電子ビーム１０６の強度を感知するための検出器及び方法が開示される。例示の検出器は、導電コア１１０と、導電コア１１０の上に形成された絶縁層１１２と、電圧電位に電気的に接続され、絶縁層１１２の上に形成された外側導電層１１４とを有する多層複合構造１０４を含む。支持体１１６が、電子ビーム発生器１０２とターゲット領域１０８との間で、電子ビーム発生器１０２によって発生される電子ビーム１０６の直接経路の内部で、電子ビーム発生器１０２と位置合わせして導電コア１１０を配置するように構成される。
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本発明は進路に沿って電子ビーム発生器により発生され、電子の出口窓（２４）を通して発生器から放出される電子ビームの強度を検出するセンサー（１０）に関するものである。本発明は、進路内に配置され、出口窓（２４）に対して露出された導体（２６）と、導体（２６）を遮蔽する絶縁ハウジング（２８）であり、出口窓（２４）と係合して前記出口窓（２４）のある室（３０）を形成している絶縁ハウジング（２８）とを含むこと、および導体（２６）が前記室（３０）内に配置されていることを特徴とする。本発明はまた、電子ビーム強度を検出するシステムにも関するものである。
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経路に沿って発生される電子ビーム１０６の強度を感知するための検出器１０４が開示される。例示の検出器は、電子ビーム１０６の経路内部に露出導体１０５を配置するように構成された支持体１１２に取り付けられた露出導体１０５と、露出導体１０５から隔離された接地導体１０７であって、少なくとも電子ビーム経路の方向に位置決めされた窓を有するプラズマ・シールドを形成するために露出導体１０５を部分的に取り囲む接地導体１０７とを含む。
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【課題】 大出力の放射光、エキシマレーザ光及びＸ線等の高エネルギービームの中心位置を高精度で測定することができ、長期間安定して動作すると共に、従来品よりも低コストで製造することができるビーム位置モニタ及びビーム位置測定方法を提供する。
【解決手段】 高抵抗ダイヤモンド層１の一方の面上に、複数の短冊状電極２ａからなる表面電極群２、低抵抗ダイヤモンドからなり各短冊状電極２ａの両端部に夫々接続された電流分配層３ａ及び３ｂ、電流分配層３ｂ及び３ｂの両端部に夫々接続された信号取り出し電極４ａ乃至４ｄを形成する。また、高抵抗ダイヤモンド層１の他方の面には、表面電極群２が形成されている領域の反対側の領域に裏面電極を形成する。そして、表面電極群２と裏面電極との間にバイアス電界を印加して検知部５で生成したキャリアを表面電極群２で補集し、電流分配層３ａ及び３ｂを経由して信号取り出し電極４ａ乃至４ｄから出力する。 （もっと読む）

【課題】 放射線等を検出する電極として用いられる金属線材が、撓み等で変形するのを防止することのできる金属線材固定用セラミック枠体を提供すること。
【解決手段】 金属線材固定用セラミック枠体は、中央部に両主面間を貫通する第一の貫通孔１ａが形成されるとともに、一方主面と第一の貫通孔１ａの開口との間に段差部１ｂが形成された第一のセラミック枠体１と、中央部に両主面間を貫通する第二の貫通孔２ａが形成されるとともに、他方主面の第二の貫通孔２ａの周囲に段差部１ｂに係合する凸部２ｂが形成された第二のセラミック枠体２と、第一のセラミック枠体の一方主面と第二のセラミック枠体の他方主面との間に配置されるとともに、第一の貫通孔１ａおよび第二の貫通孔２ａを横切るようにして配置され、両端部が段差部１ｂと凸部２ｃとに挟み込まれて固定された金属線材３とから成る。金属線材３に張力を加えて金属線材３を真直ぐに保持することができる。 （もっと読む）

【課題】伝送体を必要としないで、X線、ガンマー線、荷電粒子線のビームの形状測定及び放射線到達位置検出が可能となる。
【解決手段】放射線到達位置検出装置において、シンチレータを含有する発光部Ｈとレンズ部Ｌとを有し、該レンズ部は一方側にレンズ面を形成し、該発光部Hと該レンズ部Lとの体積は、該発光部Ｈの体積をＶ_Ｈとし、該レンズ部の体積をＶ_Ｌとしたとき、Ｖ_Ｈ>Ｖ_Ｌの関係に形成するとともに、該発光部Ｈと該レンズ部Ｌのレンズ面の反対側との間にくびれ部Ｒを形成し、該発光部Hの光軸とレンズ部Lの光軸が平行になるように放射装置を構成するとともに、該放射装置の複数個をレンズ面が平面上に並列するように配列したアレーを構成し、シンチレータの発光強度の空間分布をイメージとして測定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低コストであり省スペース且つ交換が容易な構成を有し、制御棒引抜に伴う局部出力の変化を測定し、制御棒の引抜を阻止することにより制御棒引抜による局部出力の上昇から燃料棒又は燃料集合体を保護可能な制御棒引抜監視装置を提供する。
【解決手段】原子炉圧力容器に格納された炉心からの、核分裂を調整するための制御棒の引き抜きを阻止するために、制御棒の引き抜きによる炉心の局部出力の変化を測定する制御棒引抜監視装置であって、核分裂に起因して発生するガンマ線が照射されることにより発光するシンチレータを内部に有する光ファイバを、原子炉圧力容器の内部における燃料棒の長手方向に沿って備え、シンチレータの発光出力に基づいて、炉心の局部出力を測定する出力測定部を、原子炉圧力容器の外部に備えてなる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置において、集束エレメントのアレイによってスポットのアレイに導入されるエラーを決定できるシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】放射線ビームの一部が通過する開口を有する放射線のビームのバリアと、開口を通過する放射線の強度と、開口に対して、放射線が放射線センサに入射するポイントの位置とを決定する放射線センサとを有する放射線ビーム検査デバイスを有するリソグラフィ装置。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームのｙ方向の角度偏差、発散角及びビーム寸法の内の少なくとも一つを簡単な構成によって計測する。
【解決手段】 前段シャッター駆動装置３６によって前段ビーム制限シャッター３２をｙ方向に駆動しつつ、シャッター３２の一辺３４の外側を通過して前段多点ファラデー２４に入射するイオンビーム４のビーム電流の変化を計測して、シャッター３２の位置でのイオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布を計測する。後段シャッター駆動装置４６によって後段ビーム制限シャッター４２をｙ方向に駆動しつつ、シャッター４２の一辺４４の外側を通過して後段多点ファラデー２８に入射するイオンビーム４のビーム電流の変化を計測して、シャッター４２の位置でのイオンビーム４のｙ方向のビーム電流密度分布を計測する。これらの計測結果を用いて、イオンビーム４のｙ方向の角度偏差、発散角及びビーム寸法の内の少なくとも一つを計測する。 （もっと読む）

対象から出る光およびガンマ線の両方を使用する対象の画像化において使用する装置（１）であって、対象から受信した光に応答して、対象の第１の画像（１０）の形成において使用する第１の信号（６）を生成する第１のセンサ手段（２）、および対象から受信したガンマ線に応答して、対象の第２の画像（１１）の形成において使用する第２の信号（７）を生成する第２のセンサ手段（３）を含み、第２のセンサ手段が、対象からのガンマ線であって、対象から第２のセンサ手段へと到達する前に第１のセンサ手段を通過したガンマ線を受信するように構成されている装置。
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【解決手段】トモグラフィックエネルギー分散型回折撮像装置は、支持体に設置された試料(４)に入射放射線(１、３)を当てるための放射線源と、入射の方向に対して所定の角度で試料(４)を通って伝達された放射線を検出するために設置された検出手段(９、10)とを具えている。検出手段は、エネルギー分散型検出器(９)のアレイとコリメータ(10)のアレイとを具え、各エネルギー分散型検出器(９)はそれに付随したそれぞれのコリメータ(10)を有する。コリメータアレイの各コリメータは、伝達された放射線の方向に沿って間隔が空けられ、中にアパーチャが形成された複数のコリメータ板を具えていてもよい。
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【課題】 欠損画素が連続して分布する場合であっても、欠損画素を補間して自然な光または放射線画像を取得することができる放射線撮像装置を提供する。
【解決手段】 ＦＰＤ４の撮像センサは、被検体Ｍを透過するＸ線を検出し、Ａ／Ｄ変換器９を介してＸ線検出信号を得る。画素乱数関連部１５は、補間の対象である補間画素の近傍に位置する、欠損画素以外の画素であって、出現し得る乱数と対応付けられた関連情報を作成し、選択部１７はこの関連情報を参照して、乱数発生器１９で発生した乱数に応じた画素を選択する。補間部２１は、選択部１７により選択された画素を用いて、補間画素を補間する。このように選択された画素によって、各欠損画素を補間画素として補間するので、欠損画素が連続して分布する場合も、補間するのに用いられる画素を散らすことができる。よって、自然な光または放射線画像を取得することができる。 （もっと読む）

【課題】強度としては弱いものの、物質透過性が高い水平ミュオンを用いて精度よく大型構造物の内部構造情報を得る方法を提供する。
【解決手段】大型構造物の測定対象部に対向する側方の有限間隔位置に位置敏感検出手段を配置し、位置敏感検出手段は、第１検出板と第２検出板とをもつ位置敏感検出器複合体を２基有し、前記位置敏感検出器複合体の間に鉄部材を配設し、前記測定対象部を貫通して第１位置敏感検出器複合体に到達する前方水平ミュオンが第２位置敏感検出器複合体に到達する際に、それぞれの到達位置をつないだ直線を逆にたどることで、前方水平ミュオンが貫通する前記測定対象部内の経路が特定され、前方水平ミュオンの強度と、第２位置敏感検出器複合体および金属部材を順次貫通して第１位置敏感検出器複合体に到達する後方水平ミュオンの強度の双方を同じ位置敏感検出手段で測定し、前方および後方水平ミュオンの強度比から大型構造物の内部構造情報を得ることを特徴とする。 （もっと読む）

加工物の表面に対するイオンビーム(110)の２つの入射角度を特定するためのシステム、装置、及び方法が提供される。第１センサ(202)及び第２センサ(204)を有する測定装置(104)は、移動機構(140)に結合されており、第１センサは移動方向に直交する第１方向に延在し、第２センサは第１センサに対して傾斜角を有して延在する。第１及び第２センサは、それぞれ対応する第１時刻及び第２時刻においてイオンビームを通過するときに、イオンビームの１つ又は複数の特性を検知する。コントローラ(106)は、第１時刻及び第２時刻に第１センサ及び第２センサにより検知されたイオンビームの１つ又は複数の特性に少なくとも部分的に基いて、イオンビームの入射に関する第１ビーム角度及び第２ビーム角度を特定するように動作可能である。
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【課題】フレーム数／ｓｅｃの小さいエリアセンサを用いても高速の画像取得を可能にする。
【解決手段】評価領域を複数の副視野に分割し、１次電子線を副視野に順次照射し、副視野毎に試料面の情報を含んだ２次電子を検出手段により検出することにより、評価領域の情報を得る電子線装置において、検出手段２６は、エリアセンサＣＣＤ１〜ＣＣＤ１４と、エリアセンサの検出面に一端が結合されたオプティカルファイバ束２５と、オプティカルファイバ束の他端に塗布され、副視野の２次電子線が結像されるシンチレータが形成されたＦＯＰとからなる単位検出器２４−１を複数備える。電磁偏向器により、電子線を照射する副視野が移る毎に、該副視野からの２次電子線を偏向して、単位検出器のＦＯＰ面上を移動させる。各単位検出器から、他の単位検出器の露光中に画像情報を取り出すことができるので、高速画像取得ができる。 （もっと読む）

【課題】 電子ビームの軌道の調整作業を容易化して調整精度を向上させると共に，装置の稼動中における電子ビームのずれを容易に検出すること。
【解決手段】 加速器Ｙ１から出射されたイオンビームＬのビーム電流を測定する分割電極１０或いはファラデーカップ２０等のビーム電流測定手段を試料分析装置の測定室７３ａに設け，このビーム電流測定手段によるビーム電流の測定値に基づいてイオンビームＬの軌道位置を検出する。これにより，測定されたビーム電流を電流計測器等でモニタリングしながらイオンビームＬの軌道調整を行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 放射線検出素子を用いた放射線入射位置検出装置において、入射位置を簡便に高精度に同定する。
【解決手段】 被検体３に対向し配置された半導体検出素子（放射線検出素子）４、半導体検出素子４表面（検出面）に配設された複数の抵抗配線に接続する前置増幅器群５、上記抵抗配線における電荷分割を通して検出面における位置同定をする第１の信号・演算処理部６、上記検出面に対して垂直方向の位置同定をする第２の信号・演算処理部７、および、第１の信号・演算処理部６と第２の信号・演算処理部７に基づき上記検出面における放射線入射位置を算出する入射位置演算部８を有している。 （もっと読む）

【構成】 正方形反対称均一冗長アレイ符号化アパーチャは、透明および不透明セルを含み、第１位置で正規マスクパターンを呈し、および第１位置から９０°回転位置のずれた第２位置で補完マスクパターンを呈する。符号化アパーチャは、ガンマ線またはＸ線等の非合焦性放射線源の撮像用のシステムに用いられる。撮像システムは、発生源から発生された放射線（２０）を受けて二位置で符号化陰影を発生する符号化アパーチャ（２２），符号化アパーチャを二位置間で回転させる回転プラットフォーム（２４）およびモータ（３０），それに当った陰影の符号化光信号を発生する位置検知検出器１０），光信号の符号化電機信号を発生する光信号変換器（３４），および電気信号を解読して非合焦性放射線源の画像信号を発生する信号処理器（１４）を含む。
【効果】 人間の放射線被爆に対する危険を最小限にしながら、ガンマ線発生源の画像表示することができる。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー放射線の飛来方向を広い範囲で検出することを目的とする。
【解決手段】センサーＡ(１)とセンサーＢ(２)とがＤ２の間隔で置かれている。さらに、コリメータＳ(３)がセンサーＡ(１)の上面にＤ１の間隔を保って、またコリメータＴ(４)がセンサーＢ(２)の下面にＤ１の間隔を保って置かれている。センサーの感光面とコリメータの開口は同じ寸法となっている。線源がＥ２の遠方向にあり、Ｅ２のベクトルにより放射線が来る場合、コリメータの影がセンサーＡ，Ｂ上に生ずる。コリメータの影の長さを測定することにより、線源の方向を求めることができる。
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【課題】 ナイフエッジ部材のエッジ部に理想応答からのずれが生じている場合においても、荷電粒子ビームの正確な評価を行う。
【解決手段】 荷電粒子ビーム１を、ナイフエッジ部材４のエッジ部４ｂを横切るように走査し、この走査に伴って検出された荷電粒子ビーム１の信号波形と、エッジ応答関数に基づいてモデル化された評価関数とのカーブフィッティングを行い、この結果に基づいて荷電粒子ビーム１の特徴量を測定する際に、当該評価関数は、エッジ位置の異なる２つのエッジ応答の和からなるエッジ応答関数に基づいてモデル化されている。よって、ナイフエッジ部材４のエッジ部４ｂに理想応答からのずれが生じている場合においても、荷電粒子ビーム１の正確な評価を行うことができる。 （もっと読む）