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Fターム[2G052AC28]の内容

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Fターム[2G052AC28]に分類される特許

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【課題】稼働率が向上し、コスト低減が図れる試料作製装置を提供することを課題とする。
【解決手段】試料基板1が載置された真空室3と、試料基板1に集束イオンビームを照射して、試料片を切り出す集束イオンビーム照射手段7と、切り出された試料片を保持する試料ホルダ83と、試料ホルダ83が取り付けられ、試料ホルダ83を移動させるマニピュレータ13と、を有する試料作製装置において、試料ホルダ83は、マニピュレータ13と着脱可能であるように構成する。 (もっと読む)


【課題】簡単な機器構成及び操作で水溶性ガス中の不純物を、分析に適した状態に効率よくサンプリングすることができる方法を提供する。
【解決手段】水溶性ガスを捕集液中に流通させて水溶性ガスを加水分解させることにより微量不純物を捕集液中に捕捉する加水分解段階と、前記水溶性ガスが飽和状態となった捕集液中に継続して水溶性ガスを流通させ、水溶性ガスの過飽和状態で前記微量不純物を捕集液中に溶解させて捕捉する溶解段階とを行う。さらに、前記捕集液の温度を調節して前記水溶性ガスの飽和濃度を調節する。 (もっと読む)


【課題】筋引きの少ない良好な観察用断面を作製することができるとともに、スループットを向上させることが可能な集束イオンビーム装置、及び、良好な観察用断面を作製して、正確な観察像を得ることができる試料の断面加工・観察方法を提供する。
【解決手段】集束イオンビーム装置1は、試料Sを載置する試料台2と、試料台2を水平面上の二軸及び鉛直軸の三方向に移動させることが可能な三軸ステージ3と、試料Sに対して集束イオンビームI1、I2を照射する第一の集束イオンビーム鏡筒11及び第二の集束イオンビーム鏡筒12とを備え、第一の集束イオンビーム鏡筒11及び第二の集束イオンビーム鏡筒12は、互いの集束イオンビームI1、I2の照射方向が、平面視略対向するとともに、側方視鉛直軸に対して略線対称に傾斜するように配置されている (もっと読む)


【課題】 毒性ガスの影響によって故障を起こすことなく、微量なガスの存在を検知する装置を得ること。
【解決手段】 監視区域から空気をサンプリングするサンプリング管10と、そのサンプリング管10の基端側に設けられ、サンプリングされた空気をイオン化して質量分析する質量分析計MSとを備えたガス検出装置Gにおいて、質量分析計MSにより、空気中に漏洩した有毒性のガスを検知する。
サンプリング管10の基端側には、吸引用のオイルポンプ12が設けられ、サンプリングした空気中の有毒性のガスを、オイルポンプ12のオイルAで捕捉してから大気に排気する。 (もっと読む)


【課題】短時間で試料から微小片試料を切り出すことができる装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明によると、V溝の所望の深さから、実験式を用いて、加工時間が最小となるようにV溝の深さの設定値とV溝の幅の設定値を計算する。こうして求めた設定値によって、集束イオンビームによってV溝加工を行う。V溝加工のみから、試料表面より微小片を切り出す。試料表面に対して傾斜したイオンビームを用いる。 (もっと読む)


【課題】ホウ素化合物をポンプによる吸引等の操作を必要とせず簡便にしかも効率よく捕集することができるホウ素化合物捕集用パッシブサンプラー、および、それを用いて空間のホウ素化合物の量を評価する方法を提供すること。
【解決手段】N−メチルグルカミン基を官能基とする陰イオン交換樹脂、セルロース、高純度シリカおよびキサトン誘導体からなる吸着剤群から選ばれる少なくとも1種の吸着剤を表面に有する捕集材を備えることを特徴とするホウ素化合物捕集用パッシブサンプラー。 (もっと読む)


【課題】半導体用研磨スラリー中に含有される不純物粒子等の異物の検査を行い、その異物に関する情報を取得することができるスラリー中の異物の検査方法を提供する。
【解決手段】半導体用研磨スラリーを採取するサンプリング工程と、スラリー中に含まれる砥粒は通過させ、砥粒よりも大きな異物は捕捉することが可能である孔径を有したろ過膜に、サンプリング工程で採取したスラリーを通液し、ろ過するろ過工程と、ろ過工程で得られた、スラリーを通液したろ過膜の表面に存在する異物を検査する異物検査工程と、を有する異物検査方法。 (もっと読む)


【課題】 透過電子顕微鏡の観察に適した試料を作製することができる試料加工装置を提供する。
【解決手段】 遮蔽材支持手段をなす遮蔽材支持ステージ23aの基台100は、試料Sの加工面SAが上下に通過可能とされた切り欠き部100aを備える。基台100上には、供給ホイール101、一対の支持ホイール102、張力印加ホイール103、及び弾性部材105が設けられている。供給ホイール101から供給された長尺状(ワイヤ状)の遮蔽材Mは、一対の支持ホイール102の間で架橋されて支持され、この部分の遮蔽材Mが試料Sの加工面SAの上方に配置される。試料Sのエッチング加工時には、遮蔽材Mが加工面SAの近傍に介在された状態でイオンビームが照射されて行われる。このとき、張力印加ホイール103を介して弾性部材105により遮蔽材Mに所定の張力が印加される。遮蔽材Mの交換時には、供給ホイール101から自動的にイオンビームが未照射の遮蔽材Mが供給される。 (もっと読む)


【課題】フッ素ガス濃度計の応答性や安定性を向上させるとともに、フッ素ガス濃度の変化にも迅速に対応することができるフッ素ガス測定装置を提供する。
【解決手段】測定ガス導入経路12から導入された試料ガスのフッ素ガス濃度を測定する測定部11と、標準フッ素ガスを供給する標準フッ素ガス供給部21と、フッ素ガスを含まない不活性ガスを供給する不活性ガス供給部31と、標準フッ素ガス及び不活性ガスを圧力調整手段22,32及び流量調整手段23,33を介して導出し、両ガスを混合するガス混合部41と、測定ガス導入経路12を介して測定部11に導入するガスを、ガス混合部41で混合したフッ素含有混合ガスと試料ガス導入経路51から導入される試料ガスとのいずれかに切り換える測定ガス切換手段61とを備えている。 (もっと読む)


【課題】
測定対象表面に含まれる異物を正確に吸引抽出して測定することのできるプラズマ処理装置の表面異物検出技術を提供する。
【解決手段】
所定圧力のガスを測定対象物表面に断続して吹き付けるガスの吹き出し口2、および該ガスの吹き出し口から吹き出したガスにより放出された異物を吸引するガスの吸引口3を備えた測定子1と、前記ガスの吸引口から一定量のガスを連続して吸引する吸引ポンプを備え、該吸引ポンプで吸引したガスに含まれる異物の数を計数するパーティクルカウンタ6と、前記ガスの吹き出し口に所定圧力のガスを断続して供給する圧力調整ユニット4を備えた。 (もっと読む)


【課題】 最小限の機器を用いてコストの増大を抑えつつ、製造プロセスの圧力条件いかんにかかわらず最適な測定環境圧力のもとで高感度・高精度な分析を実現でき、かつ、分析計自体の耐久性向上も図れるようにする。
【解決手段】 減圧下の製造プロセスを経たプロセスガスを吸引し排気する排気系統2に介在される真空ポンプ3を、ガス排気方向に直列配置して各圧縮室6隔壁9で区画してなる複数段のルーツポンプ3A〜3Eから構成し、これら複数段のルーツポンプ3A〜3Eにおける圧縮室6の排気口の何れか一つに選択的に接続可能とした赤外線ガス分析計4によりガス成分を測定するように構成している。
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【課題】電子材料などのウェット洗浄工程で使用される炭酸ガス溶解水中の極微量の塩素イオン濃度を、正確に定量することができる炭酸ガス溶解水の評価方法及び炭酸ガス溶解水試料の採水装置を提供する。
【解決手段】超純水に炭酸ガスを溶解して調製した炭酸ガス溶解水を脱気処理したのち、炭酸ガス溶解水中の塩素イオンを定量することを特徴とする炭酸ガス溶解水の評価方法、及び、炭酸ガス溶解水を脱気処理する脱気装置、脱気処理した炭酸ガス溶解水の電気伝導率を測定する電気伝導率計又は電気伝導度計及び脱気処理した炭酸ガス溶解水を充填する採水容器を有することを特徴とする炭酸ガス溶解水試料の採水装置。 (もっと読む)


【課題】集束イオンビームで形成した試料面は平坦であり、走査電子顕微鏡での構造観察には適していなかった。
【解決手段】材料毎のスパッタイールド差を大きくするアシストガスを利用した集束イオンビームアシストエッチングにより、構造毎の微小凹凸を形成することで、走査電子顕微鏡観察に適した試料作製を実現する。 (もっと読む)


【課題】 試料ガス中の微量不純物の測定をリアルタイムで行なうことができ、さらに複数種類の試料ガスの分析を短周期の切替えで実施することが可能な微量不純物分析装置および微量不純物分析方法を提供する。
【解決手段】 複数種類の試料ガスに含まれる不純物成分を該試料ガス毎に検出するための微量不純物分析装置であって、該試料ガス毎に並列に配置された、試料ガス送入のための複数の送入経路と、該複数の送入経路が合流する導入経路と、該導入経路に接続された1または2以上のガス分析手段と、を含み、該複数の送入経路の各々に、少なくとも2つの開閉弁と、該2つの開閉弁の間の経路を減圧するための減圧手段とが設けられ、かつ、該ガス分析手段に導入する試料ガスの種類の切り替えを行なうことにより、1のガス分析手段に対して2以上の種類の該試料ガスが順次導入される微量不純物分析装置に関する。 (もっと読む)


【課題】気相分解−全反射蛍光X線法における分析精度、感度を高める。
【解決手段】複数の波長を用いた気相分解−全反射蛍光X線分析において、あらかじめ校正用試料の乾燥痕に対して求められた複数の内標準元素の定量値の相関関係である感度校正直線を利用することによって、被測定試料の乾燥痕中に添加される内部標準用元素を1種類とした場合においても、高い精度で被測定試料の乾燥痕中の元素の定量分析を可能とするものである。 (もっと読む)


【課題】 イオンビームにより試料体が切除されて観察断面が更新された際に、観察断面に対する電子ビームの焦点を合わせるようにする。
【解決手段】 試料体200にイオンビームIBを照射して観察断面202を形成するイオン銃102と、イオン銃102により形成された観察断面202に電子ビームEBを照射する電子銃104と、観察断面202と電子ビームEBの焦点との関係を調整する焦点調整部106と、イオン銃102のイオンビームIBの照射による試料体200の切除量に基づいて、焦点調整部106を制御する焦点制御部108と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】 基板製造時に、該基板が経由する局所的な空間の汚染状態を精度よく評価する方法を提供すること。
【解決手段】 基板製造工程において、該基板が経由する局所的空間にパッシブサンプラーを入れ、当該空間内の汚染物質を該パッシブサンプラー内の吸着剤に捕集し、次に、該吸着剤から吸着された汚染物質を脱離させ、脱離した汚染物質を分析することを特徴とする基板製造工程における局所空間の汚染状態の評価方法。 (もっと読む)


【課題】 エアの有機物含有量の測定過程で行われるテストウェハの膜厚変化の測定処理、エアの有機物含有量の算出、測定時に用いられたテストウェハの表面処理(有機物の除去)を自動で行うことのできる測定装置を提供する。
【解決手段】 測定装置1を、膜厚変化の測定を行うエリプソメトリ測定系と、有機物の除去を行うUV光照射系と、から構成する。該エリプソメトリ測定系は、光源8と、偏光レンズ9と、1/4波長板10と、焦点レンズ11と、偏光検出装置12と、受光素子13と、から構成される。また、該UV光照射系は、UVランプ15と、石英ガラス16と、から構成される。 (もっと読む)


【課題】 高純度液体試料の採取、移送時において、気圧変動や温度変動があっても試料中に外部からガス状不純物が混入することがない高純度液体の採取方法を提供する。
【解決手段】 高純度液体を試料容器に充填する充填段階、高純度液体試料を充填した試料容器をプラスチックコーティングまたはラミネートされたアルミニウム箔製の袋体に入れて密封する第1包装段階、さらにプラスチックフィルム製の袋に入れる第2包装段階、を含む操作を、同一清浄空気雰囲気下において連続的に行う。充填段階は、(A)外部から手が入る手袋、(B)高純度液体の流入管、開閉弁および採取口、(C)清浄ガスの流入口、(D)清浄ガスと高純度液体の排出口を備え、かつ排出管の端部が上部が開放された容器中の水に浸漬されて、排出ガスが水の中に放出されて外部に出るようにされた採取箱内中で行われるのがよい。 (もっと読む)


【課題】ウェハの表面近傍欠陥を容易に解析できる試料作製方法を提供する。
【解決手段】欠陥検出手段で検出した欠陥の位置座標を基準にして、その近傍にイオンビームなどによってマーキングし、試料を透過型電子顕微鏡で観察して、マーキングと欠陥との相対位置関係から、欠陥部を特定し、目的とする欠陥部を含む試料を確実に作製する。 (もっと読む)


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