【課題】ガス原料流中の粒子を測定及び分析するためのシステム及びそれを含む方法の提供。
【解決手段】一つの側面において、システムは、並列に配置される粒子計数器と粒子捕捉フィルタとを含む。もう一つの側面において、システムは、ガス原料流から微量の分子状不純物を除去して不純物の存在を減らすための浄化装置を含む。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの表面汚染物質の分析をするため、フォトマスクを使うのでなく、フォトマスクの表面と同一の物質を形成した基材を捕集部に設けて、分析方法が固定・限定されずに、分析用気体から分子状化学汚染物質の捕集が選択的であり、経時的に汚染物質の捕集を行うことを可能とする汚染物分析用捕集装置を提供する。
【解決手段】分析用の気体中を経時的に吸引する吸引部と、分子状汚染物質を経時的に捕集する捕集部を備えた汚染物質分析用捕集装置であって、捕集部は、基材と、その表面に表面物質層を形成し、表面物質層は、所望の材料表面と同一物質からなること、及び捕集部が、汚染物質を選択的に捕集する手段を備え、その手段は、ペルチェ素子、又はランプヒータを用いて、表面物質層の表面を特定温度に加熱、又は冷却することにより、前記表面物質層の表面に汚染物質を選択的に捕集する汚染物分析用捕集装置である。 （もっと読む）

【課題】欠陥検査装置で特定された欠陥は、他の装置を用いて解析が行われる。他の装置での欠陥位置の特定は、ビットパターンがウエハ上に数百個配列されているような場合は手作業でカウントしなければならないため、非常に困難で欠陥位置の誤認識も招く。また欠陥位置の特定に時間がかかるので、欠陥の解析結果がでるまでに時間がかかる。つまり製造ラインへのフィードバックが遅れ、スループットを低下させている。
【解決手段】欠陥検査装置で検出された欠陥の周辺に、レジストを用いてマーキングを形成する。
【効果】欠陥検査装置で検出された欠陥を、解析装置で正確に簡便に特定することができるため、短時間で解析結果が得られる。そのため、製造ラインへのフィードバックが早くなり、歩留まりが向上し、コスト低減に繋がる。 （もっと読む）

【課題】試料ガスに含まれる微粒子を容易かつ高精度に分析するのに寄与できるガス置換方法を提供する。
【解決手段】多孔性隔壁２Ａにより囲まれたガス流路２ｃにおいて微粒子を含む試料ガスＧ１を流動させる。多孔性隔壁２Ａの周囲において置換ガスＧ２を試料ガスＧ１の流動方向と逆方向に流動させ、試料ガスＧ１と置換ガスＧ２との分圧差による拡散により、試料ガスＧ１を多孔性隔壁２Ａを介してガス流路２ｃ外に移動させると共に置換ガスＧ２を多孔性隔壁２Ａを介してガス流路２ｃ内に移動させる。ガス流路２ｃの出口２ｂから置換ガスＧ２を微粒子と共に流出させる。多孔性隔壁２Ａにより、ガス流路２ｃの内外圧力差による多孔性隔壁２Ａを介するガス移動を阻止する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、時間的な節約を提供できる、基板から微視的なサンプルを取り出すための方法を提供することである。
【解決手段】 本発明は、基板２から微視的なサンプル１を取り出すための方法を提供し、該方法は、サンプル１が基板２から切り出されるようにして、基板２がビーム４で照射される、切断処理を実行するステップと、サンプル１がプローブ３に付着される付着処理を実行するステップと、を含み、切断処理の継続期間の少なくとも一部期間で、切断処理が少なくとも2つのビーム４及び５によって同時に実行されることを特徴とする。
少なくとも２つのビームで切断を実行することによって、ビームを生成する手段に関する基板２の方位を変えることなく、サンプル１が抽出できる。２ビームの同時作用と、方位を一定に維持する可能性は、切断が単一ビームでのみ実行される方法と比較して、時間的な節約を提供する。 （もっと読む）

【課題】 電子線によるガスデポジション法で作製したものと同サイズ（ナノメートルオーダー）の微細構造を、位置とサイズを自由に制御しつつ、任意の材料、結晶性にて作製することができる新規な作製方法及び作製装置を提供する。
【解決手段】 マスクの原料となる元素を含んだガスを材料上に流しながら、電子線を材料上の所望位置に向かって照射してマスクを形成した後、エネルギービームを照射してマスクで被覆された部分以外の材料部分を取り除くことにより、材料に微細加工を行う。 （もっと読む）

基板検査装置を、基板を保持面で保持して回転させる基板回転機器と、ベースに回転自在に支持されたディスク本体と該ディスク本体の上側に固定され回転方向へ傾斜した傾斜面で構成されたカム面を形成する３個のリフトカムとを有するディスクと、基板を乗せる支持面を持ち上下方向に移動自在に案内されたリフタ本体と該リフター本本の下側へ突起して各々固定されたリフター従動節とを有するリフターと、を備え、前記リフ
ター従動節の下側が前記カム面に摺動自在に各々の接触点で当接し、前記接触点が前記傾斜面の上側に移動すると前記支持面が前記保持面よりも高くなる、ものとした。この構成により、測定精度をより向上させることのできる基板検査装置と基板検査方法、及び基板の外面に液滴を付着させて外面に沿って移動させるのに好適な基板検査装置と基板検査方法と回収治具とを提供できる。 （もっと読む）

好ましい実施形態では、本発明は、分子状汚染物質に敏感な半導体処理ツールおよび処理に使用される、反応ガス用のガスフィルタを提供する。本発明の反応ガスフィルタは、圧力低下が改善され、それぞれ約１０ｐｐｂｖ以下および約５ｐｐｂｖ以下の濃度のアンモニアおよび二酸化硫黄を有する入力ガスストリームに対して、それぞれ約１ｐｐｂｖ未満の濃度のアンモニアおよび二酸化硫黄を有する出力ガスストリームを供給することができる。本発明の一態様では、本発明は、約０．５リットル以下のフィルタ媒体容積を用いて、それぞれ約１０ｐｐｂｖ以下および約５ｐｐｂｖ以下の濃度のアンモニアおよび二酸化硫黄を有する入力ガスストリームに対して、それぞれ約１ｐｐｂｖ未満の濃度のアンモニアおよび二酸化硫黄を有する出力ガスストリームを供給することができる、圧力低下が改善された反応ガスフィルタを提供する。
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