジュールはデジタル信号の処理を行う。 （もっと読む）

【課題】事前設定を行わずに２枚の画像の輝度を揃えてパターン検査を正確に行う。
【解決手段】エッジ検出部２１は、被検査画像ＯＢＪに含まれる水平エッジと垂直エッジを検出する。水平補正値算出部２２は、水平補正値Ａとして、被検査画像の水平非エッジ領域（水平方向に並び、垂直エッジ上の画素で挟まれた画素からなる領域）内の画素値の平均値と参照画像ＲＥＦの対応位置にある領域内の画素値の平均値との差を求める。垂直補正値算出部２３は同様に垂直補正値Ｂを求め、補正値選択部２４は水平補正値Ａと垂直補正値Ｂを含む複数の候補の中から補正値Ｃを選択する。補正部２５は補正値Ｃを用いて被検査画像を補正し、比較部２６は補正後の被検査画像と参照画像の差を求める。欠陥判定部３２は、求めた差に基づき被検査物における欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】被印刷基材の蛇行や伸縮の影響を小さくして擬似不良検出を抑え、少しずつ成長するような不良の検出も可能な印刷絵柄検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】印刷絵柄を撮像し検査対象画像データを出力する撮像手段と、撮像手段が撮像対象としている被印刷基材の張力を監視する張力監視手段と、撮像手段により得られた検査対象画像データを記憶する第１の記憶手段と、検査の基準となるマスター画像データを記憶する第２の記憶手段と、検査対象画像データとマスター画像データを比較して、検査対象画像データの良否を判定する良否判定手段と、張力監視手段により監視されている被印刷基材の張力が所定値の範囲から外れたときに第１の記憶手段に記憶されている最新の検査対象画像データをマスター画像データとして第２の記憶手段に記憶させるマスター画像データ更新手段とを備えることを特徴とする印刷絵柄検査装置。 （もっと読む）

【課題】 打ち抜き加工品の重なりが発生した場合や、打ち抜き加工品に除去残り或いはカス残りと呼ばれる欠陥が発生した場合でも、それらの不具合を検出することが可能な品質検査装置及び品質検査方法を提供する。
【解決手段】 打ち抜き加工品４０及びその近傍を撮像することにより得られた画像を基準画像と比較し、双方の画像が一致する場合には良、一致しない場合には不良と判定する検査手段８，９，１０を備える。検査手段８，９，１０は、打ち抜き加工品４０の近傍の画像については、打ち抜き加工品４０の画像よりも判定基準が甘い検査を行うか、又は、打ち抜き加工品４０における要部Ｒ１、Ｒ２の画像よりも判定基準が甘い検査を行う。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク検査の高精度化及び効率化を図る。
【解決手段】フォトマスクのパターン１ａと比較する検査データ４の段差４ａのコーナー４ｂ，４ｃに、それぞれ許容エリア５ｂ，５ｃを設定する。そして、許容エリア５ｂ，５ｃを用い、パターン１ａと検査データ４とのコーナー４ｂ，４ｃ付近での形状不一致が許容エリア５ｂ，５ｃ内であるか否かを判定する。許容エリア５ｂ，５ｃ内であれば、その形状不一致を擬似欠陥とする。これにより、擬似欠陥が精度良く判別され、検査過程で検出される擬似欠陥が低減されて、検査の高精度化及び効率化が図られる。また、フォトマスク形成条件や仕様の変更時には、検査データ４は変更せず、許容エリア５ｂ，５ｃの修正で対応可能になる。 （もっと読む）

【課題】欠陥画像がない場合又は欠陥画像が少数しかない場合でも、撮像された基板の検査対象画像から当該基板の欠陥を適切に分類する手段の提供。
【解決手段】欠陥分類装置２００は、設計手段２０１と診断手段２０２を有している。設計手段２０１ではモデル生成部２１３において、テンプレート記憶部２１２内の欠陥テンプレートと教示用画像を合成して欠陥モデルを生成する。第１の分類クラス設定部２１４では、欠陥モデルにおける欠陥の特徴量を算出し、欠陥の分類クラスを設定する。欠陥の特徴量と分類クラスとの関係は、記憶部２２０に記憶される。診断手段２０２では特徴量算出部２３２において、ウェハの検査対象画像から欠陥の特徴量を算出する。分類部２３３では、特徴量算出部２３２で算出された欠陥の特徴量に基づいて、記憶部２２０内の欠陥の特徴量と分類クラスとの関係から、ウェハの欠陥を分類クラスに分類する。 （もっと読む）

【課題】 製品の外観表面の欠陥を画像で検出する方法であって、製品の検査対象の輪郭線の形状が複雑であっても、輪郭線部分に存在する欠陥と、輪郭線部分以外に存在する欠陥を検出できると共に、欠陥の形状と大きさが正確に判り、且つ欠陥検出に要する計算負荷が軽い欠陥検出方法を提供すること。
【解決手段】被検査体の表面の欠陥を検出する方法であって、被検査体の画像を取込む画像取込手段１と、取込んだ画像を２値化して被検査画像３０を作成する２値化手段２と、被検査画像３０から検査対象３３を抽出する検査対象抽出手段３と、検査対象３３を処理して良品形状推定画像３０ｅを作成する良品形状画像作成手段４と、良品形状推定画像３０ｅと被検査画像３０とから検査画像４０を作成して輪郭線３５部分に存在する欠陥３１および輪郭線３５部分以外に存在する欠陥３２を検出する検出手段５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数はんだ箇所をグループ化し、そのグループにおける形状値を軸に許容値と工程指数との関係を可逆的に認識可能にし、許容値の変更があったときは次の１枚目の検査から反映することができる印刷はんだ検査装置を提供することである。
【解決手段】データ蓄積手段６に測定手段２で測定されたプリント基板の１枚毎に、形状データ生成手段３で生成されたハンダ量を表す複数種類の形状データをはんだ箇所に対応づけて蓄積し保存する。統計処理手段７が、プリント基板の１枚を測定する度に、操作手段により指定されたはんだ箇所のグループの、かつ種類の前記保存された形状データについて、少なくとも、標準偏差σを求めるとともに標準偏差値σと該当する前記許容データとから工程能力指数を求める演算を行う。表示制御手段８は、前記１枚毎に、更新された工程能力指数を表示手段９に表示させる構成とした。 （もっと読む）

【課題】液体が充填された透明な容器に混入した不透明な異物を検査する際、照明の不均一さや照射光の屈折による異物の誤検出を低減する画像処理方法を提供する。
【解決手段】検査する容器の原画像に対し平滑化などの雑音画像処理を施して擬似的な基準画像を取得し、その基準画像の輝度を基準として原画像との輝度差分を求め、差分画像を生成する。この差分画像を検査することにより、照明の不均一さや照射光の屈折により生じる画像の輝度変化の影響を回避し、誤検出を低減させる。 （もっと読む）

【課題】検査時間を増大することなく、方向性の無い高解像による試料検査を得ること。
【解決手段】パターンを有する試料と光源との間に偏光プリズムを配置し、試料の異なる領域の一方を偏光方向が直交する光の一方で照明し、異なる領域の他方を偏光方向が直交する光の他方で照明する照明光学系と、試料の異なる領域からのパターン像を別々に検出する複数の結像光学系と、別々に検出したパターン像について、基準画像と比較する比較部と、を備えるパターン検査装置、又は、照明光学系は、偏光プリズムの後段に配置された分割型１／２波長板を備え、試料の異なる領域の一方をＳ偏光の光で照明し、他方をＰ偏光の光で照明する、パターン検査装置。 （もっと読む）

【目的】より実画像に近い参照画像を生成可能なパターン検査を行う装置を提供することを目的とする。
【構成】パターン検査装置１００は、サンプル光学画像データをＮ倍の解像度に変換する倍率変換部５０と、サンプル光学画像データのＮ倍の解像度で対応する階調値を定義した設計画像データと所定の低域ろ過関数とを畳み込み積分するＬＰＦ５４と、この設計画像データと所定の光学モデル関数とを畳み込み積分するＰＳＦ５６と、これらの画像データを用いて光学モデル関数の係数を取得する係数取得部１４２と、パターン形成された被検査試料の実光学画像データを取得する光学画像取得部１５０と、係数を用いて、前記被検査試料の実光学画像データに対応する参照画像データを作成する参照回路１１２と、実光学画像データと参照画像データを比較する比較回路１０８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一時的に発生する測定画像の偽像を排除できるパターン検査を行うこと。
【解決手段】試料のパターンを測定して測定画像を生成する測定画像生成部と、測定画像と基準画像とを比較する比較部と、を備え、測定画像生成部は、２画素以上で構成されるラインセンサを２段以上用いた時間遅延積分センサを２個以上つなげた受光装置を有し、各時間遅延積分センサの画素について、異常な画素値を除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値の平均値と所定値の和を基準値とし、基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、又は、画素値と、全ての時間遅延積分センサの画素値の平均値との差の絶対値が基準値を超える画素値を異常な画素値として除いた画素値の平均値を測定画像とする、試料検査装置。 （もっと読む）

【課題】基板の欠陥検査を短時間で適切に行う。
【解決手段】ウェハを移動させながら、ウェハの各測定領域に対して異なる照度の照明を照らし（ステップＳ１）、各測定領域を撮像する（ステップＳ２）。撮像された各測定領域の画像に色むらが検出されない場合には、次のステップＳ３に進む。一方、色むらが検出される場合には、ウェハを回転させて色むらのない画像を取得する（ステップＳ２−１）。色むらのない各測定領域の画像からＲＧＢ表色系の基準輝度を求め（ステップＳ３）、各基準輝度と照度との関係をグラフ化する（ステップＳ４）。ＲＧＢ表色系のいずれかの基準輝度が予め定められた所定の輝度に達する照度を、最適照度と設定する（ステップＳ５）。最適照度の照明が照らされたウェハを撮像し、ウェハの欠陥を検査する（ステップＳ６）。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、同種画像間の画像認識に用いられるテンプレートと同等の情報を、設計データに基づいて形成されるテンプレートに付加することで、実画像を取得することなく、設計データに基づいてテンプレートを作成することのできる容易性の維持と、テンプレートと実画像の一致度を高めることによる画像認識技術性能向上の両立にある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、以下に設計データに基づいて、画像認識用のテンプレートを作成する際に、当該テンプレートによって特定される領域の材料情報に基づいて、当該テンプレート内の各位置の輝度情報を設定する方法，装置、及びプログラムを提案する。また、その一例として、材料の情報に加えて、上記領域上に配置されたパターンの大きさ，画像取得装置の装置条件，試料の層情報，パターンの線分情報の少なくとも１つの情報に基づいて、輝度レベルを設定する。 （もっと読む）