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Fターム[2G088FF14]の内容

放射線の測定 (34,480) | 測定量 (4,792) | 放射線ビーム (177) | ビーム分布、ビーム位置 (88)

Fターム[2G088FF14]に分類される特許

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【課題】従来のナイフエッジスキャン法よりも作製が容易な遮蔽板を用い、かつ、遮蔽板の位置調整をより簡便にした、簡便で信頼性の高いX線ビームの断面強度分布測定方法を提供すること。
【解決手段】反射体2は、面粗さRaがナノメータオーダである反射面3を有している必要があり、反射面3を入射X線ビーム1に対して全反射臨界角以下の角度ωだけ傾斜させて配置する。そうすると全反射であるため、反射X線ビーム6が反射体に侵入する侵入領域8の深さ、侵入深さδは数ナノメータとなり、したがって、通過X線ビーム7の遮蔽端のボケcも数ナノメータとなる。反射X線ビーム6の端のボケもほぼδであり同様である。よって反射体2を、矢印Aで示す入射X線ビーム1に直交する方向に移動させて通過X線ビーム7の強度を測定し、その変化を微分処理することにより、理想的なナイフエッジスキャンを行うことができる。 (もっと読む)


【課題】Heよりも重い入射イオンを用いて、1MeV以下の低い入射イオンエネルギーで、軽元素を対象として被測定物深さ方向の濃度分布を、高感度かつ高精度で計測できるイオンエネルギーの分光方法と装置を提供することである。
【解決手段】イオンビームを被測定物に照射して散乱または反跳されるイオンのエネルギースペクトルを偏向電磁石およびイオン検出器を用いて計測するイオンエネルギーの分光方法で、イオンビームが、分光対象とする元素よりも質量が大きい元素のイオンであり、偏向電磁石の出側に偏向電極を設けて、散乱または反跳されたイオンの軌道を曲げて分離し、かつイオン検出器の前面にイオン分離用薄膜を設けて、イオン検出器に入射するイオンを分離して選別するようにした。それにより、1MeV以下の低い入射イオンエネルギーの領域で、軽元素の濃度分布を高感度かつ高精度で計測することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】ラスタースキャニング法にあっても粒子線ビームのビーム位置を精度よく測定し且つビーム位置モニタの小型化或いは低コスト化が図れる粒子線治療装置用のビーム位置モニタ及び粒子線ビームのビーム位置測定方法を提供すること。
【解決手段】被検体10に対して照射される粒子線ビームが、停止照射点から次の停止照射点に走査されていない状態で生成される信号をタイミング信号として受信し、該タイミング信号を受信したタイミングで取得した収集電荷を用いてデジタル信号を生成する。このようにして生成したデジタル信号を用いて粒子線ビームのビーム位置を演算する。主な構成は、収集電荷に応じた電流出力をI/V変換して電圧信号を生成するI/V変換器501、生成した電圧信号をA/D変換してデジタル信号を生成するADC回路503、生成したデジタル信号を用いてビーム位置を演算するFPGA504、そして、タイミング信号を受信する線量満了信号送受信部505である。 (もっと読む)


【課題】 リボン状のイオンビームのX方向およびY方向における発散角を簡単な方法で測定する測定方法を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム測定方法は、イオンビーム2の一部を通過させる小孔62を有するマスク板60と、その下流側に設けられていて、前記小孔を通過したイオンビームを受けてそのビーム電流をそれぞれ検出する複数のビーム検出器12をX方向に有していて、Y方向に可動のビームモニタ10とを用いる。そして当該ビームモニタ10をY方向に移動させることによって、小孔62を通過したイオンビームのX方向およびY方向における中心位置x3 、y3 をそれぞれ測定し、その中心位置x3 、y3 とそれに対応する小孔62間のX方向およびY方向における距離L4 、L5 ならびにマスク板60とビームモニタ10間のZ方向における距離L3 に基づいて、小孔62を通過したイオンビームのX方向およびY方向における発散角αX 、αY をそれぞれ測定する。 (もっと読む)


【課題】少ない測定回数で、高精度な線量分布測定が可能な線量分布測定装置を提供する。
【解決手段】水タンク14内に照射される粒子線ビーム13の深さ方向の線量分布を計測するための線量分布測定装置において、複数のセンサ1〜10を、水中の仮想円筒形11の周囲に等角度間隔で、等間隔の深さとなる位置に配置し、1度の計測によって得る測定点をセンサ数に応じた数とする。仮想円筒形11の中心軸12に沿って照射される粒子線ビーム13が、一つのセンサに入射して散乱する影響を、他のセンサが受けないように、センサ深さに応じて、照射方向に垂直な面内でのセンサ間の距離を所定値以上確保する。センサ校正時は、センサ群20を同一深さに移動後、所定条件下での一度目の線量計測を行い、次に、Z軸12を中心として周方向に1間隔分回転させたセンサ配置で二度目の線量計測を行い、二度の測定結果を比較することでセンサ校正を行う。 (もっと読む)


【課題】複数の種類の粒子線を照射可能な粒子線照射システムにおいて、粒子線の照射位置を確認する手段を一種類の機器で提供する。
【解決手段】複数種の粒子線を生成する粒子線発生装置と、粒子線を照射対象に出射する照射装置と、照射装置から出射された粒子線に基づいて照射対象から発生するガンマ線を検出する複数のガンマ線検出器203a,203bと、ガンマ線検出器からのガンマ線検出信号が即発ガンマ線又は対消滅ガンマ線に起因するかを判別する信号処理装置209と、信号処理装置209で即発ガンマ線に起因すると判別された前記ガンマ線検出信号から前記粒子線の照射野を求め、前記対消滅ガンマ線に起因すると判別された前記ガンマ線検出信号から前記粒子線の照射野を求める照射野確認装置を備える。 (もっと読む)


【課題】十分高い検出感度を有する新規なピクセル型の放射線検出器、及びその製造方法を提供する。
【解決方法】絶縁部材の第1の面上に形成されるとともに、円形状の複数の開口部を有する第1の電極パターンと、前記絶縁部材の前記第1の面と相対向する第2の面上に形成されるとともに、前記絶縁部材を貫通し、前記第1の電極パターンの前記開口部の略中心部に先端が露出してなる凸状部を有する第2の電極パターンとを具え、前記第1の電極パターンと前記第2の電極パターンとは所定の電位差を有するように設定され、前記第1の電極パターンの前記開口部に露出した端部は、第1のはんだ材が被覆されて連続した第1の曲面を呈するようにして放射線検出器を構成する。 (もっと読む)


【課題】高精度、高再現性があり、大規模加速器における複数のビーム位置計測手段を設置する場合に、それぞれのビーム位置計測信号の同期を確保することができ、更に、人の判断と操作を不要とするビーム位置フィードバック制御装置を可能とした加速器のビーム位置計測装置を提供する。
【解決手段】位置センサ700に接続した位置信号処理回路701と、位置信号処理回路701の出力によりゲインを判定するゲイン判定手段702と、ゲイン判定手段702により位置信号処理回路701の出力の減衰量を切換える減衰量切換え手段703と、減衰量切換え手段703の出力を位置データに変換してプロセッサ706に入力にするアナログ信号入力手段704と、ゲイン判定手段702の選択信号を減衰量データとしてプロセッサ706に入力するデジタル入力手段705を備え、前記のアナログデータに対して、減衰量の補正をプロセッサ706で行う。 (もっと読む)


【課題】エミッタンス測定およびリボンビームの強度分布均一化を簡易な手段で実施できるようにする。
【解決手段】イオンビームIBの軌道上に設けられて、そのビーム強度分布を測定するビームプロファイルモニタと、イオンビームIBを挟んでx方向に対向配置され、互いの間でイオンビームIBを通過させる開口を形成する一対のビーム遮蔽部材6とを利用する。そして、ビーム遮蔽部材6の少なくとも一方を、y方向には隙間なく、かつ、x方向には独立して進退可能に設けられた複数の可動遮蔽板61からなるものとしたうえで、可動遮蔽板61の位置を調整して、対向するビーム遮蔽部材6との間に微小開口Pを形成し、微小開口Pを通過したイオンビームIBについての強度分布測定結果から、イオンビームIBのエミッタンスを算出するように構成した。 (もっと読む)


少なくとも即発ガンマ線および中性子を発生させる入射ハドロンビーム(10)による上記標的(20)の衝突における、上記標的(20)の領域(25)が受ける局所線量をリアルタイム測定する方法であって、上記標的(20)から放出される粒子は、上記標的(20)の上記領域(25)をコリメートすることによって、かつ上記標的(20)における測定される上記領域(25)から距離Lの位置に検出器(45)を配置することによって、測定される方法。上記検出器(45)は、粒子エネルギーおよび粒子飛行時間を測定する上記手段を有しており、上記検出器(45)が受けた即発ガンマ線の数は、記録された事象を選択することにより決定され、即発ガンマ線についての空間情報を提供するために、上記標的(20)よりも前の入射ハドロンビーム(10)中に配置されている、二方向性荷電粒子検出システムが、入射ハドロン(10)の横断位置を取得するように用いられる。
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【課題】高エネルギーから低エネルギーに至るまでの放射光ビームや、軟X線ビーム等をより効率的に可視光励起し、その位置及び強度分布を高精度で長期間安定して検出することが可能で、従来の検出装置よりも低コストで製造し得るビーム検出部材及びそれを用いたビーム検出器を提供する。
【解決手段】ビーム7の位置や強度を検出するためのビーム検出部材2であって、ビーム7が照射されるビーム照射部6が、ホウ素(B)を平均10〜150ppm含む多結晶ダイヤモンド膜4からなり、この多結晶ダイヤモンド4中のホウ素(B)濃度は、前記多結晶ダイヤモンド4の膜厚方向に不均一な濃度分布を持つ。この様なビーム検出部材2と励起された励起光8,8aを観測する励起光観測手段3,3aとによりビーム検出器1を構成する。 (もっと読む)


【課題】測定されるビームの状態をほとんど破壊することなく当該ビームの位置、分布および強度のうちの少なくとも一つを測定することのできるビームモニタセンサを提供する。
【解決手段】本発明に係るビームモニタセンサ1は、加速器から輸送されてくるビームを測定するために、前記ビームが輸送されるビームダクトD内に配置されるビームモニタセンサであって、前記ビームダクトD内の前記ビームの軌道O上に配置される薄膜体2と、前記薄膜体2上に形成された蛍光層3と、前記蛍光層3が形成されている面を撮影する、前記ビームの軌道O外に設けられた撮影カメラ4と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】基板間のケーブルおよびコネクタをなくすることのできる荷電粒子線の線量分布測定装置を提案する。
【解決手段】多層プリント基板は、第1配線層から第n配線層を有し、第1配線層が多層プリント基板の一表面に位置し、この第1配線層にA個の第1電極が形成され、これらの各第1電極と電離空間を介して対向する第2電極を有する第2電極基板が配置され、また、第n配線層は多層プリント基板の一表面と対向する他の表面に位置し、この第n配線層には、B個の切換スイッチと、少なくとも1つの増幅回路が配置され、各切換スイッチは、A/B=C個の第1電極のそれぞれを増幅回路に切換接続するように構成され、A個の第1電極を前記B個の切換スイッチに接続するA個の配線は、C本の配線を含むB個の配線組合せに分けられ、これらのB個の配線組合せが、第1配線層と第n配線層との間の複数の配線層に分散して配置される。 (もっと読む)


【課題】照射対象内の荷電粒子ビーム進行方向に垂直な方向おける線量分布を精度良く計測することができ、その結果、照射対象内の荷電粒子ビーム進行方向に垂直な方向の各位置における照射線量の制御精度を高めることができ、所望の線量分布を担保することができる荷電粒子ビーム照射システムを提供する。
【解決手段】二次元線量モニタ212と照射制御装置300を設け、線量カウンタ装置304aにより、二次元線量モニタ212のモニタ平面の領域毎に計測した線量をモニタ平面の領域毎に独立して積算してモニタ平面の領域毎に積算線量を計測する。また、比較部306により、モニタ平面の領域毎に計測した積算線量がモニタ平面の領域毎に予め設定した目標線量に到達するとビーム照射を停止する制御信号を出力し、目標線量に到達した領域へのビーム照射を停止させる。 (もっと読む)


【課題】
ワイヤースキャン法のバックグラウンドノイズと微分によってノイズが強調される問題点を克服し、より高精度なX線ビームプロファイル計測を行うことが可能なX線ナノビーム強度分布の精密測定方法及びその装置を提供する。
【解決手段】
X線ビームを横切るようにナイフエッジを走査するとともに、ナイフエッジの背後でX線源に対して幾何学的暗部となる位置に配置したX線検出器でX線強度を測定する暗視野計測法を用い、X線ビームの断面におけるX線強度分布を測定するX線ナノビーム強度分布の精密測定方法であって、ナイフエッジは、それを透過するX線の位相を進める作用を有する重金属で作製するとともに、透過X線と該ナイフエッジの先端で回折した回折X線とが強め合う範囲の位相シフトが得られる厚さに設定し、回折X線と透過X線とが重ね合わさったX線をX線検出器で測定する。 (もっと読む)


X線ビームの視準器に、自動光学アライメントを備えた光学アライメントの監視を組み合わせたX線光学アライメントのためのシステムを提供する。X線光学アライメントのためのシステム(10)である。該システムは、X線源(12)と、光学素子(22)と、視準素子(20)と、アラインメントセンサー(22)と、を含む。上記X線源は、前記光学素子によって試料に向かうX線ビーム(16)を生成する。上記視準素子は、前記X線ビームの断面を画定すべく、前記光学素子と、前記試料と、の間に配置される。前記複数のセンサーは、前記光学素子からのX線ビームを受け入れ、前記システムアラインメントを示す信号を生成する。また、前記複数のセンサーは、前記光学素子と対面する前記視準素子の表面(24)上に配置してもよい。前記センサーの内側端部は、該視準素子の周囲に等間隔に放射状に配置してもよいし、対称形状を有するアパーチャ(21)を形成してもよい。
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【課題】ワイヤーロッドをイオンビームの検出に用いることで、簡単な構成によって、容易かつ正確にイオンビームを評価することができるイオンビームの評価測定方法及びイオンビームの評価測定装置を実現する。
【解決手段】導電性のワイヤーロッド4は、全体形状は互いに直交する第1ロッド8及び第2ロッド9からL型に形成されており、該第1ロッド8を、該第1ロッド8に直交する第1の方向に移動して前記イオンビーム12を横切るように移動しながら、該ワイヤーロッド4を流れるビーム電流を測定することにより、イオンビーム12のビーム密度分布を検出し、同様に、第2ロッド9に直交する第2の方向に移動して前記イオンビーム12を横切ることでイオンビーム12の該第2の方向のビーム密度分布を測定する (もっと読む)


【課題】挿入光源の永久磁石列に接触する電子ビームのハロー部の強度を高い応答速度で高感度に検出することができる電子ビーム検出器を備えた挿入光源装置を提供する。
【解決手段】本発明の挿入光源装置は、ギャップ空間を介して対向配置された一対の永久磁石列を備え前記永久磁石列間に挿入された電子ビームに蛇行運動させることによってシンクロトロン光を発生させる挿入光源と、前記電子ビームの強度を検出する電子ビーム検出器を備え、前記電子ビーム検出器は、半導体板と、前記半導体板を挟んで配置され且つ前記電子ビームの入射側から見て互いに重なる重なり部分を有する第1及び第2電極を備え、前記重なり部分は、前記永久磁石列の前記ギャップ空間側の面を含む平面の近傍に配置されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
量子ビームの3次元的な測定を簡便に行うことができるビーム測定装置、及びビーム測定方法、及びそれを用いたポンプ・プローブ測定方法を提供する。
【解決手段】
本発明の一態様にかかるビーム測定装置100は、レーザ発振器11によって発振したパルスレーザ光の波長が時間に応じて変化するよう、パルスレーザ光のパルス波形を整形して出射する光源部10と、光源部10から出射したパルスレーザ光に対して入射位置に応じた時間遅延を与える遅延素子23と、パルスレーザ光を入射位置に応じて異なる偏光状態に変換する偏光変換素子24と、を有する入射光学系20と、入射位置に応じて異なる結晶軸を有する電気光学素子30と、パルスレーザ光から所定の偏光成分を取り出す偏光子46と、偏光子46で取り出されたパルスレーザ光のスペクトルを測定する分光測定器50と、を備えるものである。 (もっと読む)


【課題】 放射線源から発生してターゲットに送達されるハドロン・ビームをオンライン線量モニタリングするための装置および方法。
【解決手段】 この装置は、ハドロン・ビームの中心軸と直交するように配置され、ガス充填されたギャップによって互に隔てられて並列されて、電離箱の集合体を形成する複数の支持プレートを含む。それぞれの支持プレートは、第1の側に1つ以上の集電極を、第2の側に1つ以上の高圧電極を有する。上記複数の支持プレートは、それぞれの支持プレートの第1の側が隣接する支持プレートの第2の側と対向するように、配置される。それぞれの支持プレートは、ターゲットに送達されるハドロン・ビームの中心部分が妨げられずに通過することを可能にする内部キャビティを形成する開口と、複数の電離箱によってハドロン・ビームの周縁部分を遮り且つ測定するための周縁領域とを有する。 (もっと読む)


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